「オキシ窒化けい素」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

アモルファス炭素および／またはアモルファス窒化炭素の蒸着膜からなるオキシナイトライドガラスのプレス成形用離型層である。例文帳に追加

This releasing layer for press-molding the oxynitride glass comprises a vapor deposited film of amorphous carbon and/or amorphous carbon nitride. - 特許庁

オキシ窒化ケイ素層の保護により、低誘電率有機材料層の断面形状のゆがみを防止することができる。例文帳に追加

Through the protection of the oxygennitride silicon layer, distortion of a cross-sectional shape of the organic material layer is prevented. - 特許庁

本発明は、窒素イオンを注入して隔離酸化膜内の所定領域にオキシナイトライド膜を形成する。例文帳に追加

An oxynitride film is formed in the prescribed region of an isolation oxide film by implanting nitrogen ions. - 特許庁

オキシ窒化ケイ素層の反射防止能力の低下を防止することができるフォトレジスト層の再処理方法を提供すること。例文帳に追加

To provide the method of reprocessing photoresist layers for preventing reflection prevention capability from being reduced in an oxysilicon nitride layer. - 特許庁

酸素プラズマで洗浄すると、低誘電率有機材料層の上にオキシ窒化物の薄膜が形成される。例文帳に追加

When the laminate is cleaned with the oxygen plasma, an oxynitride thin film 110 is formed on the organic material layer. - 特許庁

シリコン基板２００をアンモニアガスの存在下で短時間加熱することによって基板上に窒化物層を形成する工程と、窒化物層を酸化窒素ガスの存在下で短時間加熱することによって窒化物層を再酸化させ、オキシ窒化物層２０４を形成する工程とを含む。例文帳に追加

This method comprises steps of forming a nitride layer on a substrate by heating a silicon substrate 200 for a short time in the presence of an ammonia gas and reoxidizing the nitride layer to form an oxynitride layer 204 by heating the nitride layer for a short time in the presence of an nitrogen oxide gas. - 特許庁

溶剤はアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、グリコール系溶剤、ケトン系溶剤、炭化水素系溶剤及び窒素系溶剤が好ましく、界面活性剤は非イオン系界面活性剤であるポリオキシエチレンアルキルエーテル及びポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルが好ましい。例文帳に追加

The surfactant is preferably a polyoxyethylene alkyl ether or a polyoxyethylene sorbitan acid ester being a nonionic surfactant. - 特許庁

上記の特性を有する窒化鉄系磁性粉末は、オキシ水酸化鉄（原料粉）を合成する工程で、オキシ水酸化鉄の成長過程に酸化剤として過酸化水素水を用い、かつ希土類元素を十分に添加する製法によって製造される。例文帳に追加

The iron-nitride magnetic powder having an above characteristic is manufactured, by using a solution of hydrogen peroxide as oxidant for oxy-iron hydroxide growth process and fully adding the rare earth elements in a process for synthesizing oxy-iron hydroxide (material powder). - 特許庁

窒素を含むプラズマを使用して、低誘電率有機材料層の上のフォトレジスト層の実質的に大部分を除去し、その後に低誘電率有機材料層の露出表面上にオキシ窒化ケイ素層を形成する。例文帳に追加

A substantially large part of a photoresist layer on a low dielectric constant organic material layer 102 is removed by a plasma108 containing nitrogen atoms, and thereafter an oxynitride silicon layer is formed on an exposed surface of the organic material layer. - 特許庁

β型窒化珪素結晶を含む窒化珪素を焼結助剤と混合して焼成する窒化珪素系焼結体の製造方法において、前記焼結助剤は、希土類酸化物と、酸化マグネシウムと、二酸化珪素とを溶融させると共に、窒素が過飽和状態となるように窒化物を溶融させたオキシナイトライドガラスとしていることとした。例文帳に追加

In the method for producing a silicon nitride based sintered compact where silicon nitride including β type silicon nitride crystals is mixed with a sintering assistant, and the mixture is fired, as the sintering assistant, oxynitride glass obtained by melting rare earth oxide, magnesium oxide and silicon dioxide and further melting nitride in such a manner that nitrogen is made into a supersaturated state is used. - 特許庁

塩化アンモニウムの生成を伴うことなく、しかも炭素系汚染質を膜内に混入させずに、シリコン窒化物膜もしくはシリコンオキシ窒化物膜をＣＶＤ法により製造するための方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method by which a silicon nitride film or silicon oxy-nitride film can be manufactured by the CVD method without generating any ammonium chloride nor allowing the intrusion of carbon-based contaminants into the film. - 特許庁

本発明の白色発光素子は、ＩＩＩ族窒化物半導体を用いた青色ＬＥＤの光放出部に、発光中心を添加したオキシ窒化物ガラス蛍光体層を有する構造とする。例文帳に追加

Related to the white light-emitting element, the light emitting part of the blue LED comprising group III nitride semiconductor is provided with an oxynitride glass phosphor layer to which a luminescent center is added. - 特許庁

アクリル系合成繊維に付着する処理剤として、ポリオキシアルキレンブロック共重合体、油脂エチレンオキサイド付加物、ポリオキシエチレングリコールアルケニルエーテル、含窒素有機化合物及び有機リン酸エステル塩、以上の特定の５成分がそれぞれ所定割合から成るものを用いた。例文帳に追加

This treating agent for acrylic synthetic fibers is characterized by comprising a polyoxyalkylene block copolymer, an oil or fat-alkylene oxide, adduct, a polyoxyethylene glycol alkenyl ether, a nitrogen-containing organic compound, and an organic phosphate in a prescribed ratio. - 特許庁

ホスファゼン化合物とポリフェニレンオキシド系樹脂と必要によりスチレン系樹脂及び／又は窒素含有化合物とで構成された難燃剤を用いて、ポリアルキレンアリレート系樹脂を難燃化する。例文帳に追加

This flame-retardant resin composition is obtained by flame- retarding a polyalkylene arylate resin with a flame retardant composed of a phosphazene compound, a polyphenylene oxide resin and, as necessary, a styrene resin and/or a nitrogen-containing compound. - 特許庁

ケイ酸塩とＳｉ_3Ｎ_4とを混合し、還元雰囲気下で焼成する工程を少なくとも実施することにより、オキシケイ素窒化物からなる蛍光体を製造する。例文帳に追加

The fluorescent substance made of an oxysilicon nitride is produced by executing at least a step of mixing a silicate and a Si_3N_4, and baking the same in a reduction atmosphere. - 特許庁

ポリオール（Ａ）：芳香族系含窒素化合物にアルキレンオキシドを開環付加重合させて得られた、水酸基価が２００〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇであるポリエーテルポリオール。例文帳に追加

Polyol (A): a polyether polyol produced by subjecting an alkylene oxide to ring-opening addition polymerization with an aromatic nitrogen-containing compound and having a hydroxy value of 200-500 mgKOH/g. - 特許庁

第１のパッシベーション層８０は窒化珪素（ＳｉＮ）で、第２のパッシベーション層１２０はシリコンオキシナイトライド（ＳｉＯＮ）で、それぞれ形成される。例文帳に追加

The first passivation layer 80 is made of silicon nitride (SiN), the second passivation layer 120 is made of silicon oxynitride (SiON). - 特許庁

塩化アンモニウムの生成を伴うことなく、しかも炭素系汚染質を膜内に混入させずに、優れた特性を有するシリコン窒化物膜もしくはシリコンオキシ窒化物膜を熱化学気相成長（熱ＣＶＤ）法により製造するための方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a silicon nitride film or a silicon oxynitride film having excellent characteristics by the thermal chemical vapor deposition method without accompaniment of generation of ammonium chloride and mixture of carbon system contamination quality into the film. - 特許庁

オキシラン化合物の重合用触媒は、オキシラン化合物を重合体が不溶な有機溶媒中で懸濁析出重合せしめるのに適した触媒であって、（Ａ）アルキルアルミニウム化合物、（Ｂ）分子内に少なくとも１つのＯＨ基を有する燐のオキソ酸化合物、および（Ｃ）ｐＫａ６〜８の含窒素環状化合物の反応生成物からなる。例文帳に追加

This catalyst for polymerizing the oxirane compound is suitable for subjecting the oxirane compound to the suspension-precipitation polymerization in an organic solvent in which the polymer is insoluble and comprises a reactional product of (A) an alkylaluminum compound with (B) an oxo-acid compound of phosphorus having at least one OH group in the molecule and (C) a nitrogen-containing cyclic compound having pKa 6-8. - 特許庁

好ましいナノ多孔質酸化シリコン系膜は、メチルシリル-1,4-ジオキシニルエーテル或いはメチルシロキサニルフラン及び2,4,6-トリシラオキサン或いはシクロ-1,3,5,7-テトラシリレン-2,6-ジオキシ-4,8-ジメチレンを、亜酸化窒素或いは酸素と反応させて、続いて、徐々に上昇する温度でキュアリング／アニーリングを行うことによって、製造される。例文帳に追加

A preferred nano-porous silicon oxide based film is produced by reaction of methylsilyl-1,4-dioxinyl ether or methylsiloxyanyl furan and 2,4,6- trisilaoxane or cyclo-1,3,5,7-tetrasilylene-2,6-dioxy-4,8 dimethylene with nitrous oxide or oxygen followed curing/annealing that includes a gradual increase in temperature. - 特許庁

有機金属型の活性部位を分子中に有する共役ジエン系重合体の該活性部位に反応させる変性剤であって、窒素含有ヒドロカルビルオキシ基を一つ有し、且つ、アルコキシ基またはハロゲン原子を一つ以上有するケイ素化合物からなることを特徴とする変性剤である。例文帳に追加

This modifier, which is reacted at an active site of a conjugated diene polymer having an organometallic active site in the molecule, includes a silicon compound having one nitrogen-containing hydrocarbyloxy group and at least one alkoxy group or halogen atom. - 特許庁

好ましくは、上記被覆剤には、窒素質肥料及び／又は安息香酸、安息香酸塩又はエステル、ソルビン酸、ソルビン酸塩又はエステル、パラオキシ安息香酸、パラオキシ安息香酸塩又はエステル、プロピオン酸、プロピオン酸塩又はエステル、イミダゾリル系化合物、イミダゾリン系化合物、イミダゾール系化合物、チアゾリル系化合物、チアゾリン系化合物の少なくとも１種以上を含有することが望ましい。例文帳に追加

The coating agent preferably contains at least one kind selected from a nitrogen fertilizer and/or benzoic acid, benzoate or ester, sorbic acid, a sorbic acid salt or ester, para oxybenzoic acid, a para oxybenzoic acid salt or ester, propionic acid, a propionic acid salt or ester, an imidazolyl type compound, an imidazoline type compound, a thiazolyl type compound and a thiazoline type compound. - 特許庁

本発明のタイヤは、分子内に、１個以上のケイ素−酸素結合と１個以上の硫黄原子とを有し、且つケイ素原子から原子数で３〜８個離れた位置に窒素原子を１個以上有する有機ケイ素化合物（Ａ）と、無水マレイン酸と(ポリ)オキシプロピレン誘導体との部分エステル（Ｂ）と、シリカ（Ｃ）とを含むゴム組成物を用いたことを特徴とする。例文帳に追加

The tire comprises: an organic silicon compound (A) having one or more silicon-oxygen bonds and one or more sulfur atoms in one molecule and further having one or more nitrogen atoms at a position three to eight carbons away from the silicon atom; a partial ester (B) of a maleic anhydride and a polyoxypropylene derivative; and a silica (C). - 特許庁

シリコン基板１上に薄いＳｉ０_2膜２、非晶質シリコン薄膜３ａを順次形成し、次に窒化種としてＮＯを含む雰囲気中での熱処理により、ＳｉＯ_2膜２との界面の非晶質シリコン薄膜３ａをシリコン供給源としてＳｉ０_2膜２と非晶質シリコン薄膜３ａとの界面にオキシナイトライド膜４Ａを形成することにより，ゲート絶縁膜として窒素を含むＳｉＯＮ膜４を形成する。例文帳に追加

A thin SiO2 film 2 and an amorphous silicon thin film 3 are sequentially formed on a silicon substrate 1, and then subjected to heat treatment in an atmosphere containing NO as a nitriding species to form an oxy nitride film 4A containing nitrogen at an interface between the films 2 and 3 with use of the film 3 forming an interface with the film 2 as a silicon supply source. - 特許庁

本発明は、アセトアニリド環の窒素原子に対してオルトの位置にアルコキシまたはアリールオキシ置換基を含み、前記環がクロマンエーテル基を含有している置換基をさらに含んでいるアシルアセトアニリド化合物であるイエロー色素形成カプラーを関連して有するハロゲン化銀乳剤層を含んでなる写真要素に関する。例文帳に追加

This sliver halide emulsion layer of the photographic element contains a yellow dye forming coupler of an acyl-acetoanilide compound, having an alkoxy or aryloxy substituent on the ortho position to the N atoms of the acetoanilide ring and further, a substituent having a chroman ether group. - 特許庁

活性末端を有する共役ジエン系重合体に一次変性剤を反応させてなる一次変性共役ジエン系重合体に対して反応させる二次変性剤であって、窒素含有ヒドロカルビルオキシ基を少なくとも一つ有するケイ素化合物又はその部分縮合物からなることを特徴とする二次変性剤である。例文帳に追加

The secondary modifier is brought into reaction with a primary modified conjugated diene-based polymer obtained by bringing a primary modifier into reaction with a conjugated diene-based polymer having an active terminal, and comprises a silicon compound having at least one nitrogen-containing hydrocarbyloxy group or a partial condensate thereof. - 特許庁

アルミニウム支持体上に、窒素原子およびエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と、光重合開始剤と、高分子結合剤とを含有する光重合型感光性組成物からなる感光層を有する感光性平版印刷版を、画像露光した後、（１）無機のアルカリ剤と、（２）ポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン系界面活性剤とを含有する現像液で現像することを特徴とする。例文帳に追加

A photosensitive planographic printing plate having a photosensitive layer comprising a photopolymerizable photosensitive composition containing a compound having a nitrogen atom and an ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator and a polymer binder on an aluminum base is imagewise exposed and developed with a developing solution containing (1) an inorganic alkali agent and (2) a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group. - 特許庁

排ガスを最終除塵設備１にて除塵し、さらに排ガスをダイオキシン又は窒素酸化物を分解する粒状触媒が充填された分解触媒装置３を通して大気への放散を図る排ガス処理系統であって、前記最終除塵設備１と前記分解触媒装置３との間に、前記最終除塵設備１から排出される、ダストを除塵するパルスジェット払い落とし式バグフィルタ２を設けた。例文帳に追加

This equipment is used in such an exhaust gas treatment system that the dust in the exhaust gas is removed by the final dust collecting equipment 1, the dust-removed exhaust gas is made to pass through the decomposition catalyst-packed unit 3 packed with a particulate catalyst for decomposing dioxins or nitrogen oxides and the cleaned exhaust gas is discharged to the atmosphere. - 特許庁

（成分Ａ）式（ａ１）〜式（ａ４）で表される構成単位を少なくとも有する共重合体、（成分Ｂ）式（Ｂ）で表されるオキシムスルホネート化合物、（成分Ｃ）塩基性含窒素環状化合物、及び、（成分Ｄ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を用いた硬化膜の形成方法、前記形成方法により形成された硬化膜、並びに、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置。例文帳に追加

The method for forming a cured film is carried out by using the above photosensitive resin composition, the cured film is formed by the forming method, and the organic EL display device and the liquid crystal display device include the cured film. - 特許庁

（化１）（Ｘは、窒素、ホウ素またはリンのうちから選択され、Ａｒ_１、Ａｒ_２、Ａｒ_３及びＡｒ_４は、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアリールオキシ基、置換または非置換の複素環基、または置換または非置換の縮合多環基を表す。）本発明の複素環化合物は、高い電気的安定性及び高色純度の青色発光を表して、色純度に優れた青色蛍光発光材料として有用であり、色再現率に優れたトップエミッション型及びボトムエミッション型の有機電界発光装置を提供することができる。例文帳に追加

The heterocyclic compound exhibits blue luminescence of high electrical stability and high color purity, is useful as a blue fluorescence luminescent material excellent in color purity and can prove top emission type and bottom emission type organic electroluminescent devices excellent in color reproduction rate. - 特許庁