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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > ラジかるッに関連した英語例文

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ラジかるッの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 881



例文

ラジカル支援ドライエチング装置例文帳に追加

RADICAL-SUPPORTING DRY ETCHING DEVICE - 特許庁

水素ラジカルやフラジカルなどの非イオン性励起種でチャネルエチ工程を実施する。例文帳に追加

The non-ionic excited species such as hydrogen radical and fluorine radical are used to perform a channel etch process. - 特許庁

ラジカル発生器35,36からのエチングラジカルRをラジカル導入口33,34から成膜チャンバ2の内端面4,5に沿て流入させる。例文帳に追加

Etching radicals R from the radical generators 35, 36 are made to flow in from the radical inlets 33, 34 along inner end surfaces 4, 5 of the deposition chamber 2. - 特許庁

ラジカル蒸着のためのシャワーヘド装置例文帳に追加

SHOWER HEAD DEVICE FOR RADICAL VAPOR DEPOSITION - 特許庁

例文

ラジカルアシストによるバチ式膜堆積例文帳に追加

RADICAL-ASSISTED BATCH FILM DEPOSITION - 特許庁


例文

被処理基板表面にフラジカルを供給すると共に水素ラジカルを供給し、フラジカルと水素ラジカルとの反応により、被処理基板表面を処理する。例文帳に追加

Fluorine radicals are supplied onto the surface of the substrate to be treated, and the surface of the substrate to be treated is treated by reaction of the fluorine radicals and hydrogen radicals. - 特許庁

ラジカルは上層34Aのサイドエチングに寄与する。例文帳に追加

The fluorine radical contributes to the side etching of the upper layer 34A. - 特許庁

ポリアミン−ポリフェノールハイブリド及びラジカル消去剤例文帳に追加

POLYAMINE-POLYPHENOL HYBRID AND RADICAL SCAVENGER - 特許庁

ブロク共重合体(A)は原子移動ラジカル重合で得ることができる。例文帳に追加

The block copolymer (A) can be obtained by atomic transfer radical polymerization. - 特許庁

例文

石英ガラス基板の表面処理方法及び水素ラジカルチング装置例文帳に追加

SURFACE TREATMENT METHOD OF QUARTZ GLASS SUBSTRATE AND HYDROGEN RADICAL ETCHING APPARATUS - 特許庁

例文

ブロク共重合体は原子移動ラジカル重合によて得られる。例文帳に追加

The block copolymer is obtained by atom-transfer radical polymerization. - 特許庁

水系ラジカルUVインク及びそれを用いるインクジェト記録方法例文帳に追加

AQUEOUS RADICAL UV INK AND INKJET RECORDING METHOD USING THE SAME - 特許庁

基板は、シールドを通過するラジカルを用いて主にエチングされる。例文帳に追加

The substrate is mainly etched by using radicals that pass through the shield. - 特許庁

基板は、シールドを通過するラジカルを用いて主にエチングされる。例文帳に追加

The substrate is mainly etched by using radicals that pass through the shield. - 特許庁

ラジカル発生方法、エチング方法、およびこれらに用いる装置例文帳に追加

RADICAL PRODUCING METHOD, ETCHING METHOD, AND APPARATUS USED FOR THEM - 特許庁

表面活性化装置の処理部70は、処理ガスをプラズマ励起させてラジカルを生成するラジカル生成ユニト80と、ラジカル生成ユニト80で生成されたラジカルを用いて、ウェハW_U、W_Lの表面W_U1、W_L1を活性化する処理ユニト81とを有している。例文帳に追加

A processing unit 70 of the surface activation apparatus includes a radical generation unit 80 for generating radicals, by making a processed gas excited by plasma and a processing unit 81 for activating surfaces W_U1, W_L1 of wafers W_U, W_L by the radicals generated by the radical generating unit 80. - 特許庁

少なくとも、ラジカル重合性化合物、光分解可能な膨張剤および光ラジカル重合開始剤を含むホログラフィク記録用組成物。例文帳に追加

The composition for holographic recording contains at least a radical polymerizable compound, a photo-degradable expanding agent, and a photo-radical polymerization initiator. - 特許庁

該含フ素樹脂(A)と、光ラジカル重合開始剤(E)と、ラジカル架橋剤(F)とを含有する感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The photosensitive resin composition comprises the fluororesin (A), a photo radical polymerization initiator (E) and a radical crosslinking agent (F). - 特許庁

そして、酸素ラジカルは変質硬化層のアシングには寄与しないので、酸素ラジカル濃度は高いままT2まで至る。例文帳に追加

Since oxygen radicals do not contribute toward ashing an altered hardened layer, the concentration of oxygen radicals is kept high up to T2. - 特許庁

ラジカル重合性化合物と、光重合開始剤と、ラジカル重合性の硬化性ワクスとを含む、光硬化型インク組成物。例文帳に追加

The photocurable ink composition contains a radical polymerizable compound, a photoinitiator and a radical polymerizable curable wax. - 特許庁

バルク部のアシングを行ている間は、酸素ラジカルが消費されているので、酸素ラジカル濃度は低くなた状態を保つ。例文帳に追加

While the ashing of the bulk part is carried out, the concentration of oxygen radicals is kept low because oxygen radicals are consumed. - 特許庁

ラジカル処理においてラジカルフラクスを広範囲かつ精密に制御することが可能な処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide processing equipment which can control radical flux precisely over a wide range in radical treatment. - 特許庁

ラジャーパトの成型時にブラジャーパトの周縁辺りに無理な圧縮を受けることがなく、全体に柔らかで身体になじみ易く、軽くて通気性のよいブラジャーパトの製造方法とする。例文帳に追加

To provide a production process for brassiere pads that are wholly soft and readily adaptable to the body without unreasonable compression around the periphery of the brassiere pads, when the pads are formed and has light weight and good air permeability. - 特許庁

チング装置の反応室1の内部に、CF_2ラジカルからCFラジカルラジカル組成を変化させる機能を有する触媒(銅部材)5を配設する。例文帳に追加

Inside the reaction chamber 1 of an etching device, a catalyst (copper member) 5 having the function of changing the radical composition from CF_2 radical of CF radical is disposed. - 特許庁

この目的のため、m_1個のラジカル分子R・とn_1個のスピントラプ剤分子Tとの反応と、m_2個のラジカル分子R・とn_2個のラジカルスカベンジャー分子Sとの反応による競争反応モデルを確立した。例文帳に追加

For this purpose, a competition reaction model by a reaction between m_1 radical molecules R* and n_1 spin trap agent molecules T, and a reaction between m_2 radical molecules R* and n_2 radical scavenger molecules S is established. - 特許庁

像保持体と、活性ラジカルを有する物質を作製する活性ラジカル作製手段と、前記活性ラジカルを有する物質を前記像保持体に供給する活性ラジカル供給手段と、を少なくとも備える画像形成装置及びプロセスカートリジ。例文帳に追加

The image forming apparatus and the process cartridge include at least: an image holder; an active radical production means producing a substance having active radicals; and an active radical supply means supplying the substance having active radicals to the image holder. - 特許庁

上層34Aのフラジカルによるエチングレートが、下層34Bよりも低い。例文帳に追加

The etching rate of the upper layer 34A using a fluorine radical is lower than that of the lower layer 34B. - 特許庁

チングラジカルRによる成膜チャンバ2内でのエチングレートを等しくできる。例文帳に追加

An etching rate can be equalized in the deposition chamber 2 by the etching radicals R. - 特許庁

ラジカルによるスラジトラブルを防止するスラジ抑制方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide a sludge control method by which a sludge trouble due to a radical can be prevented. - 特許庁

本発明のポリオール組成物は、米糠の抽出残渣である米糠ピチをラジカル化し、米糠ピチのラジカル化物を不飽和ジカルボン酸環状無水物に付加し、米糠ピチを付加した不飽和ジカルボン酸環状無水物のラジカル化物にジオール類を反応させて得られるものである。例文帳に追加

The polyol composition is obtained by causing a rice bran pitch, which comprises a residual extract of a rice bran, to form a free radical, subjecting the rice bran pitch having a free radical to an addition reaction with a cyclic unsaturated dicarboxylic acid anhydride, and reacting the addition product with a diol. - 特許庁

ラジカル重合開始剤の存在下、ラジカル重合性化合物がラジカル重合することによて形成されたポリマーマトリクスと、光カチオン重合開始剤と、カチオン重合性化合物とを具え、前記光カチオン重合開始剤の還元電位が、前記ラジカル重合開始剤から生じるラジカルの酸化電位よりも低くなるようにして、感光性材料を作製する。例文帳に追加

The photosensitive material comprises a polymer matrix prepared by radical polymerization of a radical polymerizable compound in the presence of a radical polymerization initiator, a photo-cation polymerization initiator and a cation polymerizable compound, and is produced by controlling the reduction potential of the photo-cation polymerization initiator to be lower than the oxidation potential of radicals generating from the radical polymerization initiator. - 特許庁

ラジエータの放熱能力を増加させ、ラジエータの放熱面積を小さくし、ラジエータのサイズの小型化を図るのに有利な空気調和機用室外機ユニトおよび空気調和機を提供する。例文帳に追加

To provide an outdoor unit for an air conditioner and an air conditioner, increasing the radiating capability of a radiator, reducing the radiation area of the radiator, and advantageous to reducing the size of the radiator. - 特許庁

窒素を含むガス155を供給するステプと、当該ガスの少なくとも一部から窒素ラジカルを生成することにより、ラジカル含有ガス165を形成するステプと、当該ラジカル含有ガスの少なくとも一部をリソグラフィ装置の1つ以上の素子100に供給するステプとを備える。例文帳に追加

The method for cleaning the elements includes the steps of: providing a gas 155 containing nitrogen; generating nitrogen radicals from at least a part of the gas, thereby forming a radical containing gas 165; and providing at least a part of the radical containing gas to the one or more elements 100 of the apparatus. - 特許庁

「ローカルのデフォルトドメインを登録」ラジオボタンを選択し、「次へ」をクリクします。例文帳に追加

Select the Register Local Default Domain radio button and click Next.  - NetBeans

負イオン源、イオンビーム分析装置、エチング装置、酸素ラジカル発生装置及び排ガス処理装置例文帳に追加

NEGATIVE ION SOURCE, ION BEAM ANALYSIS DEVICE, ETCHING DEVICE, OXYGEN RADICAL GENERATION DEVICE AND WASTE GAS PROCESSOR - 特許庁

(2)さらに光ラジカル重合開始剤を含む(1)記載の光重合性インクジェトインク。例文帳に追加

(2) The photopolymerizable inkjet ink according to (1) further includes a photoradical polymerization initiator. - 特許庁

乳化剤を用いずに制御されたラジカル重合法によるフ化ビニリデン系共重合体例文帳に追加

VINYLIDENE FLUORIDE COPOLYMER BY RADICAL POLYMERIZATION METHOD CONTROLLED WITHOUT USING EMULSIFIER - 特許庁

処理室11内には、酸素マイナスイオンラジカルを含有するマイナスイオンソースSがセトされる。例文帳に追加

In a process chamber 11, a negative ion source S containing oxygen negative ion radicals is set. - 特許庁

ラジカル重合性樹脂組成物、ゲルコート材及び繊維強化プラスチク成形品例文帳に追加

RADICALLY POLYMERIZABLE RESIN COMPOSITION, GEL COAT MATERIAL, AND FIBER-REINFORCED PLASTIC MOLDING - 特許庁

当該ラジカルやイオンが被処理体と反応することにより、被処理体がエチングされる。例文帳に追加

The body to be treated is etched by allowing the radicals and ions to react with the body to be treated. - 特許庁

ラジカルによる薄膜加工方法及び装置並びにその超伝導構造体例文帳に追加

THIN FILM PROCESSING METHOD AND APPARATUS USING FLUORINE RADICAL, AND SUPERCONDUCTING STRUCTURE - 特許庁

シランカプリング剤として使用可能な安定フリーラジカル化合物の提供。例文帳に追加

To provide a stable free-radical compound usable as a silane coupling agent. - 特許庁

フリーラジカル乳化重合の停止及び該重合から作られるラテクスの安定化のための組成物例文帳に追加

TERMINATION OF FREE RADICAL EMULSION POLYMERIZATION, AND COMPOSITION FOR STABILIZING LATEX - 特許庁

耐カト性および耐久性の向上を図る上で有利な空気入りラジアルタイヤを提供する。例文帳に追加

To provide a pneumatic radial tire advantageous in improving cut resistance and durability. - 特許庁

チングラジカルRを成膜チャンバ2内のコーナ部8に効率良く流入できる。例文帳に追加

The etching radicals R can efficiently flow into the corners 8 in the deposition chamber 2. - 特許庁

処理対象物表面を前記ラジカルに曝すことで、酸化物やフ化物等を除去する。例文帳に追加

Oxides, fluorides, and the like, are removed by exposing the surface of an object to be processed to the radicals. - 特許庁

チングラジカルRを成膜チャンバ2内の全体に亘て均一に導入できる。例文帳に追加

The etching radicals R can uniformly be introduced over the overall deposition chamber 2. - 特許庁

第1のクラドとして、ラジカル発生剤を含む高分子基材11を用意する。例文帳に追加

A polymer base body 11 containing a radical producing agent is prepared as a first clad. - 特許庁

色調、明るさが同等で、安価なパラジウムメキ代替時計外装部品を作製すること。例文帳に追加

To manufacture an inexpensive palladium-plated substitute watch external component having color tone and brilliance equivalent to those of the original one. - 特許庁

例文

さらに(D)前記ラジカル重合のための開始剤を含む、スリプが提供される。例文帳に追加

There is also provided the slip containing (D) an initiator for the radical polymerization in addition to (A), (B) and (C). - 特許庁

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