「算術平均粗さ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

裏面側の酸化インジウム層９の算術平均粗さ（Ｒａ）は、表面側の酸化インジウム層５の算術平均粗さ（Ｒａ）より大きい。例文帳に追加

The arithmetical mean roughness (Ra) of the indium oxide layer 9 on the rear surface side is larger than the arithmetical mean roughness (Ra) of the indium oxide layer 5 on the surface side. - 特許庁

この層１２Ｂ_ｎの上面の算術平均粗さは２ｎｍ以下である。例文帳に追加

Arithmetic average roughness in the upper surface of the layer 12B_n is 2nm or less. - 特許庁

また、キャップ１１の内面の算術平均粗さは、０．３μｍ以下にされている。例文帳に追加

Arithmetic mean roughness inside the cap 11 is kept at 0.3 μm or lower. - 特許庁

粗面部１ｅの表面の算術平均粗さＲａ（μｍ）は０．０２以上、０．８以下である。例文帳に追加

The arithmetic average roughness Ra (μm) of the surface of rough surface portions 1e is 0.02-0.8. - 特許庁

また、粗化部５の表面粗さ（算術平均高さ）Ｒａは、１μｍ〜３μｍであることが好ましい。例文帳に追加

Furthermore, the surface roughness (arithmetic mean height) Ra of the roughened part 5 is preferably 1-3 μm. - 特許庁

前記水溶性保護膜の算術平均粗さＲａは、０．０５〜３０μｍである。例文帳に追加

The water-soluble protective film has arithmetic average roughness Ra of 0.05-30 μm. - 特許庁

基板１の表面粗さ（算術平均粗さＲａ）が、Ｘμｍ≦Ｒａ≦０．１μｍの範囲内である。例文帳に追加

The surface roughness (arithmetic mean roughness Ra) of a substrate 1 is within the range of X μm≤Ra≤0.1 μm. - 特許庁

上記第１の粗化硬化物の表面の算術平均粗さＲａは、比較的穏やかな条件で得られた上記第２の粗化硬化物の表面の算術平均粗さＲａの４倍以下である。例文帳に追加

The arithmetic average roughness Ra of the surface of the first roughened cured product is ≤4 times the arithmetic average roughness Ra of the surface of a second roughened cured product obtained under relatively mild conditions. - 特許庁

また、膜面の算術平均粗さＲａ（ｉ）が、フィルム基板表面の算術平均粗さＲａ（ｆ）に対し、Ｒａ（ｉ）−Ｒａ（ｆ）≦２ｎｍであることを特徴とする。例文帳に追加

Moreover, an arithmetical mean roughness Ra(i) of a film surface to that Ra(f) of a film substrate surface satisfies Ra(i)-Ra(f)≤2nm. - 特許庁

また、金属酸化物膜の表面の算術平均粗さＲａを１０ｎｍ以下とする。例文帳に追加

The arithmetic average roughness of the metal oxide film is set being ≤10 nm. - 特許庁

算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する反射防止膜。例文帳に追加

The antireflection film has irregularities of 1 to 30 μm arithmetic mean roughness (Ra). - 特許庁

表面における平均傾斜角θaが０．２°〜１．５°であり、かつ、算術平均粗さＲａが０．０５〜０．４である。例文帳に追加

Average tilt angle θa on the surface is 0.2° to 1.5° and the arithmetic average roughness Ra is 0.05 to 0.4. - 特許庁

回転面２０は、表面粗さが算術平均粗さＲａで最大０．１μｍの平滑面となっている。例文帳に追加

The rotary surface 20 is a flat surface having surface roughness of a maximum of 0.1 μm in maximum center line average height Ra. - 特許庁

またセルロースエステルフィルムは、フィルムの算術平均粗さ：Ｒａ、十点平均粗さ：Ｒｚ、局部山頂の平均間隔：Ｓｍが、それぞれつぎの範囲内である。例文帳に追加

The cellulose ester film has the arithmetic average roughness of the film: Ra, the 10-point average roughness: Rz and the average interval of the local peaks: Sm within the following ranges, respectively. - 特許庁

さらに、めっき表面の算術平均粗さRa:0.7〜1.5 μｍ、粗さ曲線の平均線方向の長さ25.4mm当たりの山の数：PPI が150 以上とする。例文帳に追加

Further, the arithmetic average roughness Ra of the plating surface is controlled to 0.7 to 1.5 μm, and the number of peaks per length of 25.4 mm in the average line direction of a roughness curve: PPI (peaks per inch) is controlled to ≥150. - 特許庁

但し、RaおよびSmはそれぞれJISB0601に定める算術平均粗さ Ra(μm)および凹凸の平均間隔Sm(mm)である。例文帳に追加

Wherein, the Ra and the Sm are a mathematical average roughness Ra (μm) and an average interval Sm (mm) between the projection and the recession, regulated in JIS B0601, respectively. - 特許庁

支持体は、算術平均中心線粗さＲａとして表される０．４５μｍ未満の表面粗さを特徴とする。例文帳に追加

The substrate has a surface roughness less than 0.45 μm expressed as an arithmetic-mean center line roughness Ra. - 特許庁

コート層を、算術平均粗さ（Ｒａ）で、被焼成体の厚さに対し、１／２０〜１／６５の表面粗さとする。例文帳に追加

The coating layer has a surface roughness, expressed as an arithmetic average roughness height (Ra), of 1/20-1/65 against the thickness of the fired product. - 特許庁

セラミック多層配線基板４の主面の算術平均粗さＲa1が０．０１〜０．１μｍであり、かつ金属パッド５の上面の算術平均粗さＲa2が０．１〜０．５μｍである。例文帳に追加

Arithmetic average roughness Ra1 on the main surface of the ceramic multilayer wiring board 4 should be 0.01 to 0.1 μm, and at the same time arithmetic average roughness Ra2 on the upper surface of a metal pad 5 should be 0.1 to 0.5 μm. - 特許庁

本発明の配線体は、メッキ組成層を有し、表面粗さの算術平均粗さRaが0.1〜0.5μmの範囲内にある。例文帳に追加

The wiring body has the plated composition layer, and the arithmetic average roughness Ra of the surface roughness thereof is in the range of 0.1-0.5 μm. - 特許庁

所定の算術平均粗さ（Ｒａ）の表面を有する金属基材１に、前記算術平均粗さの値よりも小さい平均粒子径を有する触媒粉末２が担持されてなることを特徴とする触媒エレメントを用いる。例文帳に追加

The catalyst element is used in which a metal substrate 1 with a surface having a predetermined arithmetical mean roughness (Ra) supports catalyst powder 2 having an average particle diameter smaller than a value of the arithmetical mean roughness. - 特許庁

前記アモルファス状膜の表面の算術平均粗さＲａは０．５μｍ以下、且つ、十点平均粗さＲｚは２．０μｍ以下であることが好ましい。例文帳に追加

An arithmetic mean roughness Ra of surface of the amorphous film is preferably 0.5μm or less and ten point average roughness Rz is preferably 2.0 or less. - 特許庁

そして、該配向制御膜６ａ，６ｂの算術平均粗さＲａを、 Ｒａ＜０．５ｎｍ にする。例文帳に追加

An arithmetic average roughness Ra of the alignment control films 6a, 6b is controlled to satisfy Ra<0.5 nm. - 特許庁

そして、該配向制御膜６ａ，６ｂの算術平均粗さＲａを、 Ｒａ＞０．６ｎｍ にする。例文帳に追加

Furthermore, arithmetic average roughness Ra of the alignment control layers 6a, 6b is made to satisfy an inequality Ra>0.6 nm. - 特許庁

また、磁石素体２は、その表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．０８〜０．８μｍである。例文帳に追加

The magnet body 2 has a surface arithmetic mean roughness (Ra) of 0.08 to 0.8 μm. - 特許庁

前記微細な凹凸は、その算術平均粗さRaが 0.5〜15μｍ、平均間隔Smが 0.5〜10μｍ、平均傾斜θa が45°以上、90°未満とすることが好ましい。例文帳に追加

The fine unevenness preferably has an arithmetical average roughness Ra of 0.5 to 15 μm, an average distance Sm of 0.5 to 10 μm, and an average inclination θa of ≥45° and <90°. - 特許庁

又、磁気記録媒体１０は、表面の算術平均粗さが０．３ｎｍ以上に制限されている。例文帳に追加

In the magnetic recording medium 10, the arithmetic average roughness of the surface is limited to 0.3nm or more. - 特許庁

樹脂フィルム１０としては、算術平均表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下である平滑フィルム１０Ａと、算術平均表面粗さ（Ｒａ）が０．２〜２．０μｍである粗面フィルム１０Ｂとを組み合わせて用いる。例文帳に追加

A smooth film 10A having arithmetic average surface roughness Ra of 0.1 μm or less and a rough surface film 10B having arithmetic average surface roughness Ra of 0.2-2.0 μm are mutually combined for use as the resin-made film 10. - 特許庁

反射膜の算術平均粗さＲａは０．５ｎｍ以下であり、反射膜の厚さは２５ｎｍ以上である。例文帳に追加

The reflection film has ≤0.5 nm arithmetic average roughness Ra and ≥25 nm thickness. - 特許庁

特に、その非平坦面２ｂは、算術平均粗さRa及び平均ピッチPを用いて、０＜(P／Ra)＜１．０２×１０^4に設定されている。例文帳に追加

Particularly, the non-flat surface 2b is set to satisfy 0<(P/Ra)<1.02×10^4 when arithmetic average roughness denotes Ra and an average pitch denotes P. - 特許庁

最表面の粗さは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に規定される算術平均粗さＲａで表して０．１〜３μｍであることが好適である。例文帳に追加

Roughness of the uppermost surface is preferably 0.1 to 3 μm expressed by the arithmetic mean roughness Ra specified by JIS B0601. - 特許庁

表面の粗さ曲面の算術平均面に対して、算術平均粗さ（Ｒａ）の２倍以上の高さの凸部分の、ナノインデンテーション法で測定した硬さが２ＧＰａ以上であることを特徴とする錫めっき鋼板。例文帳に追加

In the tin-plated steel sheet, a projecting part having height ≥2 times of arithmetic average roughness (Ra) on the arithmetic average surface of the rough curved surface has ≥2 GPa hardness measured by a nanoindentation method. - 特許庁

ベース１０とスリーブ１１の接着面の算術平均粗さＲａは０．１〜１．０μｍの範囲にある。例文帳に追加

An arithmetic average roughness Ra on an adhesive face between the base 10 and the sleeve 11 is 0.1-1.0 μm. - 特許庁

インジウムターゲットは、ターゲット表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１．６μｍ以下である。例文帳に追加

The indium target has an arithmetical mean roughness (Ra) of 1.6 μm or less on a target surface and a ten-point mean roughness (Rz) of 15 μm or less. - 特許庁

微細な凹凸３は、凹凸面の算術平均粗さRaが 0.5〜15μｍ、凹凸の平均間隔Smが 0.5〜10μｍ、凹凸の平均傾斜θa が45°以上、90°未満となるように形成する。例文帳に追加

The fine unevenness 3 preferably has an arithmetical average roughness Ra of 0.5 to 15 μm, an average distance Sm of 0.5 to 10 μm, and an average inclination θa of ≥45° and <90°. - 特許庁

細線パターニングに使用されるゴムブランケットであって、ゴムブランケット表面ゴムの算術平均粗さが、被印刷体表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し０．０５×Ｒａ（ｐ）から４．５×Ｒａ（ｐ）の値の粗さを持つゴムブランケットである。例文帳に追加

In the rubber blanket used for fine line patterning, the surface rubber of the rubber blanket has arithmetical mean roughness of a value of 0.05×Ra(p) to 4.5×Ra(p) with respect to arithmetic mean roughness Ra(p) of the surface of the printing body. - 特許庁

エンボスの凹凸の版については、その算術平均粗さを０．０５μｍ〜２．００μｍとし、平均周期を５０μｍ以下とする。例文帳に追加

Arithmetic average roughness is set from 0.05μm to 2.00μm and also average cycle is set ≤50μm for the unevenness of a plate used in the embossing. - 特許庁

凹凸２１ａは、算術平均粗さＲａが０．１μｍ以下で、その表面凹凸の平均間隔Ｓｍが１０〜６０μｍである。例文帳に追加

The irregularities 21a have an arithmetic average roughness Ra of ≤0.1 μm, and a mean interval Sm between the surface irregularities is 10-60 μm. - 特許庁

（ＲａおよびＳｍは、それぞれＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に基づいて測定される算術平均粗さおよび凹凸の平均間隔である。）例文帳に追加

Here, Rm and Sm are respectively the arithmetic average roughness and the average interval of roughness measured based on JIS (Japanese Industrial Standards) B0601:1994. - 特許庁

その算術平均粗さＲａは０．３〜１．０μｍ、平均凹凸周期は５〜３０μｍ、ビッカース硬度は５００〜１０００Ｈｖである。例文帳に追加

The arithmetic mean roughness Ra of the embossing plate is 0.3 to 1.0 μm, the mean ruggedness period is 5 to 30 μm, and the Vickers hardness is 500 to 1,000 Hv. - 特許庁

溶融亜鉛めっき鋼板の表面に無機系皮膜を形成した表面処理鋼板において、該表面処理鋼板の表面粗さが算術平均粗さ0.2 μｍ以上1.0 μｍ以下であり、かつ無機系皮膜の平均膜厚が上記算術平均粗さの0.75倍以上1.25倍以下とする。例文帳に追加

In this surface treated steel sheet obtained by forming an inorganic film on the surface of a galvanized steel sheet, the surface roughness of the surface treated steel sheet is 0.2 to 1.0 μm by the arithmetic average roughness, and also, the average film thickness of the in organic film is 0.75 to 1.25 times the above arithmetic average roughness. - 特許庁

トナー表面の｛０．５μｍ四方の領域の算術平均高さ（Ｒａ）の平均｝/｛１μｍ四方の領域の算術平均高さ（Ｒａ）の平均｝の比率が０．５以上であることで代表されるように、制御されたミクロ／準マクロ粗さ比を有するトナー。例文帳に追加

Toner has a controlled micro/semi macro roughness ratio, which is represented by the fact that the ratio of {the average of arithmetic mean height (Ra) in an area of 0.5 μm square}/{the average of arithmetic mean height (Ra) in an area of 1 μm square} for the surface of the toner is 0.5 or more. - 特許庁

排水溝１０の壁面の表面粗さは、日本工業規格で規定する算術平均粗さ（Ｒａ）で、２．０μｍ以下である。例文帳に追加

The surface roughness of the wall surfaces of the drainage grooves 10 is an arithmetic mean roughness (Ra) of ≤2.0 μm defined by Japan Industrial Standard (JIS). - 特許庁

上記粗面化された圧延箔における算術平均粗さＲａは、０．１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。例文帳に追加

It is preferable that the arithmetic average roughness Ra on the face-roughened rolled foil is 0.1 μm or more and 10 μm or less. - 特許庁

Ｒａ比率＝Ｒａ[基材]／Ｒａ[校正板] …（１） ただし、 Ｒａ[基材]； 前記基材（皮膜を持たないもの）の算術平均粗さＲａ（μｍ） Ｒａ[校正板]； 校正板の算術平均粗さＲａ（μｍ）例文帳に追加

Ra ratio=Ra [base material]/Ra [calibration plate] (1), where Ra [base material] is an arithmetic mean roughness Ra (μm) of the base material (without coating), and Ra [calibration plate] is an arithmetic mean roughness Ra (μm) of calibration plate. - 特許庁