parallel immersionとは 意味・読み方・使い方

For example, in the immersion lithography device in which the immersion liquid is supplied to a local space, parallel plates for dividing the space into two portions include a plate 24 having an aperture capable of transmitting the pattern onto the substrate.例文帳に追加

例えば局所的空間に液浸液が供給される液浸リソグラフィ装置において、空間を２つの部分に分割するための平行のプレートであって、前記基板上への前記パターンの透過を可能にするアパーチャを有しているプレート２４が提供される。 - 特許庁

To provide a liquid immersion type projection optical system capable of changing plane parallel plates in a liquid, without substantially causing a reduction in the performance of image formation, while ensuring fully high resistance to laser of a border lens.例文帳に追加

境界レンズの十分に高いレーザ耐性を確保しつつ、結像性能の低下を実質的に招くことなく液中平行平面板を交換することのできる液浸型の投影光学系。 - 特許庁

In order to decrease crossing of the edge of a substrate for forming an image (which may cause inclusion of bubbles in immersion liquid), cross-sectional area of the space is minimized in a plane parallel with the substrate.例文帳に追加

像形成される基板の縁部の横断（これは浸液中の気泡の含有をもたらす場合がある）を減少するために、基板に平行な平面内での空間の断面積ができる限り小さくされる。 - 特許庁

A sectional area of the space 10 in a plane parallel to the substrate W is minimized to reduce a traverse of a rim of the substrate W whose image is to be formed (which sometimes brings a content of bubbles in the immersion liquid).例文帳に追加

像形成される基板Ｗの縁部の横断（これは浸液中の気泡の含有をもたらす場合がある）を減少するために、基板Ｗに平行な平面内での空間１０の断面積ができる限り小さくされる。 - 特許庁

To provide a method for simultaneously carrying out, in high efficiency, both immersion treatment and liquid draining treatment parallel to each other in one liquid tank and for preventing the scattering of treating liquid and flying-out of a material to be treated and also to provide simultaneous treatment equipment therefor.例文帳に追加

浸漬処理と液切り処理の両方を１つの液槽内で同時に平行して、効率よく処理すると共に、処理液の飛散や処理物の飛び出しをない方法、及びそのための同時処理装置を提供する。 - 特許庁

A liquid supply device has: a turning arm 124 turning around an axis parallel with the optical axis of the immersion objective 113; a nozzle 125 fixed on the turning arm 124; and a cam member 130 provided at a focusing part 114.例文帳に追加

液体供給装置は、液浸対物レンズ１１３の光軸に平行な軸周りに回動する回動アーム１２４と、回動アーム１２４に固定されたノズル１２５と、準焦部１１４に設けられたカム部材１３０とを有している。 - 特許庁

In other words, the substrate W is cleaned by arranging the holder 50 in the immersion tank 2 so that the main surface of the substrate W becomes parallel to the flow direction of the cleaning liquid L while forcing a part of the cleaning liquid L flowing on the upstream side of the holder 50 to form a turbulent flow.例文帳に追加

このとき、基板Ｗの主面が洗浄液Ｌの流れる方向と平行となるように浸漬槽２内にホルダ５０を配置して、このホルダ５０よりも上流側を流れる洗浄液Ｌの一部に乱流を発生させながら、基板Ｗの洗浄を行う。 - 特許庁

In a continuous casting apparatus provided with an electromagnetic stirring device 5, a horizontal cross-sectional shape in the lower range including at least the meniscus M of an immersion nozzle 6 dipped into the mold 3 is made flat so that the cross-sectional shape is elongated in the direction parallel to the long sides 3a of the mold 3.例文帳に追加

電磁撹拌装置５を備えた連続鋳造装置において、モールド３内に浸漬される浸漬ノズル６の少なくともメニスカスＭを含む下部領域の水平断面形状をモールド３の長辺３ａと平行する方向に長い扁平形状としたことを特徴とする。 - 特許庁