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r-plとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 放射線フォトルミネセンス

コンピューター用語辞典での「r-pl」の意味

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「r-pl」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 36



例文

The projection optical system (PL) forms an image on a first surface (R) on a second surface (W).例文帳に追加

第1面(R)の像を第2面(W)上に形成する投影光学系(PL)。 - 特許庁

Thus, almost the entire polysilicon layer PL is inserted in the power source line 9 as the power source resistor R.例文帳に追加

これにより、ポリシリコン層PLのほぼ全部が電源抵抗Rとして電源線9に挿入される。 - 特許庁

Thus, almost a half of the polysilicon layer PL is inserted in the power source line 9 as a power source resistor R.例文帳に追加

これにより、ポリシリコン層PLのほぼ半分が電源抵抗Rとして電源線9に挿入される。 - 特許庁

The image formation optical system (PL) is provided with two or more optical members, and forms an object (R) image using an image formation beam of light.例文帳に追加

複数の光学部材を備え、結像光線を用いて物体(R)の像を形成する結像光学系(PL)。 - 特許庁

The plurality of reaction pipes 12 are arranged to establish a relationship of 0.6R≤r≤0.7R, where r is a distance between the virtual center line PL and a virtual cylindrical face PS.例文帳に追加

そして仮想中心線PLと仮想円筒面PSとの間の距離rを、0.6R≦r≦0.7Rの関係になるように複数の反応管12を配置する。 - 特許庁

In this aligner, a reticle R is lighted with exposure light IL and the a wafer W is exposed with the exposure light IL via the reticle R and a projection optical system PL.例文帳に追加

露光光ILでレチクルRを照明し、その露光光ILでレチクルR及び投影光学系PLを介してウエハWを露光する露光装置である。 - 特許庁

例文

A projection system PL projection exposes the image of a prescribed pattern formed on a reticle R on a photosensitive substrate W.例文帳に追加

レチクル(R)に形成された所定パターンの像を感光性基板(W)に投影露光するための投影系(PL)を提供する。 - 特許庁

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機械工学英和和英辞典での「r-pl」の意味

RPL (Radiation Physics Laboratory)


RPL (Rocket Propulsion Laboratory)


RPL (radar processing language)


RPL (running program language)


日英・英日専門用語辞書での「r-pl」の意味

RPL

要求パラメータ・リスト

Weblio英和対訳辞書での「r-pl」の意味

RPL

Weblio英和対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

Wiktionary英語版での「r-pl」の意味

RPL

Weblio例文辞書での「r-pl」に類似した例文

rpl

例文

prolix

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3

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例文

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20

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「r-pl」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 36



例文

An aligner includes the lighting system for lighting a mask (R) from below, a mask stage (RST) for holding the mask (R) below a projecting optical system (PL), and a substrate stage (WST) for holding the substrate (W) above the projection optical system (PL) and two-dimensionally moving the substrate (W).例文帳に追加

マスクRを下方から照明する照明系14と、マスクRを投影光学系PLの下方で水平に保持するマスクステージRSTと、投影光学系PLの上方で基板Wを水平に保持して2次元移動する基板ステージWSTとを備える。 - 特許庁

At the time of an exposure of the pattern of a reticle R, the reticle R is illuminated with exposure light IL1 consisting of pulsed light of a wavelength of 193 nm from an ArF excimer laser beam source 1 and the pattern of the reticle R is transferred on a wafer W via a projection optical system PL.例文帳に追加

露光時にはArFエキシマレーザ光源1からの波長193nmのパルス光よりなる露光光IL1でレチクルRを照明し、レチクルRのパターンを投影光学系PLを介してウエハW上に転写する。 - 特許庁

The projection aligner includes an illumination lighting system ILS for illuminating the illumination light from an exposure light source 1 to a reticule R, and a projection light system PL for projecting the image of the pattern of the reticule R onto a wafer W.例文帳に追加

露光光源1からの照明光をレチクルRに照射する照明光学系ILSと、レチクルRのパターンの像をウエハW上に投影する投影光学系PLとを有する。 - 特許庁

While the speed is in the R range, the valve 9 is shifted from the position shown in the figure to the left and to a backward travel position (R position), and the clutch R/C is engaged by line pressure PL, and the clutch F/C is released so that the automatic transmission can travel backward.例文帳に追加

Rレンジ時は弁9を図示位置から左行させて後退走行位置(R位置)にし、ライン圧P_L によりクラッチR/Cを締結させると共にクラッチF/Cを解放状態にして自動変速機を後退走行可能状態にする。 - 特許庁

In a projection exposure device for illuminating a reticle R with exposure lights, and for exposing a wafer W through the reticle R and a projection optical system PL with the exposure lights, liquid 7 through which the exposure lights are transmitted is supplied between the projection optical system PL and the wafer W by using a supply device 5 and a collecting device 6.例文帳に追加

露光光でレチクルRを照明し、その露光光でレチクルR及び投影光学系PLを介してウエハWを露光する投影露光装置において、供給装置5及び回収装置6を用いて、投影光学系PLとウエハWとの間にその露光光を透過する液体7を供給する。 - 特許庁

Even after that, if the power consumption Pavg exceeds the upper limit Pu, the controller increases the throttling ratio by r% sequentially until the Pavg reaches an lower limit Pl.例文帳に追加

それでも平均消費電力Pavg が上限値Pu を超えている場合には下限値Pl に達するまでスロットリング比率をr%ずつ順次増加させていく。 - 特許庁

The method of adjusting the aligner has a projection optical system (PL) for forming the pattern image of a reticle (R) illuminated by pulse emission laser beams on a photosensitive substrate (W).例文帳に追加

パルス発光のレーザー光により照明されたレチクル(R)のパターン像を感光性基板(W)に形成する投影光学系(PL)を備えた露光装置の調整方法。 - 特許庁

例文

The plurality of used reaction pipes each have a diameter D in a range of D≤0.3R, where R is a distance between a virtual center line PL and an inner peripheral wall face 3.例文帳に追加

仮想中心線PLと内周壁面3との間の距離をRとしたときに、複数の反応管としてその直径寸法DがD≦0.3Rの範囲に入るものを用いる。 - 特許庁

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