「Deposited metal」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

Decomposition reaction of the electrolyte is suppressed by formation of stable coatings, and reaction of deposited lithium metal with the electrolyte can be prevented.例文帳に追加

安定した被膜の形成により電解質の分解反応を抑制できると共に、析出したリチウム金属と電解質との反応を防止できる。 - 特許庁

To provide a shading net excellent in durability, relatively inexpensively producible, and comprising flat yarn on which a metal layer is deposited.例文帳に追加

耐久性に優れ、比較的安価に作製可能な金属層を蒸着したフラットヤーンで構成された遮光ネットを提供すること。 - 特許庁

This catalyst is composed of a composite carrier consisting essentially of a zirconium phosphate, a titanium phosphate and a noble metal deposited on the composite carrier.例文帳に追加

ジルコニウムのリン酸塩とチタンのリン酸塩を主成分とする複合担体と、複合担体に担持された貴金属と、から構成した。 - 特許庁

Since a corrosive organic solution is used as a plating solution, an oxide thin film of a water-insoluble metal can be deposited.例文帳に追加

腐食性の有機溶液をめっき液として用いていることから、非水溶性金属の酸化物薄膜を成膜することができる。 - 特許庁

Since the holder 12 is made of a metal, a substance causing discoloration and white turbidity is never deposited.例文帳に追加

また、ホルダ１２が金属製であるため、変色および白濁の原因となる物質が析出することがない。 - 特許庁

A metal oxide layer is deposited on the substrate by reacting a precursor with an oxidant gas in a chemical gas phase growing chamber.例文帳に追加

化学気相成長チャンバ中で、前駆物質を酸化体ガスと反応させることによって、基板上に金属酸化物層を堆積させる。 - 特許庁

After a metal layer 4 is vapor deposited on the silicon substrate 1, lift-off for removing resist is done to form an electrode 10.例文帳に追加

シリコン基板１に金属層４を蒸着した後、レジストを除去するリフトオフを行い、電極１０を形成する。 - 特許庁

The nobel metal is deposited uniformly on the particulate mixture of several oxides containing the oxide having OSC to obtain the objective catalyst.例文帳に追加

貴金属を、 ＯＳＣを有する酸化物種を含む複数種の酸化物粒子の混合体に均一に担持した。 - 特許庁

Stable coating is thereby formed to suppress decomposition reaction of the solvent and to suppress reaction of the deposited lithium metal and the solvent as well.例文帳に追加

安定した被膜の形成により溶媒の分解反応を抑制できると共に、析出したリチウム金属と溶媒との反応を防止できる。 - 特許庁

To prevent a metal gas from being vapor-deposited to a transparent plate without utilizing gas purge or a shutter.例文帳に追加

ガスパージやシャッターを利用することなく透明板に金属ガスが蒸着するのを防止することを可能とする。 - 特許庁

A material comprising a synthetic resin film such as polyester film having the surface deposited with a metal is used as a tape 1.例文帳に追加

テープ体１として、ポリエステルフィルムなどの合成樹脂フィルムの表面に金属を蒸着した素材を用いる。 - 特許庁

An amorphous silicon film 22 is deposited on a quartz substrate 21 to introduced a metal Ni, thereby crystallizing the amorphous silicon film 22.例文帳に追加

石英基板２１上に非晶質珪素膜２２を堆積して金属Ｎiを導入し、非晶質珪素膜２２を結晶化させる。 - 特許庁

Iron 3 is deposited as catalyst metal on a glass substrate 1 using a chemical vapor deposition apparatus 2, and thereby a thin film 4 consisting of iron particles is formed.例文帳に追加

ガラス基板１ 上に化学蒸着装置２ を用いて触媒金属として鉄３ を蒸着させ、鉄粒子からなる薄膜４ を形成した。 - 特許庁

NF2 is a metal oxide film, preferably an oxide of Ta, deposited on NF1 at a thickness of about 0.2-1.0 nm.例文帳に追加

ＮＦ２は、約０．２〜１．０ｎｍの厚さにＮＦ１上に堆積される、好ましくはＴａ酸化物の金属酸化物膜である。 - 特許庁

The vapor-deposited metal film 5 has characteristics for reflecting light in a wavelength band, which is used by optical communication, without transmitting as in Au or WSi.例文帳に追加

蒸着する金属膜５は、例えばＡｕやＷＳｉのように光通信で使用する波長帯の光を透過せずに反射する特性を有する。 - 特許庁

Nanoparticles produced by the method as a metal catalyst are deposited on the surface of carbon powder having a particle size of 10 to 100 nm.例文帳に追加

粒径１０〜１００ｎｍのカーボン粉体の表面に、上記のようにして作製したナノ粒子を金属触媒として担持させる。 - 特許庁

The oxide superconductive thin film is deposited on the metal substrate for the oxide superconductive thin film wire rod in the oxide superconductive thin film wire rod.例文帳に追加

前記酸化物超電導薄膜線材用金属基板の上に、酸化物超電導薄膜が成膜されている酸化物超電導薄膜線材。 - 特許庁

To provide a laser beam machining method of a nitride ceramic substrate by which no metal is deposited, and the machining speed is made high.例文帳に追加

金属析出物の生成がなく、加工速度の速い、窒化物セラミックス基板のレーザー加工法を提供する。 - 特許庁

Energy irradiation is performed on the exposed contact region, and a low resistivity-ohmic contact metal 51 is deposited on the portion onto which energy irradiation is performed.例文帳に追加

露出させた接触領域にエネルギー照射を行い、エネルギー照射を行った部分に低抵抗のオーム接触金属５１を堆積する。 - 特許庁

A metal material 8 superior in reliability and electric characteristic is deposited as a wiring in the through hole 4 or the trench 7.例文帳に追加

スルーホール４やトレンチ７に、配線として信頼性や電気特性に優れたメタル材料８を堆積する。 - 特許庁

Subsequently, a second metal layer 106c of gold (Au) is further deposited by about 300 nm.例文帳に追加

その後更に、金（Ａｕ）から成る第２金属層１０６ｃを蒸着によって約３００ｎｍの膜厚で積層した。 - 特許庁

To provide a method for preparing a catalyst for reforming a hydrocarbon having a small amount of a supported noble metal and producing a small amount of a deposited carbon in use.例文帳に追加

貴金属の担持量が少なく、使用に際しての炭素析出量の少ない炭化水素の改質用触媒の調製方法を提供する。 - 特許庁

Electroforming materials are deposited in the cavity 106 by an electroforming method to manufacture a metal component 109.例文帳に追加

このキャビティ１０６内に電鋳法によって電鋳材料を堆積させ金属部品１０９を製造する。 - 特許庁

To prevent the formation of pits in a weld metal zone without using fillers, etc., in forming galvanized steel sheets to a deposited body by a laser beam.例文帳に追加

亜鉛鋼板をレーザービームにより溶着体とするにあたり、フィラー等を用いることなく溶着部にピットが形成されないようにする。 - 特許庁

Thereafter, a seed metallic layer is deposited in the groove and a wiring is formed by depositing a wiring metal on the seed metallic layer by a plating method.例文帳に追加

次いで、該溝の中にシード金属層を堆積させ、該シード金属層の上に配線金属をメッキ法により堆積させて配線を形成する。 - 特許庁

All the spaces S1, S2 and S3 are covered up by insert-fitting a lid 10 made of ceramics with a vacuum-deposited metal film on the surface.例文帳に追加

表面に金属を蒸着させたセラミックスからなるリッド１０を嵌着して、すべての孤立空間Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３を塞ぐ。 - 特許庁

A transition metal is deposited in a contact on a silicon carbide substrate and heated to form a silicide electrode with a high carbon content.例文帳に追加

炭化硅素基板上のコンタクトに遷移金属を蒸着し、加熱処理して、炭素高含有シリサイド電極を形成する。 - 特許庁

To etch a film deposited in a treatment chamber when forming a film containing a metal atom without eroding a component material constituting the treatment chamber.例文帳に追加

処理室を構成する部材を侵さずに、金属原子を含む膜を形成する際に処理室内部に付着した膜をエッチングすることを可能にする。 - 特許庁

Sputtering particles to be sputtered from the front side of the target 32 are deposited on the substrate 34 to deposit the metal layer on the substrate 34.例文帳に追加

基板３４上にターゲット３２の前面からスパッタリングされるスパッタ粒子を積層し、基板３４上に金属層を形成する。 - 特許庁

A thermoplastic resin layer provided at the inner side of the metal layer undergoes melt-solidification, and thus the funnel part 508 is deposited to the container body 510.例文帳に追加

金属層の内面側に設けられた熱可塑性樹脂層が溶融・固化することによって、漏斗パーツ５０８が容器本体５１０に溶着される。 - 特許庁

Thereafter, a barrier metal layer F2 is deposited on the whole surfaces of the substrate P comprising the upper surfaces of the pattern F1 and the bank B.例文帳に追加

その後、膜パターンＦ１、及びバンクＢの上面を含む基板Ｐの全面に、バリアメタル層Ｆ２を成膜する。 - 特許庁

Next, a thin composite passivation layer is deposited on a plurality of the metal pixels and the antireflective coating material.例文帳に追加

次に、本実施形態は、複数の金属画素および反射防止コーティング材料の上に薄い複合パッシベーション層を析出させる。 - 特許庁

In this state, a bump underlying metal layer 13 is deposited, and furthermore a gold electrode is formed thereon through a deposition growth method so as to serve as the bump electrode 14.例文帳に追加

この状態で、バンプ下地金属層１３を堆積し、さらにその上にメッキ成長により金電極を形成してバンプ電極１４とする。 - 特許庁

The rare earth-containing metal oxide thin film is directly deposited on a substrate by a liquid phase deposition method (LPD method).例文帳に追加

液相析出法（ＬＰＤ法）により基板上に希土類含有金属酸化物薄膜を直接析出させる。 - 特許庁

In this circuit wiring board, an electronic component 4 is mounted across any two of wiring patterns 3_1, 3_2, 3_3 on an insulating layer 2 deposited on a metal substrate 1.例文帳に追加

回路配線基板において、電子部品４が、金属基板１に積層された絶縁層２上の配線パターン３_１乃至３_３に実装されている。 - 特許庁

An oxide film is deposited by blowing a raw material 5 of metal oxides on a surface of a heated base material 10 by the open-air type CVD method.例文帳に追加

大気開放型ＣＶＤ法により、加熱した基材１０の表面に金属酸化物原料５を吹き付けて酸化物膜を成膜する。 - 特許庁

Then, the copper layer (110) having good adhesive ability is deposited on the barrier (106) made of transition metal-silicon-nitride.例文帳に追加

次に、上記遷移金属−シリコン−窒化物からなる障壁（１０８）の上に上記銅層（１１０）を良好な接着性をもって堆積させる。 - 特許庁

Next the metal layers 22 are vapor deposited and formed on the soluble resin layers 26 and the exposure parts 21a between the soluble resin layers 26.例文帳に追加

次に可溶性樹脂層２６上および可溶性樹脂層２６間の露出部２１ａ上に金属層２２を蒸着形成する。 - 特許庁

A first portion 115a having 1/2 of the thickness of the metal layer, such as thick aluminum, is deposited by spattering on a dielectric layer.例文帳に追加

誘電体層の上に、厚いアルミニウムなどの金属層の２分の１の厚さを持つ第１部分１１５ａがスパッタ法により堆積される。 - 特許庁

In a chemical-converted steel plate, a phosphate film with the volume-regulation of metal elements other than Zn is deposited on a surface of the Zn-Al-Mg alloy plated steel plate.例文帳に追加

Ｚｎ-Ａｌ-Ｍｇ合金めっき鋼板の表面にＺｎ以外の金属元素を量規制したリン酸塩皮膜を設けた化成処理鋼板である。 - 特許庁

After the super-critical state and the emulsion state are formed in the reaction bath 1, the metal ions are diffused to be deposited on the work 18 to be plated.例文帳に追加

前記反応浴１に超臨界状態とエマルジョン状態とを形成後、前記金属イオンを拡散させ被めっき物１８に析出させる。 - 特許庁

By controlling the composition of the gas for reaction, a metal or metallic nitride can be deposited.例文帳に追加

反応用気体の組成を制御することにより、金属あるいは金属窒化物のいずれかを堆積させることができる。 - 特許庁

An electrode 3, etc., required for exciting the quartz oscillating piece 2 can be made of a deposited film of metal.例文帳に追加

前記水晶振動片２を励振するのに必要な電極３ａ等は金属の蒸着膜で形成できる。 - 特許庁

In a partial area on the first surface layer 2, metal films 31 and 32 of 600 nm in thickness are vapor-deposited spatially apart from each other.例文帳に追加

第1の表面層２上の一部の領域に、空間的に分離して、厚さ６００ｎｍの金薄膜３１、３２を蒸着する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING PLATED FILM WITH PATTERNED METAL FILM USING REDUCING POLYMER PARTICLE DEPOSITED THEREON例文帳に追加

還元性ポリマー微粒子を用いるパターン化された金属膜が形成されためっきフィルムの製造方法 - 特許庁