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milling widthとは 意味・読み方・使い方
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「milling width」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 18件
Then, the cutting width of the writing magnetic pole part width is determined based on the monitoring information, the writing magnetic pole width is subjected to milling by the determined cutting width to define the writing magnetic pole width.例文帳に追加
そして、このモニタリング情報から前記書き込み磁極部幅の切削幅を決定し、この決定された切削幅分だけ前記書き込み磁極部幅をミリング処理し、前記書き込み磁極部幅を規定する。 - 特許庁
Also, the joist engraving of the beam can be machined by a milling cutter having a diameter equal to the width of the joist in one process.例文帳に追加
また梁の根太彫りは、根太の幅と等しい直径を有するフライスによって一工程で加工できる。 - 特許庁
Both side faces of the 2nd pole part 220 are then subjected to ion milling to obtain a track width W21 smaller than the track width W20 by photolithography.例文帳に追加
次に、第2のポール部220の両側面に対し、イオンミリングを施して、フォトリソグラフィによるトラック幅W20から更に縮小されたトラック幅W21を得る。 - 特許庁
The spin torque generator having a self-matching structure may be formed using the same ion milling process for demarcating the track width.例文帳に追加
トラック幅を画定する同じイオンミリング工程を用いて、自己整合構造を有するスピントルク発振器を形成してもよい。 - 特許庁
In the method for manufacturing the magnetic head by forming a hard mask on a magnetic material layer and forming the inverted-trapezoidal main magnetic pole by ion milling which is irradiation with ion beams from an oblique direction, the width (the width of the bottom) W and the side wall inclination α of the hard mask before the ion milling are measured.例文帳に追加
磁性材料層上にハードマスクを形成し、斜め方向からイオンビームを照射するイオンミリングで逆台形状の主磁極を形成する磁気ヘッドの製造方法に関し、イオンミリングの前のハードマスクの幅(底部の幅)W及び側壁傾斜角αを測定する。 - 特許庁
Fine milling was started using the 350 pA beam current to reduce the membrane thickness down to 0.3 μm over a considerably small width of 9 μm.発音を聞く 例文帳に追加
9μmというかなり小さな幅にわたって薄膜厚さを0.3μmまでに減らすために、微細ミリングが350pAの(イオン)ビーム電流を使って始められた。 - 科学技術論文動詞集
To provide a thin film magnetic head manufacturing method including milling processing for forming a trim-shaped writing magnetic pole part having a uniform magnetic pole width in a throat-height direction.例文帳に追加
スロートハイト方向において、均一な磁極幅を有するトリム状の書き込み磁極部を形成するミリング処理を含む薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁
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「milling width」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 18件
The movable side anti-slip plate is disposed at one end freely slidable on the plate 21 and fixed at the other end to a movable side width regulating plate 32b of a milling treating unit.例文帳に追加
可動側滑り防止板27は、一端はレベル板21上で自由にスライドできるように配置されており、他端はミ−リング処理部の可動側幅調整板32bに固定されている。 - 特許庁
Then, a beam irradiation angle θ when performing the ion milling of the magnetic material layer is determined according to the etching amount (shifting amount S) in the width direction of the hard mask and the side wall inclination α of the hard mask.例文帳に追加
そして、磁性材料層をイオンミリングする際のビーム照射角θを、ハードマスクの幅方向のエッチング量(シフト量S)と、ハードマスクの側壁傾斜角αとに応じて決定する。 - 特許庁
Then, the frame is removed and, further, the unnecessary part of the substrate film 21 other than a part present blow the track width defining layer 12a is removed by using dry etching such as ion milling.例文帳に追加
次に、フレームを除去し、更に、下地膜21のうち、トラック幅規定層12aの下に存在する部分以外の不要な部分をイオンミリング等のドライエッチングを用いて除去する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing by roll milling a sheet-like laundry item comprising a dough-like laundry item composition having uniformity in thickness and width while maintaining excellent solubility when used.例文帳に追加
ドウ状洗濯用品組成物からなるシート状洗濯用品を、均一な厚さ及び幅で、且つ使用時の優れた溶解性を保持しつつ、ロール圧延によって製造し得る方法を提供すること。 - 特許庁
To manufacture a thin film head having a superior recording property with a sufficient yield by allowing the accurate control of a width of write core in the manner of preventing the fluctuation or variance of the width of write core when a static-proof conductive film formed on a wafer is removed by an ion milling.例文帳に追加
ウェハーに形成されている帯電防止用の導電膜をイオンミリングによって除去する際に、ライトコア幅が変動したりばらついたりすることを防止して、精度よくライトコア幅を制御することを可能にし、優れた記録特性を有する薄膜ヘッドを歩留まりよく製造すること。 - 特許庁
The maximum opening width L2 to hold the machining material 10 by the holding members 12, 14 is therefore enlarged compared to conventional devices, so even the machining material 10 longer than the maximum opening width between the holding parts 24, 28 can be easily and speedily positioned to a table 66 of a milling machine 64, thereby machining work can be smoothly conducted.例文帳に追加
従って、挟持部材12,14により加工素材10を挟持する最大口幅L2が従来より拡大するので、挟持部24,28間の最大口幅よりも長い加工素材であっても、フライス盤64のテーブル66への位置決めする作業が容易かつ迅速になり、加工作業がスムーズに行なえる。 - 特許庁
Coatings 17a and 17b on excess plane parts are removed by ion milling, and the coating 18 is adjusted in prescribed track width, and then the yoke part of the upper magnetic film is formed so as to be integrated with an upper pole part 20 on the conductive coil and the insulating films by electric plating.例文帳に追加
イオンミリングにより余分な平面部分の被膜17a、bを除去し、かつ被膜18を所定のトラック幅に調整した後、導体コイル及び絶縁層の上に上部磁性膜のヨーク部分を電気めっきにより、上ポール部分20と一体に形成する。 - 特許庁
The obtained composition for abrasive pads is mold-pressed to yield a disc body having a diameter of 30 cm and a thickness of 3 mm, the surface of the disc body is subjected to cutting and flattening by a milling machine, and grooves having a depth of 1 mm and a width of 1 mm are formed in 6.5 mm intervals to obtain the abrasive pad.例文帳に追加
得られた研磨パッド用組成物をモールドプレスし、直径30cm、厚さ3mmの円盤体を得、フライス盤により円盤体の表面に切削平坦化加工を施し、更に深さ1mm、幅1mmの溝を、間隔が6.5mmとなるように形成して研磨パッドを得る。 - 特許庁
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