steam annealingとは 意味・読み方・使い方

To provide a method of achieving an appropriate annealing process, such as high-pressure steam annealing process, to be within a proper range and thereby enable manufacturing of semiconductor device having proper characteristics.例文帳に追加

高圧水蒸気アニール処理等のアニール処理工程を、過不足なく適正化できるようにし、これによって良好な特性の半導体装置を製造することのできる方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, the method includes annealing the silicon and nitrogen containing film in a steam environment to form a silicon oxide film, wherein the steam environment includes water and acid vapor.例文帳に追加

さらに、蒸気環境内でシリコンおよび窒素含有膜をアニーリングしてシリコン酸化膜を形成することを含み、蒸気環境は水および酸蒸気を含む。 - 特許庁

After the saturation steam pressure (P), the saturation temperature (t) and the temperature (T) in the processing chamber 19 are settled at specified levels (H2), annealing work is started while sustaining the saturation temperature (t) and the saturation steam pressure (P) at constant levels.例文帳に追加

次に、飽和蒸気圧力（Ｐ）と、飽和温度（ｔ）と、処理室１９内の温度（Ｔ）と、が所定の値になった後（Ｈ２）に、飽和温度（ｔ）と、飽和蒸気圧力（Ｐ）と、を一定の値に維持しながらアニール処理作業に入る。 - 特許庁

To enable various steam annealing processings, depending on purposes by significantly expanding the control scope of steam concentration in a processing atmosphere, and to enable safe steam supply to a processing chamber, even when the processing chamber becomes high in pressure.例文帳に追加

処理雰囲気における水蒸気濃度の制御範囲を大幅に拡大することにより目的に応じて種々の水蒸気アニール処理を可能とする共に、処理室が高圧となる場合でも処理室への安全な水蒸気供給を可能とする。 - 特許庁

The method includes a step including the formation of a semiconductor film containing at least one or more of tin, germanium, and lead and an insulating film on the substrate 10 by supplying a gaseous starting material to a vacuum vessel 1, a step of annealing the semiconductor film and insulating film by projecting a laser beam upon the films, and a step of annealing the films with steam in the poststage of the annealing step.例文帳に追加

真空容器１に原料ガスを供給して基板１０上に、少なくとも錫、ゲルマニウム、鉛のいずれか一つ以上を含有する半導体膜と、絶縁膜と、を形成することを含む工程と、この半導体膜および絶縁膜にレーザーを照射してアニールする工程と、このアニールする工程の後工程であって、水蒸気でアニールを行う工程と、を備える。 - 特許庁

Partial pressure of steam in the atmosphere in the bright annealing furnace generating boron oxide is made to be smaller than 1×10^-5 by lowering the dew point in the atmosphere in this furnace.例文帳に追加

ホウ素酸化物が生成される光輝焼鈍炉の炉内雰囲気の水蒸気分圧を、当該炉内雰囲気の露点を下げることにより、１×１０^-5よりも小さくするようにした。 - 特許庁

The tool for steam annealing consists of a sheet member 10 which is formed to cover the periphery of the semiconductor substrate 1, comprising a through opening 10a inside of it.例文帳に追加

本発明の水蒸気アニール用治具は、半導体基板１の周縁部を覆うように形成されて内側に貫通開口１０ａを有するシート状部材１０からなる。 - 特許庁

An insulation film 63 is formed on the surface of the first metal film 62 by subjecting the first metal film 62 to high pressure annealing treatment in an atmosphere containing steam in an insulating film forming stage (c).例文帳に追加

次に、絶縁膜形成工程（ｃ）で第１の金属膜６２に対して水蒸気を含む雰囲気中で高圧アニール処理を行い、第１の金属膜６２の表面に絶縁膜６３を形成する。 - 特許庁