「メチルイソブチルケトン」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

水と相分離する有機溶媒としてはメチルイソブチルケトンなどを用いる。例文帳に追加

As the organic solvent which carries out phase separation with water, methyl-isobutyl ketone or the like is used. - 特許庁

メチルイソブチルケトンに対する溶解性に優れる、ジエポキシ化合物を提供する。例文帳に追加

To provide a diepoxy compound excellent in solubility in methyl isobutyl ketone. - 特許庁

有機溶剤としては、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等を用いる。例文帳に追加

Methyl ethyl ketone, methyl isopropyl ketone, diisopropyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like can be used as the organic solvent. - 特許庁

メチルイソブチルケトン１００重量部に対して、３０〜７０重量部のトルエン又はイソオクタンを含有する。例文帳に追加

Toluene or isooctane of 30-70 pts.wt. is added to 100 pts.wt. of methyl isobutyl ketone. - 特許庁

メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）の生成および回収のための低圧一段階気相プロセスを開示する。例文帳に追加

To disclose a low-pressure one-step gas-phase process for producing and recovering methyl isobutyl ketone (MIBK). - 特許庁

メチルイソブチルケトン１００重量部に対して、５〜１５重量部のイソプロピルアルコールを含有する。例文帳に追加

Isopropyl alcohol of 5-15 pts.wt. is added to 100 pts.wt. of methyl isobutyl ketone. - 特許庁

セルロースとアルカリ金属水酸化物を原料として得られるアルカリセルロースを、メチルイソブチルケトン、メタノール、及び水を含む洗浄液を用いて洗浄し、次いでメチルイソブチルケトンを用いて洗浄して得られた洗浄アルカリセルロースと、アルキレンオキシドとを反応させることを特徴とするヒドロキシアルキルセルロースの製造方法。例文帳に追加

The manufacturing method for the hydroxyalkyl cellulose comprises allowing a washed alkali cellulose, obtained by washing alkali cellulose obtained from cellulose and an alkali metal hydroxide as raw materials with a washing liquid comprising methyl isobutyl ketone, methanol and water and subsequently with methyl isobutyl ketone, to react with an alkylene oxide. - 特許庁

前記重合溶媒は、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メチルイソブチルケトンから選択された少なくとも１以上の溶媒が好ましい。例文帳に追加

Preferably, the polymerization solvent is at least one selected among propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl lactate and methyl isobutyl ketone. - 特許庁

前記溶媒として、酢酸ブチルおよびメチルエチルケトンを含む混合溶媒、および、メチルイソブチルケトンおよびメチルエチルケトンを含む混合溶媒の少なくとも一方の混合溶媒を用いる。例文帳に追加

As the solvent, at least one of a mixed solvent containing butyl acetate and methyl ethyl ketone and a mixed solvent containing methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone. - 特許庁

エーロゾル組成物は、ゆっくりと蒸発する溶媒、例えば、トルエン、メチルイソブチルケトン、ミネラルスプリット、フルオロカーボン推進剤、および石油系油またはシリコーン油から選ばれた基材からなる。例文帳に追加

The aerosol composition comprises a slowly vaporizing solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone and mineral spirit, a fluorocarbon propellant and a base material selected from petroleum based oils and silicone fluids. - 特許庁

アセトン、メチルエチルケトン、及びメチルイソブチルケトンの２分子縮合物（Ｃ）の合計含有量が１０〜１０００ｐｐｍである熱可塑性ポリウレタンウレア樹脂粉末（Ａ）。例文帳に追加

There is disclosed a thermoplastic polyurethaneurea resin powder (A) in which total content of bimolecular condensates (C) of acetone, methylethyl ketone and methylisobutyl ketone is 10-1,000 ppm. - 特許庁

前記溶剤系は、好ましくは溶剤の重量に対して約４０重量％から約９５重量％の酢酸ｎ−ブチルと、約５重量％から約６０重量％のメチルイソブチルケトンを含む。例文帳に追加

The solvent system preferably includes about 40 wt% to about 95 wt% n-butyl acetate with respect to the weight of the solvent and about 5 wt% to about 60 wt% methyl isobutyl ketone. - 特許庁

気相のメチルイソブチルケトンへの１段階でのアセトン（ＤＭＫ）の自己縮合における新規な複合触媒として、合成ナノＺｎＯ（ｎ−ＺｎＯ）で処理したルテニウム／活性炭（Ｒｕ／ＡＣ）を初めて用いる。例文帳に追加

To use ruthenium/activated charcoal (Ru/AC) treated with synthesized nano-ZnO (n-ZnO) for the first time as a novel composite catalyst in one-step self-condensation of acetone (DMK) to methyl isobutyl ketone in gas phase. - 特許庁

メチルイソブチルケトンの副生を抑制し、大スケール反応においても収率よく２−（イソプロピルアミノ）エタノールを製造する方法を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a method for producing 2-(isopropylamino)ethanol in a good yield even in a large scale production by inhibiting the byproduction of methyl isobutyl ketone. - 特許庁

貯蔵安定性に優れ、メチルイソブチルケトンなどの有機溶剤を必要とせず、ＴＶＯＣが放出しない変成シリコーン系接着剤、及び該接着剤を用いた床構造体を提供する。例文帳に追加

To provide a modified silicone adhesive having excellent storage stability, dispensing with the use of an organic solvent such as methyl isobutyl ketone and free from the release of TVOC and provide a floor structure produced by using the adhesive. - 特許庁

撥水剤としては、カーボン粉末などの撥水材料とメチルイソブチルケトンなどの水と相分離する有機溶媒とからなるものを用いる。例文帳に追加

For the water-repellent agent, a material composed of a water-repellent material such as carbon powder or the like and an organic solvent such as methyl isobutyl ketone which phase separates from water is used. - 特許庁

スラリー化されていないメチルイソブチルケトンに、重量平均分子量が小さい第１のシアネート樹脂を混合撹拌した後、エポキシ樹脂を混合撹拌して第１の溶液を得る。例文帳に追加

The resin varnish is obtained by the following process: A first cyanate resin of lower weight-average molecular weight is mixed with an unslurried methyl isobutyl ketone followed by agitation, and an epoxy resin is then mixed and agitated to obtain a first solution. - 特許庁

塩の形成は、エスシタロプラムを、アセトンまたは大きな分子量を有するケトン（例えばメチル−イソブチルケトン）のような無水の溶剤に溶解させて実施するのが好ましい。例文帳に追加

The salt formation is preferably performed by dissolving escitalopram in an anhydrous solvent such as acetone or a large molecular weight ketone (such as methyl-isobutyl ketone). - 特許庁

更に好ましくは、前記ケトン系溶剤は、アセトン、メチルエチルケトン、及びメチルイソブチルケトンから選択される１種以上であることを特徴とする溶剤型エポキシ接着剤。例文帳に追加

The ketonic solvent is more preferably at least one selected from the group consisting of acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. - 特許庁

有機溶媒、特に、積層板調製用の組成物に汎用されるメチルイソブチルケトンに対する溶解性に優れる、エステル結合及びメソゲン骨格を有するジエポキシ化合物を提供する。例文帳に追加

To provide a diepoxy compound having an ester bond and a mesogenic skeleton, with excellent solubility in an organic solvent, especially in methyl isobutyl ketone widely used for a composition for preparation of a laminated board. - 特許庁

また、前記有機溶剤がアセトアルデヒド、アセトン、エチルベンゼン、エチルメチルエーテル、キシレン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、トルエン、ベンゼン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの何れかである。例文帳に追加

The organic solvent is any of acetaldehyde, acetone, ethylbenzene, ethylmethylether, xylene, cyclohexanone, cyclohexane, dimethylether, diethylether, tetrahydrofuran, toluene, benzene, methylisobutylketone, or methylethylketone. - 特許庁

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、アルコール溶媒Ａと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｂとを含む。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes an alcohol solvent A, and a solvent B made of methyl isobutyl ketone. - 特許庁

活性炭に有機物質を添着してなる脱臭剤及び脱臭フィルターであって、該有機物質が、沸点が１５０℃以上で、融点が１００℃以下であり、かつ該有機物質に対するメチルイソブチルケトンの無限希釈活量係数が１０以下であることを特徴とする脱臭剤および脱臭フィルター。例文帳に追加

The deodorant, where an organic substance is stuck to active carbon, and the deodorant filter are provided, where the boiling point of the organic substance is ≥150°C and the melting point is ≤100°C and also the infinite dilution activity coefficient of methyl isobutyl ketone with respect to the organic substance is ≤10. - 特許庁

活性炭に添着される有機物質に対するメチルイソブチルケトンの無限希釈量活量係数は３以下、２−メチルフランの無限希釈活量係数は５以下、アセトアルデヒドの無限希釈活量係数は５以下、酢酸の無限希釈活量係数は１０以下であることが好ましい。例文帳に追加

It is preferable that the infinite dilution activity coefficient of methyl isobutyl ketone with respect to the organic substance to be stuck to the active carbon is ≤3, and the infinite dilution activity coefficient of 2-methyl furan is ≤5, while the infinite dilution activity coefficient of acetaldehyde is ≤5, and the infinite dilution activity coefficient of acetic acid is ≤10. - 特許庁

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いメチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｂとを含む。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, and a solvent B made of methyl isobutyl ketone and higher in solubility for the resist layer than the solvent A. - 特許庁

指紋付着低減コート液と、それの製造方法と、それが基材に塗布されている物品において、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、又はシクロヘキサノンを主成分とする有機化合物と、ウレタンアクリレートを主成分とする有機窒素化合物とが、それらの混合溶液に対して、それぞれ固形分で１０重量％〜４０重量％ずつ混合されて混合溶液が作られている。例文帳に追加

In regards to the coating liquid for reducing fingerprint attachment, the method for producing the same, and the article of which the base material is coated with the same, a mixed solution is produced by mixing each 10-40 wt.% in solid content of an organic compound mainly containing methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone or cyclohexanone, and an organic nitrogen compound mainly containing urethane acrylate, respectively with respect to the mixed solution. - 特許庁

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｃとを含む。例文帳に追加

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, an alcohol solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A, and a solvent C made of methyl isobutyl ketone. - 特許庁

特定の酸を加水分解・重縮合触媒とし、特定のシラン化合物を加水分解・重縮合させることによって得られたシラン化合物の加水分解・重縮合物を主成分とする無機系被膜形成組成物に、アルコキシシラン変性アクリル樹脂を含有する有機・無機複合体を主成分とする有機・無機重合体組成物、または、メチルイソブチルケトンを組み合わせた低温被膜形成組成物。例文帳に追加

This film-forming composition is prepared by combining an inorganic film-forming composition mainly comprising a hydrolyzate- polycondensate of a silane compound prepared by subjecting a specific silane compound to hydrolysis and polycondensation by using a specific acid as a hydrolysis-polycondensation catalyst with methylisobutylketone or an organic- inorganic polymer composition mainly comprising an organic-inorganic composite containing an alkoxysilane-modified acrylic resin. - 特許庁

トルエン、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、およびシクロヘキサノンから選ばれる少なくとも１種類を含む溶剤に、ポリビニルアセタール系樹脂を主成分とする樹脂組成物を溶解して調製された溶液を、基材の表面にシート状に流延し、溶剤を蒸発させて高分子フィルムを得る工程、ならびに該高分子フィルムを延伸する工程を含む、位相差フィルムの製造方法。例文帳に追加

The method for manufacturing a retardation film comprises a process for obtaining a polymer film by dissolving a resin composition containing a polyvinyl acetal resin as an essential component into a solvent comprising at least one selected from toluene, ethyl acetate, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone and cyclohexanone, casting the prepared solution into the surface of the substrate to be a sheet shape, and vaporizing the solvent and a process for stretching the polymer film. - 特許庁