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nitridation processとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 窒化過程; 窒化プロセス


JST科学技術用語日英対訳辞書での「nitridation process」の意味

nitridation process


「nitridation process」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 10



例文

The hardened shell 20 is made harder than silicon of a base part by plasma carburization and/or plasma nitridation process.例文帳に追加

硬化外殻20は、プラズマ浸炭処理および/またはプラズマ窒化処理によって、基礎部分のシリコンよりも硬化される。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for a plasma nitridation process that does not cause excessive damage of a silicon dioxide layer and a silicon substrate with nitrogen ions.例文帳に追加

二酸化シリコン層及びシリコン基板を窒素イオンで過剰にダメージを生じさせることのないプラズマ窒化プロセスのための方法及び装置を提供する。 - 特許庁

This method is characterized by conducting a nitridation process of heating a carbon nanotube in the presence of a nitrogen-containing compound at a temperature enough for introducing a nitrogenous component into the carbon nanotube.例文帳に追加

カーボンナノチューブを、窒素含有化合物を存在させつつ、前記カーボンナノチューブ内に窒素成分を含有させることのできる温度で加熱して窒素化処理を施すことを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing the nitridation-treated steel comprises a process where the plastic-worked steel is nitrided at a nitriding temperature of 655 to 665°C in a gaseous mixture atmosphere having a gaseous ammonia content of 38 to <90%.例文帳に追加

塑性加工が施された鋼材を、アンモニアガスの含有量が、38%以上、90%未満である混合ガス雰囲気下、655℃以上、665℃以下の窒化温度で窒化する窒化処理工程を有する窒化処理鋼材の製造方法。 - 特許庁

Because the method has a process S1 of forming a raw material mixture by mixing an aluminum-containing raw material which contains a hydrolyzable aluminum compound, a carbon-containing material and water and a process S2 of carbonizing and nitridation-reducing a precursor contained in the raw material mixture mixed in the process S1, aluminum nitride is produced as finely pulverized powder.例文帳に追加

加水分解型のアルミニウム化合物を含むアルミニウム含有原料と、炭素含有原料と、水とを混合して原料混合物を生成する工程S1と、工程S1で混合された原料混合物に含まれる前駆体を炭化及び窒化還元処理する工程S2とを有することにより、窒化アルミニウムが微細化された粉体として取り出される。 - 特許庁

In the plasma nitriding processing apparatus that nitrides a substrate having an insulating film, the wafer temperature is in-process monitored before starting the plasma nitiding processing, and the plasma nitriding time or process pressure is controlled by feeding the monitored value of the wafer temperature back to a CPU to enhance the uniformity of the nitridation quantities among the wafers.例文帳に追加

絶縁膜を有する基板を窒化するプラズマ窒化処理装置において、プラズマ窒化処理を開始する前にウェハ温度をインプロセスで計測し、該ウェハ温度の計測値をCPUにフィードバックしてプラズマ窒化時間またはプロセス圧力を制御することにより、ウェハ間の窒化量の均一性を向上することができる。 - 特許庁

例文

To provide a method of forming a tunnel insulation film of a flash memory device that can improve leak current property and insulation breakdown voltage property or the like by suppressing boron impregnation by forming a silicon oxinitride film (SiON) through a process of forming the tunnel insulation film including a plasma nitridation process at a temperature higher than 800°C to reduce trap sites.例文帳に追加

800℃以上の高温のプラズマ窒化処理工程を含んでトンネル絶縁膜を形成することにより、トラップサイト(trap site)を減少させ、シリコン酸化窒化膜(SiON)の形成によってホウ素浸透を抑制して漏れ電流および絶縁破壊電圧特性などを改善することが可能なフラッシュメモリ素子のトンネル絶縁膜形成方法の提供。 - 特許庁

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「nitridation process」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 10



例文

The process for producing the aluminum nitride containing material includes a first heat treatment step where a catalyst element having a smaller free energy of formation of nitride than that of aluminum is positioned in molten aluminum heated in a nitrogen atmosphere to cause nitridation using the catalyst element as a catalyst and form a material containing aluminum nitride.例文帳に追加

本発明に係る窒化アルミニウム含有物の製造方法は、窒化物の生成自由エネルギーがアルミニウムより小さい元素である触媒元素を、窒素雰囲気下で加熱された溶融アルミニウム中に位置させることにより、触媒元素を触媒とした窒化反応を生じさせ、窒化アルミニウムを含有する窒化アルミニウム含有物を生成する第1熱処理工程を具備する。 - 特許庁

The method includes: a step of forming an oxide film on a semiconductor substrate; a step of forming a nitrogen containing insulation film on the oxide film by the plasma nitridation process at a temperature between 800 to 900°C; and a step of forming a nitrogen storing layer at the interface between the semiconductor substrate and the oxide film formed with the nitrogen containing insulation film.例文帳に追加

半導体基板上に酸化膜を形成する段階と、800〜900℃のプラズマ窒化処理工程によって前記酸化膜の表面に窒素含有絶縁膜を形成する段階と、前記半導体基板と前記窒素含有絶縁膜の形成された前記酸化膜との界面に窒素蓄積層を形成する段階とを含む、フラッシュメモリ素子のトンネル絶縁膜形成方法を提供する。 - 特許庁

例文

The surface nitriding treatment method of the steel material using the molten salt electrochemical process is provided by which a nitride layer materializing increased hardness and wear resistance of the steel material surface and having excellent corrosion resistance is formed by using a low melting point alkali halide for an electrolytic bath and enabling nitridation to be performed at a low temperature region of preferably ≤415°C, more preferably ≤315°C.例文帳に追加

溶融塩電気化学プロセスを用いた鋼材の表面窒化処理方法において、電解浴に低融点のアルカリハライドを使用し、好ましくは415℃以下、より好ましくは315℃以下の低温領域での窒化処理を可能化することにより、鋼材表面の硬度アップ、耐磨耗性向上等を実現しながら、耐食性に優れた窒化物層を形成することができる鋼材の表面窒化処理方法を提供する。 - 特許庁

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