light quantity change methodとは 意味・読み方・使い方

To provide a method for monitoring the state of a pattern drawing apparatus, precisely discriminating a pattern change production place from the contrast caused by the difference in the quantity of diffracted light in a pattern having periodicity, and also monitoring the state of the pattern drawing apparatus by simply leading out the change production period of the pattern change production place.例文帳に追加

周期性のあるパターンにおいて、回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによってパターン描画装置の状態監視を実施できるパターン描画装置の状態監視方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stroboscopic light emission control method for making incident light quantity to an image pickup element coincident with an exposure level according to the distance to an object or the change of the reflectivity of the surface of the object by using a photometric sensor and an electronic still camera whose stroboscopic light emission can be controlled by this method.例文帳に追加

測光センサを用いて、被写体までの距離又は被写体表面の反射率の変化に合わせて、撮像素子への入射光量を露光レベルに一致させるストロボ発光制御方法、及び、その方法によりストロボの発光を制御できる電子スチルカメラを提供する。 - 特許庁

To provide an illumination optical apparatus for suppressing a loss of a quantity of illumination light caused by a change in an illumination condition, and to provide an aligner and a device manufacturing method.例文帳に追加

照明条件の変更による照明光の光量の損失を抑制できる照明光学装置、露光装置及びデバイス製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an image display device and an image display method which are capable of satisfactorily maintaining a hue of a display image even when the quantity of illuminating light is adjusted or gray scale range change processing is applied.例文帳に追加

照明光量を調整した場合、あるいは、階調レンジ変更処理を実施した場合であっても、表示画像の色合いを良好に維持できる画像表示装置および画像表示方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical disk cutting device and an optical disk manufacturing method for making out a high definition and accurate master optical disk by suppressing unnecessary components of deflection and unnecessary components of light quantity change.例文帳に追加

不要な偏向成分と不要な光量変化成分を抑圧して高精細で高精度な光ディスクの原盤を作成できる光ディスク・カッティング及び光ディスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method that reduces irradiation deformation due to exposure light of a resist mask using a resist as a light shielding body, that has little change particularly in exposure processing quantity (number of sheets) immediately after the start of using the mask, and that enables stably high dimensional accuracy to be obtained.例文帳に追加

レジストを遮光体としたレジストマスクの露光光による照射変形を低減し、特にマスク使用開始直後の露光処理量（枚数）に対する変化が少なく、安定して高い寸法精度を獲得する製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a projection type display device which can change the quantity of light illuminating an optical modulation means without changing light itself emitted from a lamp and has an excellent effect in respects of power of video expression and adaptability to environments for use and to provide its driving method.例文帳に追加

ランプが出射する光自体を変化させることなく光変調手段を照明する光の光量を変化させることができ、映像表現力や使用環境への順応性の面で優れた効果を発揮することのできる投射型表示装置とその駆動方法を提供すること。 - 特許庁

To provide s method and a device for testing paper capable of performing stable measurement and soundness determination even in the case that transmitted light quantity of the paper and illumination of light change due to the effect of disturbance when performing a 100% inspection for the quality of watermark image of the paper on which the watermark image is formed as code information on a paper machine.例文帳に追加

コード情報としてすかし画像が形成された用紙のすかし画像の品質の検査を抄紙機上で全数検査を行う際、外乱の影響により、用紙の透過光量や照明の照度が変化しても安定した測定及び良否判定が行える検査方法及び検査装置を提供する。 - 特許庁