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total impurities
「total impurities」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 172件
Furthermore, a total concentration of impurities is controlled to 100 ppm or less.例文帳に追加
更に、不純物の合計濃度を100ppm以下に制御する。 - 特許庁
The total quantity of metal impurities is desirably 0.5 μg/g or less.例文帳に追加
好ましくは、総金属不純物量が0.5μg/g以下である。 - 特許庁
The mixing of the impurities is permitted to approximately about 1 mass% in total.例文帳に追加
不純物は概ね合計1質量%程度までの混入が許容される。 - 特許庁
2. Optical glass the metal impurities content of which is less than 0.0001 % of the total weight発音を聞く 例文帳に追加
(二) 金属不純物の含有量が全重量の〇・〇〇〇一パーセント未満のもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
Regarding the inevitable impurities, the total content of C, N and O is preferably controlled to ≤0.15%.例文帳に追加
不可避的不純物として、C、N、Oの合計量が0.15%以下であることが好ましい。 - 特許庁
(b) Items in which the ratio of the content of metal impurities as a part of the total weight is less than following numeric values発音を聞く 例文帳に追加
ロ 金属不純物の含有量の全重量に占める割合が、次の数値未満のもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
The inevitable impurities in the sheath include Mn, Mg, or Fe, and the contents of these impurities are at most 0.1 mass% each with respect to the total mass of the sheath.例文帳に追加
皮材中の不可避的不純物としては、Mn、Mg又はFeがあり、その含有量は夫々皮材の全質量あたり0.1質量%以下である。 - 特許庁
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「total impurities」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 172件
To prevent lowering of the quantitative and qualitative analyzing accuracy of impurities, when the impurities on the surface of a semiconductor wafer are analyzed quantitatively and qualitatively by total reflection fluorescent X-rays or the like.例文帳に追加
全反射蛍光X線等により半導体ウェーハ表面上の不純物の定量、定性分析を行う際に、不純物の定量、定性分析精度の低下を防止する。 - 特許庁
The total amount of Mn, Mg, Cr, Ti, B, V and Ga in the unavoidable impurities is desirably controlled to 50 ppm or less.例文帳に追加
不回避不純物中におけるMn、Mg、Cr、Ti、B、V、Gaの総和量を50ppm以下とするのが望ましい。 - 特許庁
The total amount of Ag and Cu present in mercury as impurities is 0.001-1 ppm.例文帳に追加
水銀に不純物として存在する銀(Ag)および銅(Cu)の合計が0.001ppm以上1ppmより小さい量である。 - 特許庁
The total amount of the concentration of ionic impurities present in the component (C) is 100 ppm or less.例文帳に追加
(C)成分に含有されているイオン性不純物の濃度の合計が100ppm以下であることを特徴とする接着剤組成物。 - 特許庁
The hydrogen storage alloy is ≤1,000 wt ppm in the total content of metal impurities in the alloy other than alloy constitutive elements.例文帳に追加
合金構成元素以外の合金中の金属不純物の合計含有量が1000wtppm以下である水素吸蔵合金。 - 特許庁
It is necessary to confirm that HCB analysis is not interfered with by other impurities by conducting GC/MS in total ion monitoring mode.発音を聞く 例文帳に追加
HCBが、その他の不純物の干渉を受けていないことを GC/MSの全イオン検出等により確認しておくことが必要である。 - 経済産業省
Also, the hydrogen storage alloy is ≤500 wt ppm in the total content of metal impurities in the alloy other than alloy constitutive elements.例文帳に追加
また、合金構成元素以外の合金中の金属不純物の合計含有量が500wtppm以下である上記水素吸蔵合金。 - 特許庁
The high purity spherical alumina powder contains ≤30 ppm of Na^+ and ≤50 ppm, in total, of ionic impurities.例文帳に追加
Na^+量が30ppm以下、イオン性不純物の合計量が50ppm以下であることを特徴とする高純度球状アルミナ粉末。 - 特許庁
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