patters onとは 意味・読み方・使い方

To provide a method for manufacturing wiring circuit boards for forming fine wiring patters by forming bumps on vias.例文帳に追加

ビア上にはんだバンプを形成でき、しかもファインな配線パターンを形成できる配線回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Code patters on the back faces of the play cards for use in the playing field 4 are read, recognized and associated with the respective seats.例文帳に追加

プレイフィールド４で用いられるプレイ用カード裏面のコードパターンは読み込まれ認識され、各シートに対し対応付けられる。 - 特許庁

The combination creation device extracts the optimum combination from all the combination patters based on the goodness indexes showing goodness of a combination.例文帳に追加

また、前記組み合わせ作成装置は前記組み合わせの良さを表す指標に基づいて前記全組み合わせパターンから最適な組み合わせを抽出する。 - 特許庁

To provide a method capable of simply producing a cylindrical cushion layer in a short time, on which continuous patters can be printed.例文帳に追加

連続図柄が印刷可能な円筒状クッション層を、短時間で簡便に作製することができる方法の提供。 - 特許庁

The multi layer circuit board includes insulation boards each having layers and wiring patterns formed and stacked on each layer; and veer electrodes connecting in series the wiring patterns formed in each of the layers, in which one of the veer electrodes is formed as a veer group including a plurality of veer units which connect the wiring patters formed on one layer to the wiring patters on another layer.例文帳に追加

本発明の一実施形態の多層回路基板は各層に配線パターンが形成されて積層される絶縁基板と、上記各層に形成された配線パターンを直列連結するビア電極を含み、上記１つのビア電極は一層に形成された配線パターンと異なる層に形成された配線パターンを並列接続する複数の単位ビアで構成されたビア束で形成される。 - 特許庁

This image forming device is let dispose a notch part 5k on a passing position of detecting patterns on the attracting rollers 5, so that the toner of the detection patters for the resist/density forming on a transporting belt 1 of the attracting rollers 5 is, prevented from being brought into direct contact with the absorption roller 5.例文帳に追加

搬送ベルト１上に形成するレジスト・濃度用検知パターンのトナーが吸着ローラ５と直接接触しないように、吸着ローラ５における検知パターンの通過位置に切り欠き部５ｋを設ける。 - 特許庁

Imaging positions on a substrate, at which the images of sample patters S(1), S(2) to S(m) are formed, are measured to calculate every shift amount Px(1), Px(2) to Px(m) of the imaging positions of the sample patterns based on their ideal imaging positions, respectively.例文帳に追加

基板上に結像されたサンプルパターンＳ（１），Ｓ（２），…Ｓ（ｍ）の結像位置を測定し、各パターンについて、理想的な結像位置とのずれ量Ｐｘ（１），Ｐｘ（２）、…Ｐｘ（ｍ）を算出する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining device in which a plurality of divided mask patters are simultaneously projected upon a work and machining for different depths in a plurality of areas on the work are simultaneously performed.例文帳に追加

被加工物上に複数の分割されたマスクパターンを同時に投影したり、被加工物上の複数のエリアにおいて深度の異なる加工を同時に行うことができるレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁