「酸形成」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

低温で酸化錫膜を形成することができる酸化錫膜形成剤を提供する。例文帳に追加

To provide a tin oxide film former capable of forming a tin oxide film at low temperatures. - 特許庁

酸化被膜形成装置、これを用いた酸化被膜形成方法及び熱交換器例文帳に追加

OXIDE FILM FORMING APPARATUS, OXIDE FILM FORMING METHOD USING THE SAME, AND HEAT EXCHANGER - 特許庁

発熱体２の表面に酸化膜が形成され、パイプ３の表面に酸化膜が形成されている。例文帳に追加

An oxidized layer is formed on the surface of the heating body 2 and the pipe 3. - 特許庁

核酸結合体の形成方法、核酸結合体形成用キット、核酸結合体、及び、核酸検出方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING NUCLEIC ACID CONJUGATE, KIT FOR FORMING NUCLEIC ACID CONJUGATE, NUCLEIC ACID CONJUGATE AND METHOD FOR DETECTING NUCLEIC ACID - 特許庁

第１層形成工程によって形成された第１層２４の上面に酸化シリコンで形成される第２層２６を形成する。例文帳に追加

A second layer 26 is formed of silicon oxide on a top surface of the first layer 24 formed in the first layer-forming step. - 特許庁

酸が解離するとき、陽イオンを形成する酸中の水素原子例文帳に追加

a hydrogen atom in an acid that forms a positive ion when the acid dissociates  - 日本語WordNet

チタン酸ジルコン酸鉛系複合ペロブスカイト膜の形成方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING LEAD TITANATE-ZIRCONATE BASED COMPOSITE PEROVSKITE FILM - 特許庁

金属酸窒化物膜被着方法及び金属酸窒化物膜形成方法例文帳に追加

METHOD OF DEPOSITING METAL OXYNITRIDE FILM AND METHOD OF FORMING METAL OXYNITRIDE FILM - 特許庁

光無電解酸化法による金属酸化膜の形成方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING METAL OXIDE MEMBRANE BY PHOTO- ELECTROLESS OXIDATION METHOD - 特許庁

第一の金属酸化物層は、例えば、酸化タンタルから形成される。例文帳に追加

The first metal oxide layer 15 is made of tantalum oxide for example. - 特許庁

希土類水酸化物被膜及び希土類酸化物被膜の形成方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING RARE EARTH HYDROXIDE COATING AND RARE EARTH OXIDE COATING - 特許庁

酸化チタンコーティング液および酸化チタンコーティング膜の形成方法例文帳に追加

TITANIUM OXIDE COATING LIQUID AND FORMATION OF TITANIUM OXIDE COATING FILM - 特許庁

酸化チタンゾル、酸化チタン塗膜およびその形成方法例文帳に追加

TITANIUM OXIDE SOL, TITANIUM OXIDE COATING FILM, AND ITS FORMING METHOD - 特許庁

誘電体酸化物薄膜形成用組成物、誘電体酸化物薄膜例文帳に追加

COMPOSITION FOR FORMING DIELECTRIC OXIDE THIN FILM AND DIELECTRIC OXIDE THIN FILM - 特許庁

前記酸化物層は、ｐ型遷移金属酸化物から形成される。例文帳に追加

The oxide layer is made from a p-type transition metal oxide. - 特許庁

金属酸化物薄膜形成用組成物および金属酸化物薄膜例文帳に追加

COMPOSITION FOR FORMING METAL OXIDE THIN FILM AND META OXIDE THIN FILM - 特許庁

第１の酸化物層および第２の酸化物層を形成するための方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING FIRST OXIDE LAYER, AND SECOND OXIDE LAYER - 特許庁

酸化タンタル膜形成用組成物および酸化タンタル膜の製造方法例文帳に追加

COMPOSITION FOR FORMING TANTALUM OXIDE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING TANTALUM OXIDE FILM - 特許庁

酸素センサ素子、及び、酸素センサ素子におけるリード部の形成方法例文帳に追加

OXYGEN SENSOR ELEMENT AND FORMATION METHOD FOR LEAD PART IN OXYGEN SENSOR ELEMENT - 特許庁

その後、熱酸化法によりシリコン酸化膜１０，１０ａを形成する。例文帳に追加

Afterwards, the silicon oxide films 10, 10a are formed by thermal oxidation method. - 特許庁

また、ゲート絶縁膜を乾燥酸素を用いた熱酸化法で形成する。例文帳に追加

The gate insulating film is formed by a thermal oxidation method by using dry oxygen. - 特許庁

酸化物形成方法、酸化物層成長方法および基板加工方法例文帳に追加

OXIDE FORMING METHOD, OXIDE LAYER GROWTH METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD - 特許庁

プラズマ酸化処理方法およびシリコン酸化膜の形成方法例文帳に追加

PLASMA OXIDATION TREATMENT METHOD, AND METHOD OF FORMING SILICON OXIDE FILM - 特許庁

例えば、熱酸化法により酸化シリコン層１０２のが形成可能である。例文帳に追加

For example, the silicon oxide layer 102 can be formed by a thermal oxidation process. - 特許庁

この後，低温で酸化を行い，ウェハ表面に酸化膜を形成する。例文帳に追加

After this, oxygenation is performed in a low temperature and oxide films are formed on the wafer surfaces. - 特許庁

酸化物系固体潤滑膜及び酸化物系固体潤滑膜の形成方法例文帳に追加

OXIDE SOLID LUBRICATING FILM AND FORMATION OF OXIDE SOLID LUBRICATING FILM - 特許庁

シリコン基板１に熱酸化法により表面酸化膜４を形成する。例文帳に追加

A surface oxide film 4 is formed on a silicon substrate 1 with a hot oxidation method. - 特許庁

その後、熱酸化により、空洞部２５内に埋め込み酸化膜を形成する。例文帳に追加

Then, the embedded oxide film is formed inside the cavity part 25 by thermal oxidation. - 特許庁

熱酸化膜とＣＶＤ酸化膜との間に、リンガラス膜を形成する。例文帳に追加

A phosphorus glass film is formed between the thermally oxidated film and the CVD oxide film. - 特許庁

その後、後酸化が行われ、全面にゲート後酸化膜２８が形成される。例文帳に追加

Then, after oxidation is performed to form a gate after oxide film over the entire surface. - 特許庁

酸化チタンコーティング剤、及び酸化チタン塗膜形成方法例文帳に追加

TITANIUM OXIDE-COATING AGENT, AND FORMING METHOD FOR TITANIUM OXIDE-COATING FILM - 特許庁

アルミニウム酸化膜２１上に、シリコン酸化膜２２が形成されている。例文帳に追加

On the aluminum oxide film 21, a silicon oxide film 22 is formed. - 特許庁

熱酸化を行って酸化膜１２を特定領域１で厚く形成する。例文帳に追加

An oxide film 12 is formed to be thick in the specified region 1 by thermal oxidation. - 特許庁

酸化亜鉛膜の形成方法及び該酸化亜鉛膜を使用した半導体素子例文帳に追加

METHOD OF FORMING ZINC OXIDE FILM AND SEMICONDUCTOR ELEMENT USING SAME - 特許庁

更に、酸化膜４とガードリング５の上に酸化膜７を形成する。例文帳に追加

Furthermore, an oxide film 7 is formed on the oxide film 4 and the guard ring 5. - 特許庁

部分酸化層は酸素プラズマ処理によって形成することが好ましい。例文帳に追加

The partially oxidized layer is preferably formed by oxygen plasma treatment. - 特許庁

（ｇ）側壁膜１８ａを熱酸化して側壁酸化膜１９を形成する。例文帳に追加

(g): The sidewall film 18a is thermally oxidized to form a sidewall oxide film 19. - 特許庁

酸化物成形体、酸化物焼結体、および透明導電膜形成材料例文帳に追加

OXIDE MOLDED PRODUCT, OXIDE SINTERED COMPACT, AND TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM-FORMING MATERIAL - 特許庁

酸化膜の形成方法及び酸化膜を有する人工歯根材例文帳に追加

METHOD FOR FORMING OXIDE FILM, AND DENTAL IMPLANT MATERIAL HAVING OXIDE FILM - 特許庁

酸化チタン膜および酸化チタン膜形成方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a titanium oxide film and a method for forming the same. - 特許庁

酸化アルミニウム薄膜および酸化アルミニウム薄膜形成用組成物例文帳に追加

ALUMINUM OXIDE THIN FILM AND COMPOSITION FOR FORMING THE SAME - 特許庁

酸転写用組成物、酸転写用膜及びパターン形成方法例文帳に追加

COMPOSITION FOR ACID TRANSFER, ACID TRANSFER FILM, AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

酸化物でない素材１の表面に酸化層８を形成する。例文帳に追加

An oxidized layer 8 is first formed on the surface of the non-oxide material 1. - 特許庁

珪酸化合物に水酸アパタイトを形成した複合体とその製造方法例文帳に追加

COMPLEX FORMING HYDROXYAPATITE ON SILICIC ACID COMPOUND AND ITS PRODUCTION - 特許庁

その形成方法として、Ｍｏ層の界面形成時に酸素イオンを照射したり、酸素雰囲気中で形成する。例文帳に追加

As its forming method, when forming the interface of the Mo layer, the interface is formed in an oxygen atmosphere by irradiating an oxygen ion. - 特許庁