level alignmentとは 意味・読み方・使い方

When the completion of the sampling is determined in S9, an error level and a warning level are found from the image data when the completion of the alignment in S10.例文帳に追加

Ｓ９でサンプリングの終了が判定されると、Ｓ１０でアライメント完了時の画像データからエラーレベル及びワーニングレベルを求める。 - 特許庁

The alignment mark being used for optical alignment in a charged particle beam aligner is formed of a level-difference pattern divided into a plurality of level-difference patterns.例文帳に追加

荷電粒子線露光装置での光学アライメントに用いられる、段差パターンで形成されるアライメントマークであって、 前記段差パターンは、複数の段差パターンに分割されていることを特徴とするアライメントマークとした。 - 特許庁

Both conveyors 31, 32, 51 and 52 are so arranged that the transporting routes 51 and 52 of the downstream side color sorting conveyor exist at a level lower than the level of the transporting route of the upstream side alignment conveyor.例文帳に追加

上流側整列コンベヤ31，32の搬送経路より下流側色選別コンベヤの搬送経路51，52が低レベルとなるように両コンベヤ31，32，51，52を配置する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device wherein large deviation of an alignment direction due to level difference of a band-shaped electrode can be prevented when an alignment film is rubbed.例文帳に追加

配向膜をラビングするときに帯状電極の段差に起因して配向不良が大きくずれてしまうことを防止することのできる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a TFT substrate capable of suppressing alignment treatment unevenness caused by level difference by a wiring line, an electrode and the like, reducing generation of an alignment defect and shortening charging time.例文帳に追加

配線や電極等による段差に起因する配向処理むらを抑制し、配向不良の発生を低減でき、充電時間を短くできるＴＦＴ基板の提供。 - 特許庁

Thereby, the alignment defect and the occurrence of the filling line unevenness are prevented and the display quality level is improved.例文帳に追加

これにより、配向不良を防止すると共に、注入スジむらの発生を防止し、表示品位を向上させる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display for a VA (Vertical Alignment) mode which is less in color shift and high in the level of front contrast.例文帳に追加

カラーシフトが小さく、正面コントラストのレベルが高い、ＶＡモード用液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide the process of fabricating a semiconductor device which ensures planarization and alignment marker level difference reliably by forming the alignment marker level difference only once, by providing an optimal combination of the alignment marker level difference and the amount of polishing planarization and checking the amount of polishing required for planarization concretely and simply before polishing.例文帳に追加

アライメントマーカ段差と平坦化研磨量の最適な組み合わせを提供し、かつ平坦化に必要な研磨量を研磨前に具体的かつ簡便に確認することにより、アライメントマーカ段差の形成が１回のみで平坦化とアライメントマーカ段差の確保を確実に行うことができる半導体素子の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁