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mg-pとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 マトリックスGlaタンパク質

「mg-p」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 170



例文

When the mass of the ion conductive substance is made I (mg) and the mass of the positive electrode layer 5 is made P (mg), 0.05P<I<10P is satisfied.例文帳に追加

このイオン伝導性物質の質量をI(mg)、正極層5の質量をP(mg)としたとき、0.05P<I<10Pを満たす。 - 特許庁

Cu-Mg-P COPPER ALLOY AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

Cu−Mg−P系銅合金およびその製造法 - 特許庁

In the formulae, Mg and P respectively express contents (ppm) as Mg atoms and P atoms of the Mg compound and the P compound to the polyester, and Mg/P is a ratio of the contents of the metal atoms.例文帳に追加

30.0 ≦ Mg ≦300.0 …(I)Mg/P ≦ 3.0 …(II)(式中、Mg、Pは基材中のMg化合物、P化合物のポリエステルに対するMg原子、P原子としての含有量(ppm)を示し、Mg/Pは上記それぞれの金属原子の含有量比を示す。) - 特許庁

Desirably, the mass ratio of Mg/P in the zinc phosphate film is ≥0.1%, and the content of Mg is20 mg/m^2.例文帳に追加

リン酸亜鉛皮膜中のMg/P(質量比)が0.1以上であり、Mg量が20mg/m^2以上であることが望ましい。 - 特許庁

The copper alloy bonding wire for a semiconductor device contains at least one kind of Mg and P in total of 10 to 700 mass ppm, and having a dense layer containing the total density of Mg and P of ten or more times the containing density on the surface of the wire.例文帳に追加

半導体装置用銅合金ボンディングワイヤは、Mg及びPの少なくとも1種を総計で10〜700質量ppmの含有濃度で含有し、ワイヤ表面にMg及びPの総計濃度が前記含有濃度の10倍以上である濃化層を有していることを特徴とする。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING Mg DOPED P-TYPE Si AND THERMOELECTRIC CONVERSION MATERIAL例文帳に追加

Mgドープp型Siの作製方法および熱電変換材料 - 特許庁

例文

Cu-Mg-P-BASED COPPER ALLOY BAR MATERIAL AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

Cu−Mg−P系銅合金条材及びその製造方法 - 特許庁

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ライフサイエンス辞書での「mg-p」の意味

遺伝子名称シソーラスでの「mg-p」の意味

MGP

human遺伝子名MGP
同義語(エイリアス)matrix Gla protein; Matrix Gla-protein precursor; NTI; MGLAP; GIG36
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:P08493
EntrezGeneのIDEntrezGene:4256
その他のDBのIDHGNC:7060
mouse遺伝子名MGP
同義語(エイリアス)matrix Gla protein; Mglap; Matrix Gla-protein precursor; Mgp
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:P19788
EntrezGeneのIDEntrezGene:17313
その他のDBのIDMGI:96976
rat遺伝子名MGP
同義語(エイリアス)matrix Gla protein; Mglap; Matrix Gla-protein precursor; Mgp
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:P08494
EntrezGeneのIDEntrezGene:25333
その他のDBのIDRGD:3088
zfish遺伝子名mgp
同義語(エイリアス)matrix Gla protein
SWISS-PROTのID---
EntrezGeneのIDEntrezGene:402937
その他のDBのIDZFIN:ZDB-GENE-060928-1

本文中に表示されているデータベースの説明

SWISS-PROT
スイスバイオインフォマティクス研究所欧州バイオインフォマティクス研究所によって開発運営されているタンパク質アミノ酸配列データベース
EntrezGene
NCBIによって運営されている遺伝子データベース染色体上の位置配列発現構造機能、ホモロジーデータなどが含まれている
HGNC
HUGO遺伝子命名法委員会により運営されるヒト遺伝子に関するデータベース
MGI
様々なプロジェクトによる研究マウス遺伝的生物学的なデータを提供するデータベース
RGD
ウィスコンシン医科大学により運営されるラット遺伝子ゲノム情報データベース
ZFIN
ゼブラフィッシュ遺伝子命名法委員会により運営されている研究用の淡水魚ゼブラフィッシュ遺伝子ゲノム情報データベース

「mg-p」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 170



例文

Two of the complementary color data C[Ye], C[Mg], C[Cy] are multiplied by multiplier circuits 23a-23c, root, extraction circuits 24a-24c calculate roots of products P[r], P[g], P[b].例文帳に追加

補色データC[Ye]、C[Mg]、C[Cy]の内の2つを乗算回路23a〜23cで乗算し、その積P[r]、P[g]、P[b]の平方根を開平回路24a〜24cで算出する。 - 特許庁

Moreover, an Mg dope InGaN (p-type GaN layer) 86 is grown.例文帳に追加

さらに、MgドープInGaN(p型GaN層)86を成長した。 - 特許庁

To prevent Mg in a p-type clad layer from diffusing into an active layer.例文帳に追加

p型クラッド層のMgが活性層に拡散するのを抑制すること。 - 特許庁

A semiconductor device has a p-type semiconductor region 24 of gallium nitride containing Mg (p-type impurity), an n-type semiconductor region 20 of gallium nitride on the under side of the region 24, and an impurity diffusion suppression region 22 provided between the p-type semiconductor region 24 and the n-type semiconductor region 20.例文帳に追加

Mg(p型不純物)を含む窒化ガリウムのp型半導体領域24と、窒化ガリウムのn型半導体下領域20と、p型半導体領域24とn型半導体下領域20との間に設けられている不純物拡散抑制領域22を備えている。 - 特許庁

Cu-Fe-P-Mg BASED COPPER ALLOY, ITS PRODUCTION METHOD, AND CONDUCTIVE COMPONENT例文帳に追加

Cu−Fe−P−Mg系銅合金および製造法並びに通電部品 - 特許庁

A p-type contact layer 7 of the film thickness of about 1,200made of an Mg doped p-type GaN is formed on the p-type cladding layer 6.例文帳に追加

p型クラッド層6の上にはMgドープのp型GaNから成る膜厚約1200Åのp型コンタクト層7が形成されている。 - 特許庁

The semiconductor-device copper-alloy bonding wire contains at least one kind of Mg and P in total of 10 to 700 mass ppm, and oxygen within a range from 6 to 30 mass ppm.例文帳に追加

半導体装置用銅合金ボンディングワイヤは、Mg及びPの少なくとも1種を総計で10〜700質量ppm、酸素を6〜30質量ppmの範囲で含有することを特徴とする。 - 特許庁

例文

Further, the p-type contact layer 7 with the film thickness of about 200 nm made of an Mg doped p-type In_0.03Ga_0.97N is formed on the p-type cladding layer 6.例文帳に追加

更に、p型クラッド層6の上にはMgドープのp型In_0.03Ga_0.97Nから成る膜厚約200nmのp型コンタクト層7が形成されている。 - 特許庁

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