「"Design Patterns"」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The image forming apparatus for forming an image on the basis of image data attached with design pattern image data representing design patterns manifested by copying discriminates whether or not the image data are attached with the design pattern image data and limits image processing affecting the attached design pattern image data when it is discriminated that the design pattern image data are attached to the image data.例文帳に追加

複写により顕像化される地紋を示す地紋画像データを付加した画像データに基づき画像を形成する画像形成装置で、地紋画像データが付加されるか否かを判定し、地紋画像データが付加されると判定された場合に、付加される地紋画像データに影響する画像処理を制限する。 - 特許庁

Furthermore, a retroreflection layer 25 is disposed between the second mask layer 22 and the first and second LEDs 13, 14 so as to correspond to a film formation part of the overlapped design patterns of the first and second mask layers 21, 22, and visible light reflected at the retroreflection layer 25 is reflected again by the mirror 15.例文帳に追加

更に第２のマスク層２２と第１及び第２のＬＥＤ１３、１４の間には第１及び第２のマスク層２１，２２の重複した意匠パターンの成膜部分に対応するように再帰反射層２５を配置し、再帰反射層２５によって反射させた可視光をミラー１５によって再度反射させるようにした。 - 特許庁

In the method of manufacturing an exposure mask which is used to perform pattern exposure with a high resolution by shifting the phase of light transmitting both sides in the line width direction of a mask pattern, high-precision patterns requiring line width precision and high-resolution patterns requiring pattern exposure with high resolution are extracted from gate patterns (design patterns) (S2).例文帳に追加

マスクパターンの線幅方向両側を透過する光の位相をシフトさせることで高解像度のパターン露光を行う際に用いられる露光マスクの作製方法であって、ゲートパターン（設計パターン）の中から、線幅精度が要求される高精度パターンと、高解像度でのパターン露光が要求される高解像度パターンとを抽出する（Ｓ２）。 - 特許庁

In the target design data 101, the multiply-exposing mask patterns are formed by carrying out a process of disposing auxiliary patterns 105 virtually connecting the tips 103a, 104a of a pair of the line design patterns 103, 104 facing each other with a predetermined space in between at the tips 103a, 104a in the design data.例文帳に追加

目的となる設計データ１０１において、先端部分１０３ａ,１０４ａで所定の離間距離をおいて対向する一対の線状設計パタン１０３，１０４について、設計データ上で仮想的に先端部分１０３ａ,１０４ａ間を接続する補助パタン１０５を配する処理を行い多重露光用マスクパタンを生成する。 - 特許庁

Seeing diagrams of the code can expose design patterns and other complexities that might not be obvious while reading the code.例文帳に追加

この処理には数多くの用途がありますが、もっとも一般的な用途は、コードがどのように構成されているかの概要を得ることです: オブジェクトにはどのようなものがあり、それらはどのように関係しているのか?コードを図で見ることによって、コードを見るだけでは明白ではない可能性があるデザインパターンやその他の複雑な情報を明らかにすることができます。 - NetBeans

An information amount comparison section 213 compares the total amount of the acquired information with an amount of information embeddable to one original and saves surplus information unembeddable to one original to a storage device such as a hard disk, and a formed image edit section 214 edits the data so as to embed information associated with the location of the surplus information to the design patterns of the formed images.例文帳に追加

情報量比較部２１３が、取得された情報の総量と１枚の原稿に埋め込むことができる情報の量とを比較し、１枚の原稿に埋め込めない余剰情報をハードディスク等の記憶装置に退避するとともに、形成画像編集部２１４が、当該余剰情報の所在に関する情報を形成される画像の地紋に埋め込むようにデータを編集する。 - 特許庁

To provide an image processor, an image forming device, an image processing method, a computer program, and a recording medium therefor, preventing such a problem of unclearly displaying design pattern which should be displayed when copying an obtained original is copied, in an image processing to add design data representing the design patterns to obtained image data.例文帳に追加

取得画像データに、地紋パターンを表す地紋データを付加する処理を行う画像処理において、得られる原稿が複写される際に現れるべき地紋パターンがはっきり顕在しない問題が生じる虞がある場合は、斯かる問題の発生を未然に防止出来る画像処理装置、画像形成装置、画像処理方法、コンピュータプログラム及び記録媒体を提供する。 - 特許庁