resist workとは 意味・読み方・使い方

To provide a work stage that holds a substrate by vacuum suction, in which even when a work applied with a substance having high adherence (tackiness) such as a resist is held by suction with the tacky side opposing to the work stage, the work can be easily unfastened from the work stage, and to provide an exposure apparatus capable of treating a workpiece having both faces applied with a resist.例文帳に追加

真空吸着により基板を保持するワークステージにおいて、ワークのレジストのような粘着性（タック性）の高い物質を塗布した側をワークステージ側に向けて吸着保持しても、ワークステージから容易に外すことができるワークステージ、および両面にレジストを塗布したワークを処理できる露光装置を提供すること。 - 特許庁

By this resist pattern forming work, fine patterns 130 shallower than the thickness of a resist film are formed near the edge sections of the patterns 110 and 120.例文帳に追加

このレジストパターン形成作業において、レジストパターン１１０、１２０のエッジ部近傍にレジスト膜の膜厚に対して浅い深さを有する微細パターン１３０を形成する。 - 特許庁

To eliminate troublesome work, e.g. stripping of a resist film or sticking of a die attach film to individual devices, in dicing by etching.例文帳に追加

エッチングによるダイシングにおいて、レジスト膜の剥離、個々のデバイスへのダイアタッチフィルムの貼着といった煩雑な作業を不要とする。 - 特許庁

To change exposure according to a temporal sensitivity variation of a resist applied to a work, and to expose the whole exposure region of one turn of a band-like work with a desired exposure accuracy.例文帳に追加

ワークに塗布したレジストの経時的な感度変化に合わせて露光量を変更し、一巻きの帯状ワークの全ての露光領域を所望の露光精度で露光できるようにすること。 - 特許庁

By exposing while a uniform gap is being maintained, a resist pattern of uniform dimensions as a whole, is formed on the exposure surface of the work 2.例文帳に追加

そして、均一なギャップを保持しつつ露光することで、ワーク２の露光面全体で均一な寸法のレジストパターンを形成できる。 - 特許庁

In the forming method of the resist pattern, a first color filter layer is formed on a substrate, a thermally fluid resist is applied on the first color filter layer, pattern exposure and development are performed and then the thermally fluid resist is cured while being fluidized to form a second color filter layer when sintering work is performed.例文帳に追加

本発明は、基板上に第１のカラーフィルタ層を形成し、第１のカラーフィルタ層に熱流動性レジストを塗布し、パターンを露光及び現像し、その後、焼結加工する際に、熱流動性レジストを流動させつつ、硬化させることで第２のカラーフィルタ層を形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition allowing an excellent cured film to be formed, the film having good circuit embedding property, work efficiency, easy peelability from a support, and various properties required by a solder resist and a permanent resist, to provide a photosensitive element using the photosensitive resin composition, and to provide a lamination method and a photosensitive permanent resist.例文帳に追加

良好な回路の埋め込み性、作業性、支持体からの易はく離性、及びソルダーレジスト・永久レジストに要求される諸特性を備えた優れた硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物と、それを用いた感光性エレメント、ラミネート方法、感光性永久レジストを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist capable of improving a production yield by preventing the drop of the resist onto a wafer which is of a problem at the time of continuous work in an electrostatic coating application method, and an apparatus therefor.例文帳に追加

静電塗布方法において、連続作業時に問題となるレジストのウェーハ上への落下を防止し、製造歩留りの向上をはかり得るレジストの形成方法とその装置を提供することを目的とする。 - 特許庁