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unstable substrateとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 不安定基質
「unstable substrate」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 49件
To provide a substrate processing apparatus capable of detecting foreign matters precisely even if the atmosphere near a substrate surface is an unstable atmosphere.例文帳に追加
基板表面付近の大気が不安定な雰囲気である場合であっても、精度よく異物の検出を行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a treatment apparatus of a substrate, which prevents a substrate conveying state from becoming unstable due to the pressure of fluid when treating a conveyed substrate with the fluid.例文帳に追加
搬送される基板を流体によって処理する場合、流体の圧力で基板の搬送状態が不安定になるのを防止した基板の処理装置を提供することにある。 - 特許庁
A resist film 102 made of resist material containing first polymer that does not contain acid-unstable group and contains lactone, second polymer containing acid-unstable group, and a photo-acid generator is formed on a substrate 101.例文帳に追加
基板101の上に、酸不安定基を含まず且つラクトンを含む第1のポリマーと、酸不安定基を含む第2のポリマーと、光酸発生剤とを含むレジスト材料からなるレジスト膜102を形成する。 - 特許庁
Thus, the application treatment of a resist to a glass substrate G is prevented from becoming unstable due to the vibration of the vertical carrying unit 7.例文帳に追加
このため、垂直搬送ユニット7の振動によりガラス基板Gへのレジストの塗布処理が不安定となることを防止することができる。 - 特許庁
By this constitution, the adhesion unstable places 2 in the vicinity of two end edges in the longitudinal direction of the large sized decorative substrate 1 before division are removed by the male solid processing 5.例文帳に追加
これにより、分割前の大判化粧基板1の長手方向の2端縁の近傍の接着不安定な箇所2は、雄実加工5により除去される。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device which can prevent a material film in an unstable coating state at the peripheral edge of a substrate from being released.例文帳に追加
基板の周縁部における被着状態の不安定な材料膜の剥離を防ぐことが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To realize a constitution in which an unstable movement can be improved in the constitution of arranging electroconductive members surrounding a potential introducing terminal respectively on both faces of the substrate.例文帳に追加
基板の両面に電位導入端子を囲む導電部材をそれぞれ配置する構成における不安定な動作を改善しうる構成を実現する。 - 特許庁
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「unstable substrate」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 49件
To prevent an element substrate from not normally operating in the case the power supply from a power source applying voltage to a logic circuit becomes unstable.例文帳に追加
ロジック回路に電圧を印加する電源からの電圧供給が不安定となった場合に素子基板が正常に動作しないことを防止する。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus and method capable of efficiently removing resist residues on the surface of a substrate by using a sulphuric acid while using a hydrogen peroxide solution which is unstable at a high temperature.例文帳に追加
高温で不安定な過酸化水素水を使用しながら、硫酸を用いて基板表面のレジスト残渣を効率よく除去することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus and method capable of efficiently removing resist residues on the surface of a substrate by using a sulphuric acid without using a hydrogen peroxide solution which is unstable at a high temperature.例文帳に追加
高温で不安定な過酸化水素水を使用せずに、硫酸を用いて基板表面のレジスト残渣を効率よく除去することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a ceramic compound substrate which can improve problems such as the deficiency in the adhesive strength between a via hole and a conventional via-hole incorporated type ceramic substrate and unstable characteristics.例文帳に追加
従来のビア内蔵セラミック複合基板における、ビアとセラミック基板との接着強度の不足、不安定な電気特性等の不具合を改善することができるセラミック複合基板を提供する。 - 特許庁
To overcome the problem in a substrate laminating apparatus, wherein if a periphery of a top plate, a substrate holder, or the like emits heat by radiation and gets cold, a central part of the top plate and the substrate holder becomes convex and thereby a contact thermal resistance between the top plate and the substrate holder changes, which causes an unstable state wherein the periphery gets cold more.例文帳に追加
基板貼り合せ装置において、トッププレートおよび基板ホルダ等の外周部が輻射により放熱して冷えると、トッププレートおよび基板ホルダの中心部が凸形状となり、トッププレートと基板ホルダとの接触熱抵抗が変化して、外周部がより冷える不安定状態になる。 - 特許庁
To provide a droplet coating device and a droplet coating method which can perform a main ejection without applying a specified working to a substrate when performing a preliminary ejection of inkjet on the substrate, and without making the ejection unstable even for an objective substrate to be corrected, and to provide a display apparatus comprising the substrate manufactured by the droplet coating device.例文帳に追加
基板上でインクジェットの予備吐出を行う場合に、基板に特別な加工を施すことなく、かつ修正目的の基板に対しても、吐出を不安定にさせることなく本吐出を行い得る液滴塗布装置、液滴塗布方法及び表示装置を提供する。 - 特許庁
First, on a substrate, a resist film 102 is formed from a resist material which contains a cyclic oligomer of at least trimer which contains no acid-unstable group and is alkali-soluble, a molecular compound containing an acid-unstable group and a photoacid generator, and does not contain a polymer.例文帳に追加
まず、基板の上に、酸不安定基を含まないアルカリ可溶性で且つ三量体以上の環状のオリゴマーと、酸不安定基を含む分子化合物と、光酸発生剤とを含み、且つポリマーを含まないレジスト材料からレジスト膜102を形成する。 - 特許庁
To provide a heat treatment apparatus in which a resist sublimate or the like is difficult to stay, that can prevent the temperature distribution of a treated substrate from becoming unstable, and that can control the temperature of the treated substrate with high accuracy.例文帳に追加
レジスト昇華物等が溜まりにくく、被処理基板の温度分布が不安定になることを防止することができ、被処理基板の温度を高精度に制御することができる加熱処理装置を提供すること。 - 特許庁
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