「ドライ酸化」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ドライＯ_２法（ドライ酸化）により、トレンチ１３の側面１３ａおよび底面１３ｂに犠牲酸化膜１４を形成する。例文帳に追加

A sacrificial oxide film 14 is formed on the side face 13a and bottom face 13b of trenches 13 by the dry O_2 method (dry oxidation). - 特許庁

金属酸化物／フォトレジスト膜積層体のドライエッチング方法例文帳に追加

DRY ETCHING METHOD FOR METAL OXIDE/PHOTORESIST FILM LAMINATED BODY - 特許庁

Ｎチャネル金属酸化膜半導体（ＮＭＯＳ）ドライブ回路およびその製法例文帳に追加

DRIVE CIRCUIT IN N-CHANNEL METALLIC OXIDE FILM SEMICONDUCTOR (NMOS) - 特許庁

酸化重合硬化型塗料用ドライヤー、塗料、及びその塗膜例文帳に追加

DRYER FOR OXIDATIVE POLYMERIZATION-CURABLE TYPE COATING, COATING, AND COATING FILM THEREOF - 特許庁

酸化重合硬化型油性塗料用ドライヤー及びそれを用いた塗料例文帳に追加

DRYER FOR OXIDATIVE POLYMERIZATION-CURABLE OILY COATING AND COATING COMPRISING THE SAME - 特許庁

次に、基板を１０５０℃でドライ酸化し、トレンチコーナーを丸める。例文帳に追加

Then the substrate is dry-oxidized at 1,050°C to round off a trench corner. - 特許庁

ドライクリーニング用洗浄剤の酸化劣化と着色を防止すること。例文帳に追加

To provide a cleaner for dry cleaning in which oxidation deterioration and discoloration are prevented. - 特許庁

次に、基板を１０５０℃でドライ酸化し、トレンチコーナーを丸める。例文帳に追加

Then, the substrate is dry-oxidized at 1,050°C, and trench corners are rounded. - 特許庁

続いて８００〜９５０℃でのパイロ酸化を行うことにより、ドライ酸化でトレンチ５のコーナー部に生じた窒化層１０を酸化する。例文帳に追加

Subsequently pyro-oxidization is performed at 800-950°C to oxidize a nitride layer 10 produced at the corner part of the trench 5 by the dry-oxidization. - 特許庁

酸化性雰囲気は、Ｏ_2ガスを含むドライ酸化性雰囲気か、又は水蒸気を含むパイロ酸化性雰囲気とする。例文帳に追加

The oxidizing atmosphere may be a dry oxidizing atmosphere containing an O2 gas or a pyro oxidizing atmosphere. - 特許庁

エッチングガスを変更することなく、導電性層63のドライエッチングに連続して酸化シリコン層62をドライエッチングできる。例文帳に追加

The silicon oxide layer 62 can be dry-etched continuously to the dry etching of the conductive layer 63 without changing an etching gas. - 特許庁

基板に形成された銅膜を異方的にドライエッチングする銅の異方性ドライエッチング方法は、銅膜に対して異方性酸化処理を施す工程と、酸化処理によって形成された酸化銅をハロゲンを含有しない有機酸によりドライエッチングする工程とを含む。例文帳に追加

The anisotropic dry etching method of copper for anisotropically performing dry etching to a copper film formed on a substrate includes: a process for performing anisotropic oxidation treatment to the copper film; and a process for performing dry etching to a copper oxide formed by oxidation treatment using an organic acid without containing any halogens. - 特許庁

一酸化窒素（ＮＯ）産生物質をドライシンドロームの改善のための有効成分とする。例文帳に追加

A nitrogen monoxide (NO) production substance is taken as an active ingredient for amelioration of dry syndromes. - 特許庁

供給する燃料ガス及び酸化ガスは、ドライ状態であり、ボンベ１５１から供給される。例文帳に追加

Supplying fuel gas and oxidative gas are in a dry state and supplied from a cylinder 151. - 特許庁

燃料電池の運転状態に応じて酸化剤を加湿することでドライアップを防止する。例文帳に追加

To prevent drying up of a fuel cell by humidifying an oxidant in accordance with its operating state. - 特許庁

熱駆動循環方式による超臨界二酸化炭素流体によるドライクリーニング装置とその方法例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR DRY-CLEANING OF HEAT DRIVING CIRCULATION TYPE WITH SUPERCRITICAL CARBON DIOXIDE FLUID - 特許庁

酸化剤システムは、フィードシステム２８およびフィードライン３２を介して打ち上げ推進装置１２にガス状態の酸化剤を供給する。例文帳に追加

The oxidizer system supplies a gaseous oxidizer to the boost propulsion device 12 via a feed system 28 and a feed line 32. - 特許庁

次に、酸化層３２上にフォトレジスト３１を形成して、第１のドライエッチング条件により、酸化層３２をエッチングする。例文帳に追加

Next, a photoresist 31 is formed on the oxide layer 32, and the oxide layer 32 is etched under a first dry-etching condition. - 特許庁

この酸化膜１４上にレジストによってレジストパターンを形成し、ＣＦ系ドライエッチングにより酸化膜１４をパターニングする。例文帳に追加

A resist pattern is formed on the oxide film 14 by using a resist, and the oxide film 14 is subjected to patterning by CF dry etching. - 特許庁

シリコン基板２０の（１００）面に熱酸化膜（ＳｉＯ_２）２２を形成し、リソグラフィーとドライエッチングにより熱酸化膜２２をパターン化する。例文帳に追加

A thermally oxidized film (SiO_2) 22 is formed on a (100) face of the silicon substrate 20 and then the thermally oxidized film 22 is patternized by lithography and dry etching. - 特許庁

酸化重合硬化型塗料用ドライヤーとして、従来になく硬化性に著しく優れる酸化重合硬化型塗料用ドライヤー、これを用いた塗料、及びその硬化塗膜を提供すること。例文帳に追加

To provide such a drier for use in the oxidative polymerization-curable paint as is considerably more excellent in the curability than heretofore, as a drier for use in oxidative polymerization-curable type paints, and to provide a paint using the same and a cured film of the same. - 特許庁

酸化重合硬化型塗料用ドライヤーとして、従来になく硬化性に著しく優れる酸化重合硬化型塗料用ドライヤー、これを用いた塗料、及びその硬化塗膜を提供すること。例文帳に追加

To provide a dryer for an oxidative polymerization-curable coating extremely more excellent in curability than ever before; and to provide a coating and a cured coating film thereof. - 特許庁

酸化重合乾燥型印刷インキのドライヤーとして、従来のコバルト・マンガン系ドライヤーと同等又はそれ以上の乾燥促進性を有する印刷インキ用ドライヤーを提供する。例文帳に追加

To provide a dryer for a printing ink that exhibits drying promoting capability equal with or superior to that of a conventional cobalt/manganese dryer as a dryer for oxidative polymerization-drying printing inks. - 特許庁

ウエットな方法又はドライな方法のいずれか一方により形成された酸化物薄膜と、前記ウエットな方法又はドライな方法の他方により前記酸化物薄膜の上に形成された酸化物薄膜とからなることを特徴とするマイクロアクチュエータを解決手段とする。例文帳に追加

Such a microactuator is composed of a thin oxide film which is formed by either a wet method or a dry method, and a thin oxide film which is formed by the other. - 特許庁

加圧された二酸化炭素ガスを貯留するガスタンク３６と、液体二酸化炭素を二酸化炭素ガスによりドライアイス又はドライスノーにして被洗浄物に噴射可能に設けられた洗浄ノズル３７，３８とを備える。例文帳に追加

Further the washing apparatus is provided with a gas tank 36 for storing pressurized gaseous carbon dioxide and washing nozzles 37, 38 which are provided so that the liquid carbon dioxide can be turned to dry ice or dry snow by the gaseous carbon dioxide and can be injected to the matters to be washed. - 特許庁

こんにゃく粉、グルコマンナン又はでん粉・くず粉・増粘多糖類・寒天・水酸化カルシウムを使用原料としたフリーズドライ用こんにゃくと各種フリーズドライ可能なスープと混合しフリーズドライをかけたことを特徴とするフリーズドライインスタント食品の製造方法。例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING FREEZE-DRIED INSTANT FOOD COMPRISING MIXING FREEZE-DRY KONJAK MADE OF KONJAK POWDER, GLUCOMANNAN OR STARCH, KUZU VINE POWDER, THICKENING POLYSACCHARIDE, AGAR AND CALCIUM HYDROXIDE, WITH VARIOUS SOUPS WHICH CAN BE FREEZE-DRIED, AND SUBJECTED TO FREEZE-DRY - 特許庁

ヘチマ及び／又はその加工物と一酸化窒素（ＮＯ）産生物質とを併用することにより、それらの相乗的な生理的効果によって、生体細胞の水透過機能を亢進させて、ドライマウス、ドライアイ、ドライスキンなどのドライシンドロームの症状を改善する。例文帳に追加

By jointly using luffa and/or the processed substance thereof and a nitrogen monoxide (NO)-produced substance, by their multiplication physiological effects, the water permeation function of living cells is accelerated to remedy the dry syndromes such as a dry mouth, dry eyes and a dry skin. - 特許庁

（１）（ｉ）酸化亜鉛源、(ii）酸化アルミニウム源、及び（iii）酸化リン源との混合物からなるドライゲルを、水蒸気及びトリエチルアミンの存在下で９０〜２００℃の温度に保持する。例文帳に追加

(1) A dry gel comprising a mixture composed of (i) a zinc oxide source, (ii) an aluminum oxide source, and (iii) a phosphorus oxide source is held at 90 to 200°C in the presence of steam and triethyl amine. - 特許庁

水和酸化物層，酸化皮膜層及びアルミニウム富裕層を形成するには、基体金属にブラスト又はドライホーニング処理を施した後、温度２００〜２５０℃の高温純水中において１〜１０時間の酸化処理を行う。例文帳に追加

In order to form the hydrated oxide layer, the oxide film layer and the aluminum enriched layer, the substrate metal is subjected to blasting or dry-honing, and oxidation for 1-10 hours in high-temperature pure water at 200-250°C. - 特許庁

その後、基板を抵抗加熱炉に装着して８００〜１０００℃の温度に加熱してウェット酸化法又はドライ酸化法にてシリコン酸化膜１４を形成する（ｄ）。例文帳に追加

After that, the substrate is fitted to a resistance heating furnace and is heated at 800-1000°C, thus forming a silicon oxide film 14 by the wet oxidation method or the dry oxidation method (d). - 特許庁

（３）（ｉ）酸化亜鉛源、(ii）酸化アルミニウム源、及び（iii）酸化リン源との混合物からなるドライゲルを、水蒸気及びトリプロピルアミンの存在下で９０〜２００℃の温度に保持する。例文帳に追加

(3) The dry gel comprising the mixture composed of (i) the zinc oxide source, (ii) the aluminum oxide source and (iii) the phosphorus oxide source is held at 90 to 200°C in the presence of steam and tripropyl amine. - 特許庁

（２）（ｉ）酸化亜鉛源、(ii）酸化アルミニウム源、（iii）酸化リン源、及び（iv）トリエチルアミンとの混合物からなるドライゲルを、水蒸気の存在下で９０〜２００℃の温度に保持する。例文帳に追加

(2) The dry gel comprising the mixture composed of (i) the zinc oxide source, (ii) the aluminum oxide source, (iii) the phosphorus oxide source, and (iv) the triethyl amine is held at 90 to 200°C in the presence of the steam. - 特許庁

その後、（ｉ）にてドライ酸化雰囲気中で酸素濃度を希釈して基板１の表面を熱酸化し、溝部分に素子分離熱酸化膜５を形成する。例文帳に追加

Thereafter, the surface of the substrate 1 is thermally oxidized in a dry oxidizing atmosphere which is reduced in oxygen concentration, and an element isolation thermal oxide film 5 is formed on the groove (i). - 特許庁

二酸化炭素深海投入装置１は、ドライアイスと液体二酸化炭素とを混合して二酸化炭素スラリーを形成する混合装置５０を備える。例文帳に追加

The apparatus 1 for throwing carbon dioxide into the deep sea is provided with a mixing unit 50 in which dry ice is mixed with liquid carbon dioxide to form carbon dioxide slurry. - 特許庁

（ｄ）にて酸化防止膜３、パット酸化膜２をドライエッチング等により除去し、（ｅ）、（ｆ）にてパット酸化膜２を後退させ等方性エッチング法を用いて露出したシリコン基板１を除去する。例文帳に追加

An antioxidant film 3 and a pad oxide film 2 are removed by dry etching or the like in a step (d), and the pad oxide film 2 is made to retreat, and the exposed part of a silicon substrate 1 is removed through an isotropic etching method in steps (e) and (f). - 特許庁

低温二酸化炭素を浅海に放出し、所定の深度まで自由沈降させる二酸化炭素の浅海投入システムにおいて、二酸化炭素を、ドライアイスを混合した低温スラリー塊１として浅海に放出する。例文帳に追加

In the system for throwing carbon dioxide into a shallow sea, by discharging cryostatic temperature carbon dioxide into the shallow sea to freely sediment the same up to a predetermined depth, carbon dioxide is discharged into the shallow sea as cryostatic temperature slurry lumps 1 mixed with dry ice. - 特許庁

酸化・ドライブをおこない、各トレンチ２３内を酸化物で満たすとともに、隣り合うトレンチ２３間の半導体部分を酸化させることにより、複数のトレンチ２３がつながった幅の広いトレンチ領域２が、酸化物４で埋められた状態となる。例文帳に追加

Then, the inside of each trench 23 is filled up with an oxide by performing oxidization and drive and, at the same time, the wide trench region 2 in which plural trenches 23 are connected to each other is filled up with the oxide 4 by oxidizing the semiconductor section between adjacent trenches 23. - 特許庁

次に、スルー酸化膜５上にドライエッチング工程によって所定の膜を形成し、ドライエッチング工程の後に、スルー酸化膜５の表面を除去する酸化膜表面除去工程を行い、その後、スルー酸化膜５および所定の膜を通してそれぞれの下方にイオン注入することことで、不純物層を効果的に取り除く。例文帳に追加

Next, a prescribed film is formed by a dry etching process on the through oxide film 5, after the dry etching process, an oxide film surface removing process removing the surface of the through oxide film 5 is performed, and thereafter, an impurity layer is effectively removed by injecting ions through the through oxide film 5 and the prescribed film downward of the films. - 特許庁

ドライバイオマス及び有機系廃棄物の不完全燃焼ガスに含まれる一酸化炭素を用いてメタンを大量生産する技術を提供する。例文帳に追加

To provide a method for mass-producing methane using carbon monoxide which is contained in the imperfect combustion gas of a dry biomass and an organic waste. - 特許庁

ドライエッチングを行う前に、少なくともエッチングされた半導体膜の側壁を酸化処理することが好ましい。例文帳に追加

It is preferred that the at least sidewalls of the etched semiconductor film are subjected to an oxidation processing, before performing the dry etching. - 特許庁

モノカルボン酸と水からなるドライエッチング及び／又はアッシングによる損傷を受けた、銅酸化物を含む銅変質層の残渣除去液。例文帳に追加

The residue removing liquid of the copper deteriorated layer contains copper oxide damaged by dry etching and/or ashing consisting of monocarboxylic acid and water. - 特許庁

この基板は酸化珪素の真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などのドライコーティングにより製造することが可能である。例文帳に追加

This substrate can be manufactured by the dry coating of silicon oxide by vacuum deposition method, sputtering method, CVD method, and the like. - 特許庁

その際、酸素プラズマ処理によって形成される半導体層上の酸化膜をエッチングガスによってプラズマドライエッチングする。例文帳に追加

At that time, an oxide film on the semiconductor layer formed with an oxygen plasma processing is subjected to plasma dry etching with etching gas. - 特許庁

塩化白金含有ドライエッチング残留物を金属酸化物をパターニングしたウェハから取り除く方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for removing a dry etching residue containing platinum chloride from a wafer on which a metal oxide is patterned. - 特許庁

燃料ガスと酸化剤ガスとが対向流となる固体高分子型燃料電池において、ドライアップを抑制する。例文帳に追加

To suppress dry-up in a solid polymer electrolyte fuel cell in which fuel gas and oxidant gas are formed in counterflow configurations. - 特許庁