「Deposited metal」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A top gate metal is deposited on the top gate oxide.例文帳に追加

上部ゲート酸化物上に上部ゲート金属が堆積される。 - 特許庁

In the plating process, the noble metal is deposited at the electrode scheduled part 3.例文帳に追加

メッキ工程では、電極予定部３に貴金属を析出させる。 - 特許庁

Next, the first base metal layer 7 made of titanium or the like is deposited on the alteration layer C.例文帳に追加

次に、チタンなどからなる第１の下地金属層７を成膜する。 - 特許庁

CERAMIC SINTERED COMPACT, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND METAL VAPOR-DEPOSITED HEATING ELEMENT例文帳に追加

セラミックス焼結体、その製造方法及び金属蒸着発熱体 - 特許庁

As the upper-layer base 2, a metal vapor-deposited polyester-based film is used.例文帳に追加

上層基材２は、金属蒸着ポリエステル系フィルムが用いられる。 - 特許庁

The plate has at least one surface on which the metal is electro-deposited.例文帳に追加

プレートは、金属が電着される少なくとも一つの表面を有する。 - 特許庁

METHOD FOR MELTING AND REMOVING SLAG AND BASE METAL DEPOSITED ON REFRACTORY VESSEL例文帳に追加

耐火物容器に付着するスラグと地金の溶融除去方法 - 特許庁

METAL VAPOR-DEPOSITED POLYESTER FILM FOR TINSEL, AND TINSEL例文帳に追加

金銀糸用金属蒸着ポリエステルフィルムおよび金銀糸 - 特許庁

GREEN SHEET WITH METAL VAPOR-DEPOSITED FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND CERAMIC BODY例文帳に追加

金属蒸着膜付きグリーンシート、その製法及びセラミックス体 - 特許庁

The plating metal deposited on the power feeding wire 2 is peeled off by dies 3.例文帳に追加

また、給電ワイヤ２に析出したメッキ金属はダイス３で剥離する。 - 特許庁

GAS STORAGE MATERIAL USING DEPOSITED-METAL-CONTAINING ACTIVE CARBON AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

金属担持活性炭を用いたガス吸蔵材およびその製造方法 - 特許庁

METHOD OF AND DEVICE FOR REMOVING LIQUID DEPOSITED ON METAL PLATE例文帳に追加

金属板材に付着した液体の除去方法及び除去装置 - 特許庁

Depositions with density of <1 are deposited on the metal fibers.例文帳に追加

前記金属繊維上には、密度が１より小さい付着物が付着している。 - 特許庁

The deposited metal can be diffused into the dielectric layer, causing leakage current.例文帳に追加

この金属は誘電層内に拡散し、漏れ電流を起し得る。 - 特許庁

ELECTROMAGNETIC WAVE TRANSMISSIBLE METAL-DEPOSITED FILM TRANSFER MATERIAL AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

電磁波透過性金属蒸着膜転写材とその製造方法 - 特許庁

METAL VAPOR-DEPOSITED LENS WITH BARRIER COAT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

バリアー被膜を備えた金属蒸着加工レンズ、およびその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN OF METAL-DEPOSITED LAYER AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT BOARD例文帳に追加

金属蒸着層のパターン形成方法、および回路基板の製造方法 - 特許庁

A thin noble metal film 120 is deposited on the inner face of the hollow glass tube.例文帳に追加

該中空のガラス管の該内面に、薄い貴金属膜（１２０）を堆積させる。 - 特許庁

The deposited metal (a metallic film 11) is heat treated.例文帳に追加

さらに、この析出された金属（金属膜１１）に対し熱処理を行う。 - 特許庁

When a capacitor element obtained by winding or laminating the metallized film made of a metal vapor-deposited electrode containing zinc as a main component on the dielectric film, the zinc concentration of the vapor-deposited metal of the non-vapor deposited part side is raised, the vapor-deposited metal is thickly vapor-deposited, or the zinc containing quantity of the vapor-deposited metal is increased.例文帳に追加

誘電体フィルムに亜鉛を主体とする金属蒸着電極から成る金属化フィルムを巻回または積層してなるコンデンサ素子を形成する際に、非蒸着部側の蒸着金属の亜鉛濃度を高くすること、蒸着金属を厚く蒸着すること、または蒸着金属の亜鉛含有量を多くすることを特徴とする金属化フィルムコンデンサ。 - 特許庁

POLYPROPYLENE FILM FOR METAL DEPOSITION AND METAL- DEPOSITED POLYPROPYLENE FILM例文帳に追加

金属蒸着用ポリプロピレンフィルム及び金属蒸着ポリプロピレンフィルム - 特許庁

The metal-deposited solid acid catalyst can be produced at a low cost since inexpensive metal salt is used.例文帳に追加

この金属担持固体酸触媒は、安価な金属塩を用いて低コストで製造することができる。 - 特許庁

DAMASCENE INTERCONNECTION UTILIZING BARRIER METAL LAYER DEPOSITED WITH METAL CARBONYL例文帳に追加

金属カルボニルを使用して堆積したバリアメタル層を使用したダマシン相互接続の形成方法 - 特許庁

A metal is deposited on one side of an infrared transmission substrate 2 for forming a metal film 3.例文帳に追加

赤外線透過基板２の一方の面に金属を蒸着し、金属膜３を形成する。 - 特許庁

A layer of silicon metal/silicon carbide composite material can be deposited instead of the silicon metal layer.例文帳に追加

珪素金属層の代わりに、珪素金属−炭化珪素複合材料層を形成できる。 - 特許庁

Next, a plasma-enhanced CVD refractory metal nitride layer is deposited on the refractory metal layer.例文帳に追加

次にこの耐熱金属層上にプラズマＣＶＤ耐熱金属窒化物層を堆積させる。 - 特許庁

A noble metal of 0.01-50 wt.% can be further deposited on the metal oxide fiber.例文帳に追加

金属酸化物繊維に更に０．０１〜５０重量％の貴金属を担持させても良い。 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING METAL DEPOSITED ON TIP OF TUYERE, AND METHOD FOR MEASURING TEMPERATURE OF MOLTEN METAL例文帳に追加

羽口の先端に付着した地金の除去方法及び溶融金属の測温方法 - 特許庁

A metal layer 7 is deposited by the plating method and the metal layer 7 is removed by the chemical-mechanical polishing method.例文帳に追加

めっき法で金属層７を堆積するとともに、化学的機械研磨法で金属層７を除去する。 - 特許庁

The metal heat sink 122 is deposited on the second surface of the metal thin layer 114.例文帳に追加

金属製ヒートシンク１２２は、金属薄層１１４の第２の表面に接合される。 - 特許庁

Also, the polarizing plate is characterized in that the metal layer is a metal deposited layer.例文帳に追加

また、前記金属層が金属蒸着層であることを特徴とする偏光板である。 - 特許庁

The metal of the top layer 8 and the nuclei of the deposited metal may interdiffuse in a predetermined range of the temperature.例文帳に追加

上部層８は、所定の温度範囲で金属被着物の核と相互拡散し得る。 - 特許庁

A metal layer is then deposited on the metal seed layer by light-induced plating.例文帳に追加

次いで、光誘導めっきによって、その金属シード層上に金属層が堆積させられる。 - 特許庁

To the thin metal plate 13a in the side of the small hole 16a, a metal layer 15a that is composed of either an electro- deposited metal layer or an electro-less deposition metal layer, is formed.例文帳に追加

小孔16a側の金属薄板13aに電着金属層もしくは無電解メッキ金属層である金属層15aを形成する。 - 特許庁

This metal particle-dispersed oxide has the metal oxide particle consisting of a solid solution phase of a reducing metal oxide and a hard-to-reduce metal oxide, the surface metal particle deposited on the surface of the metal oxide particle, and the internal metal oxide particle deposited inside the metal oxide particle.例文帳に追加

還元性金属酸化物と難還元性金属酸化物との固溶相からなる酸化物粒子、 前記酸化物粒子の表面に析出した表面金属粒子、および前記酸化物粒子の内部に析出した内部金属粒子を具備する金属粒子分散酸化物である。 - 特許庁

The tabular oxide particle-deposited carbon particle is characterized in that a tabular oxide particle, on the surface of which a noble metal particle is deposited, is deposited on a carbon particle and a crystal face appearing on the surface of the noble metal particle is the (111) face.例文帳に追加

表面に貴金属粒子を担持した板状酸化物粒子がカーボン粒子に担持されており、当該貴金属粒子の表面に現れている結晶面が（１１１）面である構成とする。 - 特許庁

A PVD(physical vapor deposition) metal-deposited layer, e.g. PVD Al or PVD Cu is deposited on the layer hard to dissolve under the pressure of 1 milli Torr or lower to give a conformal PVD metal-deposited layer.例文帳に追加

ＰＶＤ金属層、例えばＰＶＤＡｌ、またはＰＶＤＣｕが１ミリトル以下の圧力で溶けにくい層に堆積されて、コンフォーマルなＰＶＤ金属層を与える。 - 特許庁

Respective metal-deposited film layers preferably consist of aluminum-deposited polypropylene films.例文帳に追加

各金属蒸着フィルム層は、ポリプロピレンフィルムにアルミニウムを蒸着したものからなることが好ましい。 - 特許庁

TABULAR OXIDE PARTICLE-DEPOSITED CARBON PARTICLE, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING NOBLE METAL-DEPOSITED TABULAR OXIDE PARTICLE例文帳に追加

板状酸化物粒子担持カーボン粒子とその製造方法、および貴金属担持板状酸化物粒子の製造方法 - 特許庁

The metal structure is preferably dispersed with the deposited material or compound deposited material of Ti, Nb, V, Mo, and Zr of 3 to 200 nm in average grain size.例文帳に追加

金属組織は、平均粒径３〜２００ｎｍのＴｉ，Ｎｂ，Ｖ，Ｍｏ，Ｚｒ系の析出物又は複合析出物が分散したものが好ましい。 - 特許庁

The barrier metal layer 20 has a first portion deposited on the sidewall and a second portion deposited on the bottom.例文帳に追加

バリアメタル層２０は側壁部上に堆積された第１の部分と底部上に堆積された第２の部分とを有する。 - 特許庁

In particular, it is preferable that the metal-deposited film layer on the side near to the resin film layer consists of an aluminum-deposited OPP film, and the metal-deposited film layer on the side far from the resin film layer consists of an aluminum-deposited CPP film.例文帳に追加

特に、樹脂フィルム層に近い側の金属蒸着フィルム層が、アルミニウム蒸着ＯＰＰフィルムからなり、樹脂フィルム層に遠い側の金属蒸着フィルム層が、アルミニウム蒸着ＣＰＰフィルムからなることが好ましい。 - 特許庁

The catalyst for methanating carbon monoxide is obtained by depositing metal Ni and/or metal Co on a metal oxide carrier and characterized in that the average particle size of the deposited metal Ni and/or metal Co is within 0.5-3 nm and the amount of the deposited metal Ni and/or metal Co is within 5.0-15 wt.% of the catalyst.例文帳に追加

Ｎiおよび／またはＣo金属が金属酸化物担体に担持されてなり、Ｎiおよび／またはＣo金属の平均粒子径が０．５〜３ｎｍの範囲にあり、Ｎiおよび／またはＣo金属の担持量が触媒中に５．０〜１５重量％の範囲にある一酸化炭素メタネーション用触媒。 - 特許庁

To provide a metal catalyst comprising carrier particles and metal fine particles with a diameter further smaller than present diameter deposited on the surfaces of the carrier particles and a method for manufacturing the metal catalyst.例文帳に追加

担体粒子の表面に、現状よりもさらに粒径の小さい金属微粒子が担持された金属触媒と、その製造方法とを提供する。 - 特許庁

After a metal layer is vapor-deposited on a semiconductor substrate 100, the metal layer is patterned to form the metal wiring 101A.例文帳に追加

半導体基板１００上に金属層を蒸着後、その金属層をパターニングして金属配線１０１Ａを形成する。 - 特許庁