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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > ビーム輸送に関連した英語例文

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ビーム輸送の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 72



例文

輸送空間内の空間電荷を中和することによってイオンビーム輸送効率を向上させることができ、かつメンテナンスのコストを低減できるイオン質量分離装置、その装置を備えたイオン注入装置、及びイオン質量分離方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an ion mass separation device which enhances transportation efficiency of an ion beam by neutralizing a space charge in a transportation space, and reduces costs for maintenance, an ion implanter, and also to provide a an ion mass separation method. - 特許庁

リヤジャッキおよびビームが取り付けられていた取り付け孔のように、元々旋回フレームに設けられている孔などの取り付け部位を利用して、輸送用サポート150を取り付けることで、輸送時の旋回体2の傾きを防止するように構成した。例文帳に追加

The inclination of a revolving body 2 during its transport is prevented by mounting a support 150 for transport by using a mounting part such as a hole originally formed in a revolving frame like a mounting hole to which a rear jack or a beam is mounted. - 特許庁

上記課題を解決するために、偏極イオンビーム発生装置は、無偏極のイオンビームを発生するイオン源と、当該イオン源からの無偏極イオンビームを標的に入射するビーム輸送手段と、この標的表面の原子から弾性散乱された偏極イオンを取り出すイオン取出し手段とからなることを特徴とする手段を採用した。例文帳に追加

This polarized ion beam generating device adopts a means comprising an ion source to generate a non-polarized ion beam, a beam transporting means to enter the non-polarized ion beam from the ion source in a target, and an ion extracting means to extract a polarized ion elastically scattered from an atom on this target surface. - 特許庁

質量分析電磁石3入り口から質量分析スリット4までのビーム偏向及びビーム輸送区間における質量分析磁石内部のビームラインの圧力上昇に伴う実質ビーム損失を、質量分析スリットより下流のウエハ近傍領域の圧力測定値からの推定により補正する。例文帳に追加

Substantial beam loss accompanied with beam deflection from a mass spectrometric analysis electromagnet 3 inlet to a mass spectrometric analysis slit 4 and pressure rise of a beam line in the mass spectrometric analysis magnet in the beam transport section is corrected by estimation from the pressure measured value in the vicinity of wafer region at a further downstream than the mass spectrometric analysis slit is. - 特許庁

例文

このイオンビーム照射装置10は、レーザー駆動型のイオン・電子発生装置20と、イオン輸送装置30とを組み合わせた構成と考えることができ、イオン・電子発生装置20から発した指向性の低いイオンビームを、イオン輸送装置30において指向性を高め、あるいは集束して末端まで導く。例文帳に追加

An ion beam irradiation apparatus 10 can be regarded as a structure made by combining an ion/electron generator 20 of a laser-actuated type with an ion transporter 30, and guides ion beams of low directivity generated by the ion/electron generator 20 to the end by enhancing the directivity of them or focusing them in the ion transporter 30. - 特許庁


例文

荷電粒子照射装置1は、患者102を中心とした円環軌道を移動し所定位置から患者102に向けて荷電粒子ビームを照射する照射手段3と、照射手段3に荷電粒子ビーム輸送する輸送手段104と、患者102を乗せて軸線Aに沿って移動する治療台2とを備えている。例文帳に追加

This charged particle irradiation device 1 comprises an irradiation means 3 moving on a circular track with a patient 102 as a center for irradiating the charged particle beam toward the patient 102 from a predetermined position, a transporting means 104 for transporting the charged particle beam to the irradiation means 3, and the treatment table 2 moving along an axis A in a state the patient 102 lies thereon. - 特許庁

イオン源から引き出されたイオンビーム52を輸送してウエハ55に注入するに際し、該イオンビームをウエハの手前の輸送区間においてプラズマシャワーを経由させるようにしたイオン注入方法であり、アークチャンバー10とシャワーチューブ11とによるプラズマシャワーをリゾルビングアパチャー体54の下流側の直近位置に配置した。例文帳に追加

The ion injection method enables an ion beam 52 to go through a plasma shower at the transportation area in front of a wafer 55 when the ion beam 52 extracted from an ion source is transported and injected to the wafer 55, and a plasma shower consisting of an arc chamber 10 and a shower tube 11 is placed near a resolving aperture body 54 at the downstream. - 特許庁

様々な影響を受けて変化するビーム輸送系内でのビームのずれを簡易な設備により補正するシンクロトロン加速器の制御方法、シンクロトロン加速器、並びに、シンクロトロン加速器を制御するためのコンピュータプログラム及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体を提供すること。例文帳に追加

To provide a control method of a synchrotron accelerator which corrects the deviation of beams inside a beam transport system varying by receiving various effects including, a synchrotron accelerator, a computer program for controlling the synchrotron accelerator, and a computer-readable memory medium. - 特許庁

荷電粒子ビーム輸送系で使用されるα電磁石の前面ヨーク部に設ける補正コイルを省いてα電磁石部分の製作コストを低減すると共に、α電磁石の組立精度を維持できるようなビームアライメント装置を提供する。例文帳に追加

To provide a beam aligning apparatus which reduces the manufacturing cost of an α electromagnet section omitting correcting coils to be provided in the front yoke section of an α electromagnet to be used in a charged particle beam transportation system, and besides maintains the precision of assembling of the α electromagnet. - 特許庁

例文

磁石1の発生する磁束密度ベクトルBとプラズマ中に発生する電界ベクトルEとの外積ベクトルE×Bの方向が、被処理物体の方向若しくはイオンビームの引き出し方向を向くように、磁石1a,…,1dを配置し、被処理物体の方向若しくはイオンビームの引き出し方向にプラズマを輸送する。例文帳に追加

and plasma is carried in the direction towards the object to be processed or in the extraction direction of the ion beam. - 特許庁

例文

変換電極6に入射するイオンビームの入射方向と、二次電子出射口63の中心64とシンチレータ71の中心73とを結ぶ線75とが、鋭角をなすように、イオンビーム輸送部5,変換電極6および二次電子検出系7は設置されている。例文帳に追加

An ion beam transport part 5, a conversion electrode 6, and a secondary electron detecting system 7 are arranged so that the incident direction of ion beams incoming in the conversion electrode 6 and a line 75 connecting the center 64 of a secondary electron outgoing opening 63 and the center 73 of a scintillator 71 form an acute angle. - 特許庁

被処理基板を保持するステージの構成を複雑化することなくイオンの注入角度を制御できるイオン注入方法、イオン注入装置及びイオン注入装置用ビーム輸送管を提供すること。例文帳に追加

To provide an ion implantation method, an ion implantation device, and a beam transport pipe for the ion implantation device capable of controlling an ion implantation angle without complicating the structure of a stage for holding a processed substrate. - 特許庁

このイオン注入装置は、加速管8よりも下流側かつ分析スリット12よりも上流側におけるイオンビーム4の輸送経路に不活性ガス36を導入するガス導入手段30を備えている。例文帳に追加

The ion implantation device includes a gas introduction means 30 for introducing an inert gas 36 arranged in the transportation path of the ion beam 4 downstream of the acceleration tube 8 and upstream of the analysis slit 12. - 特許庁

広範囲のイオンビーム電流調整範囲をもち、しかも省電力且つ長メンテナンス周期で、間違って多くの照射線量が下流側に輸送されてしまう虞れのない加速器システムを提供すること。例文帳に追加

To provide an accelerator system having a wide ion beam current control range and preventing a possibility that a great exposure dose from being transported on the downstream side by mistake at power saving and a long maintenance period. - 特許庁

超電導偏向電磁石が設けられたビーム輸送装置を簡易な構成によって設置することにより、小型かつ軽量な回転照射治療装置を提供する。例文帳に追加

To provide a small-sized lightweight rotary irradiation therapy equipment having a beam transportation device, that contains a superconductive deflection electromagnet, with a simple structure. - 特許庁

ターゲット13の表面は、レーザビームの集光点よりも入射側にずらして配置されており、プラズマは指向性がよくかつ高い密度を保ちながら、プラズマの発生地点よりも離れた領域まで輸送される。例文帳に追加

The surface of the target 13 is arranged by shifting at an incident side rather than a light-concentrating point of the laser beam, and the plasma is transported to a zone separated from the generating point of the plasma while the plasma keeps high density at good directivity. - 特許庁

輸送途中のイオンビームの質を調査、評価でき、製品特性の微妙な変化を抑えるイオン注入装置及び半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of an ion implanting device and a semiconductor device in which the quality of ion beam on the way of transportation can be investigated and evaluated and a delicate change of the product property can be suppressed. - 特許庁

マルチビームレーザを露光に用いた画像形成装置において、経時変化に伴い感光体表面の電荷輸送層の磨耗が進んでも、長期間にわたって安定した画像出力を得る。例文帳に追加

To obtain stable image output over a long period even if the wear of a charge-transporting layer in the surface of a photoreceptor progresses with the lapse of time in an image forming apparatus using a multibeam laser for an exposure. - 特許庁

回転照射装置は、粒子線治療に使用されるイオンビーム輸送するビーム送装置11及び照射装置4が設けられる回転ガントリー3,回転ガントリー3のフロントリング19を支持するラジアル支持装置61A,61B、及び回転ガントリー3のリアリング20を支持するラジアル支持装置61A,61Bを備えている。例文帳に追加

The rotary irradiation apparatus has a rotary gantry 3 in which a beam conveying device 11 for conveying the ion beam employed for corpuscular beam treatment and an irradiation apparatus 4 are formed, radial supporting devices 61A and 61B which support the front ring 19 of the rotary gantry 3, and radial supporting devices 61A and 61B which support the rear ring 20 of the rotary gantry 3. - 特許庁

プロジェクタ−カメラ・システムにおいて光ノイズまたはプロジェクタからカメラの画像センサへの光ビームのパスにある光散乱物体による光の歪みは光輸送行列Tに対する簡単な修正により緩和、または除去、される。例文帳に追加

In a projector camera system, the distortion of light caused by light noise or a light scattering object on a light beam path from a projector or an image sensor of a camera is relaxed or removed by simple correction for the light transport matrix T. - 特許庁

これにより、流体60は供給装置20から輸送され、第一導引部42へ流れ込み、続いて流体60は第一導引部42を流れた後、レーザービーム52とともに工作対象物99に加工を行い、最後に流体60は第二導引部44を経て回収装置30へ流れ込む。例文帳に追加

With this structure, the fluid 60 is transported from the supply device 20 to flow into the first introduction part 42, and the fluid 60 flows through the first introduction part 42, thereafter machines the machining target 99 together with the laser beam 52 to pass through the second introduction part 44 to flow into the collection device 30 finally. - 特許庁

例文

上記目的を達成するための手段として、本発明の粒子線照射制御装置は、治療シーケンスの中にビーム軌道補正計算処理を組み込み、照射対象へのイオンビームの照射が終了した後、ビーム輸送系に設置された電磁石への励磁電流値のデータを、補正後の補正励磁電流値に基づいて更新して記憶する記憶装置と、その後は、更新後の励磁電流値に基づいて電磁石の励磁電流を制御する制御装置を備える。例文帳に追加

This corpuscular beam irradiation controller incorporating beam orbit correcting computation processing in a treatment sequence, includes a storage device for updating and storing data of exciting current values to an electromagnet installed in a beam transport system, based on a corrected exciting current value after corrected after irradiation of ion beams for an irradiation object is completed, and a control device for controlling the exciting current for the electromagnet based on the exciting current value after updated. - 特許庁

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