| 例文 (746件) |
"液溜"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 746件
液溜安定棒例文帳に追加
LIQUID RESERVOIR STABILIZING BAR - 特許庁
液溜め室付き容器例文帳に追加
CONTAINER HAVING LIQUID STORAGE CHAMBER - 特許庁
塗工液の液溜め装置例文帳に追加
SUMP APPARATUS FOR COATING LIQUID - 特許庁
液溜め用受皿付き縦形ポンプ例文帳に追加
VERTICAL PUMP WITH PAN FOR RESERVING LIQUID - 特許庁
ワイヤソーの加工液溜り槽例文帳に追加
WORKING FLUID RESERVING TANK FOR WIRE SAW - 特許庁
後述するように、液溜は高圧液溜または低圧液溜として、即ち、圧縮冷媒のための液溜または膨脹冷媒のための液溜として構成することができる。例文帳に追加
As will be described later, the liquid collector can be constituted as a high pressure liquid collector or a low pressure liquid collector, that is, as a liquid collector for compressed refrigerant or a liquid collector for expanded refrigerant, respectively. - 特許庁
溶融金属材料は、液溜り上に排出されて、前記液溜りの幅寸法を呈する。例文帳に追加
The molten metallic material is discharged onto the liquid pool and assumes the width size of the liquid pool. - 特許庁
液溜室１５に液溜室１５を横断する鉛直方向の仕切板１６を配置する。例文帳に追加
A vertical directional partition plate 16 crossing the liquid retaining chamber 15 is arranged in the liquid retaining chamber 15. - 特許庁
カソード液室に液溜めを有する食塩電解槽例文帳に追加
BRINE ELECTROLYTIC CELL HAVING FLUID RESERVOIR IN CATHODE LIQUID CHAMBER - 特許庁
返血用液溜容器及び補液・返血用ユニット例文帳に追加
FLUID SUMP CONTAINER FOR RETRANSFUSION, AND FLUID REPLACEMENT AND RETRANSFUSION UNIT - 特許庁
圧縮機１の下部には液溜槽７を設置する。例文帳に追加
A liquid holding tank 7 is arranged underneath the compressor 1. - 特許庁
管種判別装置及び管内の液溜まり検知装置例文帳に追加
PIPE TYPE DETERMINATION DEVICE AND DETECTION DEVICE FOR LIQUID STAGNATION IN PIPE - 特許庁
液量視認装置及び液溜め形成部材例文帳に追加
VISUAL CONFIRMATION DEVICE FOR LIQUID AMOUNT AND LIQUID SUMP FORMING MEMBER - 特許庁
塗工液の液溜め装置１０は、互いの間で塗工液２２の液溜め空間を形成する一対の液溜め部材１１、１２と、一対の液溜め部材１１、１２に設けられ液溜め空間の両端を規制する一対の堰１５ａ、１５ｂとを有している。例文帳に追加
The sump apparatus 10 for a coating liquid has a pair of sump members 11, 12 for forming, between them, a sump space for a coating liquid 22 and a pair of dams 15a, 15b which are attached to the pair of sump members 11, 12 and regulate both the ends of the sump space. - 特許庁
また、酸性液溜り５１の酸性液５０や酸性液溜り５１で撥ねた酸性液５０も軸受３３に浸入することがない。例文帳に追加
The acidic liquid 50 of an acidic liquid reservoir 51 or the splash of the acidic liquid from the acidic liquid reservoir 51 does not enter into the bearing 33. - 特許庁
複雑な流体解析を要することなく、浸漬処理されるワークに生じる液溜りと、その液溜りの排出孔の適否を判断する。例文帳に追加
To determine a liquid sump occurring in a workpiece to be performed dipping treatment and propriety of a discharge hole of the liquid sump without requiring any complicated fluid analysis. - 特許庁
ピストン型アキュムレータの気体室９に液溜１１、１２を設け、該液溜１１、１２と連通する排気用バルブ１３を設ける。例文帳に追加
Liquid sumps 11, 12 are formed in the gas chamber 9 of this piston type accumulator, and an exhaust valve 13 communicated with the sumps 11, 12 is installed. - 特許庁
そして、前記液溜めタンク１ｂ，２ｂの前記配設構造により、前記両液溜めタンク１ｂ，２ｂ間を介しての熱伝導は略完全に阻止される。例文帳に追加
The heat conduction through both liquid sump tanks 1b, 2b can be almost completely prevented by applying this mounting structure of the liquid sump tanks 1b, 2b. - 特許庁
液溜め部内の液量を外部から目視で確認可能にせしめるとともに、前記液溜め部への液体供給を確実に行うことができるようにする。例文帳に追加
To visually confirm a liquid amount in a liquid sump part from the outside, and to certainly supply liquid to the liquid sump part. - 特許庁
ニードル５３が液溜め部材５２から溶液を引っ張りだし、液溜め部材５２に保持された溶液を基板３に配置する。例文帳に追加
The needle 53 pulls the solution out of the liquid reservoir member 52 and disposes the solution held at the liquid reservoir member 52 on the substrate 3. - 特許庁
好ましくは、溝２２の一部に他の部分よりも溝深さの深い液溜め部２４を設け、捕集した液体を液溜め部２４に集めるようにする。例文帳に追加
Preferably, a reservoir 24 having a groove deeper than the other part is installed in a part of the groove 22, and the collected liquid is gathered in the reservoir 24. - 特許庁
接続管７５Ａ，７５Ｂにより液溜め部８０Ａ，８０Ｂが形成され、冷凍側の液溜め部８０Ａの方が長く取られる。例文帳に追加
Liquid pool parts 80A and 80B are formed by the connection pipes 75A and 75B, and the liquid pool part 80A in a refrigeration side is formed longer. - 特許庁
前壁と隔壁の間に第１液溜め部２１Ａが形成され、後壁と隔壁の間に第２液溜め部２１Ｂが形成されている。例文帳に追加
A 1st reserving part 21A is formed between the front wall and the partition wall and a 2nd reserving part 21B is formed between the rear wall and the partition wall. - 特許庁
また、前記第二の液溜め形成部材２４は、前記液溜め部２０内へと液体Ｏを供給するための液体供給口２５も備えている。例文帳に追加
The second liquid sump forming member 24 is also provided with a liquid supply port 25 for supplying liquid O into the liquid reservoir part 20. - 特許庁
液溜め部１４は、上方に凸形状に形成され、液溜め部中の塗布液に存在する気泡が開口部より排出可能となっている。例文帳に追加
The liquid reservoir part 14 is upwardly formed to a projection shape and the bubbles existing in the coating liquid in the liquid reservoir part can be discharged from the opening. - 特許庁
前記第二の液溜め形成部材２４の内部の液位を外部から目視することにより、前記液溜め部２０内の液量を確認することができる。例文帳に追加
By visually confirming from the outside the liquid level in the inside of the second liquid sump forming member 24, the liquid amount in the liquid sump part 20 can be confirmed. - 特許庁
環状空間１１の下方に液溜室１５を形成して液溜室１５の下端を排液口８に連結する。例文帳に追加
A liquid storage chamber 15 is formed below the annular space 11, and the lower end of the liquid storage chamber 15 is connected to a liquid discharge outlet 8. - 特許庁
環状空間１１の下方に液溜室１５を形成して液溜室１５の下端を排液口８に連結する。例文帳に追加
A liquid storage chamber 15 is formed below the annular space 11, the lower end of the liquid storage chamber 15 being connected to a drain port 8. - 特許庁
蒸発器の下側には排液溜めが設けられ、この排液溜めは、溝を介して排液受け平なべに流体的に接続されている。例文帳に追加
A drain basin is provided beneath the evaporator, and the drain basin is fluidly connected to the drain pan via a trough. - 特許庁
隔壁部材１０の下方に液溜室１５を形成して液溜室１５の下端を排液口８に連結する。例文帳に追加
A liquid sump chamber 15 is formed under the partitioning member 10 and the lower end of the liquid sump chamber 15 is connected to a liquid discharge port 8. - 特許庁
吸収器の下部に溶液ポンプと連通する溶液溜め２２を形成し、溶液溜めとは別体に溶液タンク２５を設ける。例文帳に追加
The refrigerator also comprises a solution reservoir 22 formed at a lower part of the absorber to communicate with the solution pump and a solution tank 25 provided separately from the reservoir. - 特許庁
振動チップ６の振動方向延長線上に、液溜部29、30を配置し、液溜部30に塗布口20を開口している。例文帳に追加
Liquid reservoir parts 29 and 30 are arranged on the extension line in the vibration direction of the vibration chip 6 and a coating port 20 is opened in the liquid reservoir 30. - 特許庁
圧力差を利用して一方の液溜め流路から反応流路を通過して他方の液溜め流路に液を移動させる。例文帳に追加
The liquid is transferred from the one side liquid reservoir flow passage to the other side liquid reservoir flow passage passed through the reaction flow passage, using a pressure difference. - 特許庁
液溜部３と流出口１３を連通する弁孔５を開けた弁座１２を液溜部３に形成する。例文帳に追加
A valve seat 12 with the valve hole 5 opened for making the liquid sump part 3 communicate with the water flow-out port 13, is formed to the liquid sump part 3. - 特許庁
環状空間１１の下方に液溜室１５を形成して液溜室１５の下端を排液口８に連結する。例文帳に追加
A liquid storage chamber 15 is formed below the annular space 11, and the lower end of the liquid storage chamber 15 is connected to a liquid discharge outlet 8. - 特許庁
環状空間１１の下方に液溜室１５を形成して液溜室１５の下端を排液口８に連結する。例文帳に追加
A liquid reservoir chamber 15 is formed under an annular space 11 and the lower end of the liquid reservoir chamber 15 is joined to a liquid discharge opening 8. - 特許庁
排気管５の下方に液溜室１５を形成して液溜室１５の下端を排液口１８に連結する。例文帳に追加
A liquid reservoir chamber 15 is formed under the exhaustion pipe 5 and the lower end of the liquid reservoir chamber 15 is connected to a liquid discharge port 18. - 特許庁
液溜りのシミュレーション方法及びシミュレーションプログラム例文帳に追加
LIQUID SUMP SIMULATION METHOD AND SIMULATION PROGRAM - 特許庁
第一液溜部形成部材側２に入った循環液３５は、低温のため第一液溜部形成部材２内の温度が低下して負圧傾向となり、第二液溜部形成部材３内の循環液３５が、吸引されて第一液溜部形成部材側２内に戻る。例文帳に追加
The circulation liquid 35 entering the first liquid reservoir part forming member side 2 tends to be subjected to negative pressure by drop of temperature in the first liquid reservoir part forming member 2 due to low temperature, and the circulation liquid 35 in the second liquid reservoir part forming member 3 is sucked and returned into the first liquid reservoir part forming member side 2. - 特許庁
旋回室１４と液溜室１５の間に仕切部材１７を配置する。例文帳に追加
A partition member 17 is disposed between the swirl chamber 14 and the liquid reservoir 15. - 特許庁
液溜14を二重管11の縦向き部分に沿うように配置する。例文帳に追加
The longitudinal reservoir 14 is arranged along the longitudinal part of the double tube 11. - 特許庁
真空作用により、排出液溜め１９２から真空脱気する。例文帳に追加
The discharge liquid reservoir 192 is vacuum-deaerated by the vacuum action. - 特許庁
液溜部１１１における粗硫酸２０３の温度は、１０〜１３０℃である。例文帳に追加
The temperature of the crude sulfuric acid 203 in the liquid reservoir 111 is 10 to 130°C. - 特許庁
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