n atmosphereとは 意味・読み方・使い方

The manufacturing method comprises preparing an alloy material containing the ThMn_12 type crystal phase, and heating and keeping the alloy material under a pressurized atmosphere containing N to nitride it.例文帳に追加

ＴｈＭｎ_12型結晶相を含む合金素材を作製し、Ｎを含む加圧雰囲気下において合金素材を加熱保持する窒化処理を施す。 - 特許庁

The n-type conductive film and the p-type conductive film are formed by rapidly heating the organic zinc oxide film in a predetermined atmosphere.例文帳に追加

前記有機酸化亜鉛膜を、所定の雰囲気中で急速に加熱することによりｎ型導電膜およびｐ型導電膜を形成する方法。 - 特許庁

An N-purging box 100 has shutters 120, 122 for making a low- oxygen concn. atmosphere in the interior.例文帳に追加

窒素パージボックス１００は、シャッタ１２０，１２２を備えており、内部が低酸素濃度雰囲気とされる。 - 特許庁

When the n-side electrode is provided on the n-type conductive substrate, first of all, the n-type conductive substrate is irradiated with plasma in an atmosphere of a chlorine-based compound gas containing Si to form an ion irradiation layer on the n-type conductive substrate (an irradiation step, a step S52).例文帳に追加

ｎ側電極をｎ型導電性基板上に設けるときには、まず、ｎ型導電性基板にＳｉを含む塩素系化合物ガスの雰囲気中でプラズマ照射してｎ型導電性基板にイオン照射層を形成する（照射工程、ステップＳ５２）。 - 特許庁

The heat treatment is conducted under the non-oxidizing and non-nitriding atmosphere, and at this time the heat treatment is conducted under the atmosphere of dopant being mixed so that the n-type drift region 2 can be kept at the desired density.例文帳に追加

この熱処理は、非酸化性かつ非窒化性雰囲気下で行うが、このとき、ｎ型ドリフト領域２が所望の濃度に維持されるように、ドーパントが混入された雰囲気下にて、熱処理する。 - 特許庁

The atmosphere to come into contact with a blue light-emitting phosphor constituting a phosphor particle layer 3 contains argon (Ar) and neon (Ne), and when the mole fraction of argon (Ar) is made A, and the mole fraction of neon is made N, the atmosphere is made that A/(A+N)≥0.04 is obtained.例文帳に追加

蛍光体粒子層３を構成する青色発光蛍光体に接する雰囲気を、アルゴン（Ａｒ）とネオン（Ｎｅ）とを含み、かつ、アルゴン（Ａｒ）のモル分率をＡとし、ネオンのモル分率をＮとすると、Ａ／（Ａ＋Ｎ）≧０．０４となる雰囲気とする。 - 特許庁

A photocatalyst substance film 12 comprising Sn-O-N and Zn-O-N is formed on a base 10 by means of sputtering using SnO2 and ZnO as a target in nitrogen atmosphere.例文帳に追加

基板１０上に、窒素雰囲気におけるＳｎＯ_2やＺｎＯをターゲットとしたスパッタリングにより、Ｓｎ−Ｏ−ＮやＺｎ−Ｏ−Ｎからなる光触媒物質膜１２を形成する。 - 特許庁

Here, Martens hardness of the first buffer layer itself measured under an atmosphere of 20°C and 50% relative humidity is set up to be 0.1-70 N/mm^2, and Martens hardness of the second buffer layer itself is set up to be 100-500 N/mm^2.例文帳に追加

そして、２０℃、５０％相対湿度の雰囲気下で測定した第１緩衝層単独のマルテンス硬度が０．１〜７０Ｎ／ｍｍ^２、第２緩衝層単独のマルテンス硬度が１００〜５００Ｎ／ｍｍ^２に設定されている。 - 特許庁