substrate dependenceとは 意味・読み方・使い方

To provide a substrate manufacturing method reducing the misalignment between an upper layer and a lower layer even when there is substrate distortion and work-starting exposure apparatuses for the upper and lower layers have apparatus dependence in exposure distortion, in the manufacture of substrate for forming a pattern on the substrate, and to provide a system thereof.例文帳に追加

基板上にパターンを形成する基板製造において、基板歪み、及び上層と下層の着工露光装置に露光歪みの機差が存在しても、上層と下層の合わせずれを小さくする基板製造方法、およびそのシステムを提供する。 - 特許庁

Thus, compensation of the frequency dependence of the relative dielectric constant of a medium surrounding an antenna 104, i.e., of a dielectric substrate constituting the antenna, is carried out.例文帳に追加

これにより、アンテナ１０４の周辺の媒質、すなわち、アンテナを構成する誘電体基板の比誘電率の周波数依存性の補償が行われる。 - 特許庁

To provide a delay circuit for adjusting a power-source voltage dependence on display time by providing a difference in electric potential between a source and a substrate (back gate).例文帳に追加

ソースと基板（バックゲート）間に電位差を設けることにより、ディレイ時間の電源電圧依存性を調整することができるディレイ回路を提供する。 - 特許庁

Accordingly, at the area near the stepped portion 2a of the substrate 2, dependence on angle of the reflected light beam is controlled to prevent interference of the incident light beam.例文帳に追加

これにより、基板２の段差部２ａ近傍において、反射光の角度依存性を抑制し、入射光の干渉を防止することができる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which has high sensitivity and no substrate dependence and which provides excelling profile shape, even when a basic substrate is used, and to provide a pattern forming method that uses the positive resist composition.例文帳に追加

高感度であり、基板依存性がなく、塩基性基板を用いた場合でもプロファイル形状の優れたポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する - 特許庁

The method for polishing the substrate comprises a step of polishing the substrate by an abrasive containing an additive for imparting a point of inflection of polishing pressure dependence to the abrasive and a polishing speed.例文帳に追加

本発明は、酸化珪素膜、金属等の埋め込み膜の余分な成膜層の除去及び平坦化を効率的、高レベルに、かつプロセス管理も容易に行うことができる研磨法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which decreases dependence of temperature of a semiconductor substrate on a pattern density, in heat-processing the semiconductor substrate where multiple patterns with different pattern densities exist.例文帳に追加

パターン密度が異なる複数の種類のパターンが存在する半導体基板の熱処理において、半導体基板温度のパターン密度依存性を低減することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a process S105, the direction of the piezoelectric polarization in the light-emitting layer at the selected tilt angle on a primary surface of the substrate is evaluated by the determined bias dependence.例文帳に追加

工程Ｓ１０５では、バイアス依存性から、基板主面の選択された傾斜角の各々において発光層におけるピエゾ分極の向きの見積もりを行う。 - 特許庁