「Deposited metal」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

A metal barrier layer may be co-deposited with Si to form a barrier 106 or the metal barrier layer may be deposited followed by surface treatment with a Si-contained ambient to form a barrier 206.例文帳に追加

金属障壁体層をＳｉと同時に沈着することによって障壁体１０６を作成することができる、または金属障壁体層を沈着した後にＳｉを含有する雰囲気で表面を処理することによって障壁体２０６を作成することができる。 - 特許庁

Silicon is heated in a melting furnace 24 to make a molten metal 23, a cooling body 25 as the original plate of a deposited plate is immersed in the molten metal by an immersing means 26, and then it is picked up therefrom to allow the silicon to be coagulated/deposited on the surface of the cooling body, resulting in a sheet-like silicon 27.例文帳に追加

溶解炉２４でシリコンを加熱して溶湯２３にし、析出板生成の原板である冷却体２５を、浸漬手段２６によって溶湯中へ浸漬し溶湯中から引上げてシリコンを冷却体の表面に凝固析出させてシート状シリコン２７を製造する。 - 特許庁

To prepare a polypropylene film for both surface-depositing that has no film cut caused by film blocking and has strong adhesion between the film and a deposited metal to cause no peeling of the deposited metal and few wrinkles generated upon film rolling or depositing.例文帳に追加

フィルムブロッキングによるフィルム切れがなく、金属蒸着とフィルムとの付着力が強く蒸着金属剥がれがない特徴を持ち、更にはフィルム巻き取り時皺や蒸着時の皺の発生が少ない両面蒸着用ＰＰフィルムを得ること。 - 特許庁

In this cleaning method of a plasma processor, provided with metal components inside the processing chamber, at the removing of a deposited film generated during plasma processing and stuck to the surface of the metal component by cleaning, the cleaning is ended to leave a part in the thickness direction of the deposited film.例文帳に追加

処理室内部に金属部品を有するプラズマ処理装置のクリーニング方法において、プラズマ処理中に発生し、金属部品の表面に付着した堆積膜をクリーニングによって除去する際に、該堆積膜の厚さ方向の一部を残して前記クリーニングを終了することにより、達成される。 - 特許庁

The composite metal particles of small average particle size can be deposited via the reverse micellar solutions and, in the electrocatalyst prepared by using the reverse micellar solutions, the composite metal particles can be deposited substantially at a regular interval on the surface and the electrocatalyst having an excellent performance can be obtained.例文帳に追加

逆ミセル溶液を介すると金属粒子は平均粒子径が小さく、かつ逆ミセル溶液を使用して調製された電極触媒は、その表面に略等間隔に金属粒子を担持させることができ、得られる電極触媒は、その性能に優れる。 - 特許庁

The metal deposited film with a metal deposited on at least one side of a polymeric film includes at least one line of nondeposited margin continued in a longitudinal direction, and a plurality of nondeposited margin in a widthwise direction meeting the following (1) to (3).例文帳に追加

高分子フィルムの少なくとも片面に金属が蒸着された金属蒸着フィルムであって、該金属蒸着面に、長手方向に連続した少なくとも１本の非蒸着マージン、及び、下記（１）〜（３）を満たす複数本の幅方向の非蒸着マージンを含む金属蒸着フィルム。 - 特許庁

The two-metal deposited catalyst contains a group VIII metal like platinum and tin having at least a portion having the powerful interaction with the group VIII metal in the catalyst in a reduced state.例文帳に追加

新規二金属担持触媒は、白金のような第VIII族金属と、還元状態での触媒中に第VIII族金属と強力に相互作用する少なくとも一部分を有するスズとを含む。 - 特許庁

Niobium that is a fireproof metal material is deposited to form a fireproof niobium metal electrode, and then a niobium oxide film (Nb_2O_5) is formed on a fireproof metal electrode by applying oxygen plasma.例文帳に追加

耐火性金属材料であるニオブを蒸着して耐火性のニオブ金属電極を形成し、次に、酸素プラズマを照射することによって耐火性金属電極上に、当該ニオブ酸化膜（Ｎｂ_２Ｏ_５）を形成する。 - 特許庁

The exhaust gas purifying catalyst comprises a carrier containing at least an aluminate of at least one kind of metal M selected from alkali earth metal and rare earth metal and at least Pd deposited on the carrier.例文帳に追加

アルカリ土類金属及び希土類金属から選ばれる少なくとも一種の金属Ｍのアルミン酸塩を少なくとも含む担体と、担体に担持された少なくともPdと、を含む。 - 特許庁

Hose having a plural layer structure is provided with metal laminated layer containing metal foil and metal vapor deposition layer deposited on resin base film between any layers or the innermost layer.例文帳に追加

複層構造を有するホースのいずれかの層間又は最内層に、金属箔と、樹脂製ベースフィルム上に蒸着された金属蒸着層とを含む金属ラミネート層を設ける。 - 特許庁

The deposition chamber may be a batch CVD chamber and the deposited film may be a metal nitride, for example, a transition metal nitride such as titanium metal nitride.例文帳に追加

堆積チャンバはバッチＣＶＤチャンバであってよく、堆積される膜は、例えば窒化チタンなど遷移金属窒化物である金属窒化物であってよい。 - 特許庁

The refractory metal core system comprises a refractory metal core and a layer of aluminum nitride deposited on the refractory metal core, and the layer of aluminum nitride acts as a bond coat.例文帳に追加

耐火性金属コア系は、耐火性金属コアと、その上に堆積される窒化アルミニウムの層とからなり、この窒化アルミニウムの層はボンドコートとして機能する。 - 特許庁

The catalyst for methane steam reforming is characterized in that one kind or more of noble metal, or one kind or more of each of noble metal and lanthanide metal is deposited on a microporous carbon material.例文帳に追加

細孔性炭素材に貴金属の１種以上または貴金属とランタニド金属の各々１種以上が担持されていることを特徴とするメタン水蒸気改質用触媒を用いる。 - 特許庁

A metal electrode 2 is a semitransparent metal vapor deposition film (film thickness is 20 nm), and a metal electrode 3 is an ITO(indium tin oxide) of a transparent electrode which is deposited on a glass substrate.例文帳に追加

金属電極２は半透明金蒸着膜（膜厚20 nm）、金属電極３はガラス基板上に蒸着された透明電極のITO（酸化インジウム錫）である。 - 特許庁

METHOD OF REDUCING POLYMER DEPOSITED ON ETCHED VERTICAL METAL WIRE, CORROSION OF ETCHED METAL WIRE, AND CORROSION DURING WET CLEANING OF METAL FEATURE例文帳に追加

エッチングした垂直金属線上のポリマー沈積、エッチングした金属線の腐食およびエッチングした金属フィーチャの湿式洗浄時における腐食を減少させる方法 - 特許庁

To provide a metal particle-dispersed oxide in which a metal particle is deposited uniformly on the surface of a metal oxide particle in high density and which has high strength.例文帳に追加

金属粒子が担体としての金属酸化物粒子の表面に均一で高密度に形成され、しかも、高い強度を有する金属粒子分散酸化物を提供する。 - 特許庁

The method includes a process of forming a lower conductive pattern on a semiconductor substrate and after the vapor deposition of a barrier metal film using a metal organic precursor, cleaning the vapor-deposited barrier metal film.例文帳に追加

この方法は半導体基板上に下部導電パターンを形成し、金属有機前駆体を使って、バリア金属膜を蒸着した後、蒸着されたバリア金属膜を浄化する段階を含む。 - 特許庁

A first metal film 2, a second metal film 3 containing aluminum, and a third metal film 4 and a mask 5 are deposited in this order on a glass substrate 1.例文帳に追加

ガラス基板１上に、第１の金属膜２と、アルミニウムを含む第２の金属膜３と、第３の金属膜４とマスク５とをこの順序で積層する。 - 特許庁

To prevent a metal lower electrode of an underlayer from oxidizing, when annealing for modifying and crystallizing a high dielectric film composed of a crystalline metal oxide deposited in an upper part of the lower electrode of a capacity element constituted of a metal.例文帳に追加

金属で構成された容量素子の下部電極の上部に堆積した結晶性金属酸化物からなる高誘電体膜を改質・結晶化するためのアニールを行う際、下地の金属下部電極が酸化されるのを防止する。 - 特許庁

After a metal film 102 is deposited on a substrate 101 in a non-oxidizing atmosphere, the metal film 102 is oxidized in an oxidizing atmosphere thus forming a metal oxide film 103 becoming a gate insulation film 103A.例文帳に追加

非酸化性雰囲気中において基板１０１上に金属膜１０２を堆積した後、酸化性雰囲気中において金属膜１０２を酸化させることにより、ゲート絶縁膜１０３Ａとなる金属酸化膜１０３を形成する。 - 特許庁

A metal is deposited in a hole of a honeycomb-like porous film formed by self-organization, then the metal is treated by an organic solvent, and the metal pattern array is obtained by removing the honeycomb-like porous film.例文帳に追加

自己組織化により作製したハニカム状多孔質フィルムの孔内に金属を析出させ、次いで有機溶剤で処理してハニカム状多孔質フィルムを除去することによって得られる金属パターンアレイ。 - 特許庁

Then, at a second temperature which is lower than the first temperature, a second metal 13 is deposited in the semiconductor region to cover the first metal layer 12 that has been formed, to form a second metal layer.例文帳に追加

つぎに、その形成された第１金属層１２を被覆するように、第１の温度より低い第２の温度にて、その半導体領域に第２金属１３を堆積することによって、第２金属層を形成する。 - 特許庁

Here, the second metal has only to be attached onto the substrate, and need not be deposited together with the first metal by electroless plating, so that a wide range of materials can be used as the second metal.例文帳に追加

ここで、第２の金属は基板に付着すればよく、第１の金属と共に無電解メッキで析出する必要がないことから、広い範囲の材料を第２の金属として利用することができる。 - 特許庁

Also, it is preferable that the metal layer deposition treatment is the treatment of projecting metal powder of the metals or alloys to the surface of the steel material, and thus the metal layer is non-continuously deposited to the surface of the steel material.例文帳に追加

なお、金属層付着処理は、上記した金属または合金の金属粉末を鋼材の表面に投射する処理とすることが好ましく、これにより、鋼材の表面に金属層を非連続に、付着させることができる。 - 特許庁

The metal-tone coating film layer contains a transparent or translucent scaly pigment and a bright pigment in which a vapor- deposited metal film is crushed into metal pieces.例文帳に追加

金属調塗膜層は透明ないし半透明の鱗片状顔料と蒸着金属膜を粉砕して金属片とした光輝性顔料とを含有する。 - 特許庁

A metal compound of a titanium compound, silicon compound or the like is added to the suspension of bismuth oxychloride, and a metal oxide and/or a metal hydroxide is deposited to form the coating, and is optionally calcined at about 300-700°C.例文帳に追加

オキシ塩化ビスマスの懸濁液に、チタン化合物、珪素化合物などの金属化合物を添加して、金属酸化物及び／又は金属水酸化物を析出して被覆を形成させ、必要に応じて３００〜７００℃程度で焼成する。 - 特許庁

Before metal interconnection is formed in an opening in a dielectric area, a lower metal surface is cleaned, and in this case the metal can be deposited on a sidewall of the opening.例文帳に追加

誘電領域の開口内に金属相互接続を形成する前に、下側の金属面が洗浄されるが、この際に金属が開口の側壁に堆積され得るする。 - 特許庁

A metal halide is reduced in a liquid phase under existence of a carrier, an organic salt, and a reducing agent, and produced metal fine particles are deposited on the carrier to form a metal carried catalyst to use as the catalyst for the fuel cell electrode.例文帳に追加

担体と有機塩基及び還元剤の存在下、金属ハロゲン化物を液相還元し、生成した金属微粒子を担体に沈着させた金属担持触媒を、燃料電池電極用触媒として用いる。 - 特許庁

Before metallizing, the activator metal complex present in the form of sulfide or polysulfide is reduced to metal, so as to form a conductive layer, and the metal layer is directly electrolytically deposited.例文帳に追加

めっき前に、硫化物または多硫化物の形式で存在する活性金属錯体を金属に還元して、導電性皮膜を生じさせ、金属皮膜を直接電解析出させる。 - 特許庁

The metal thin film layer 16 is formed by a metal deposited film covering all the area of the surface 1402 of the under layer 14 of an opposite side of the surface 1202 of the sphere 12 and has the metal luster.例文帳に追加

金属薄膜層１６は、球体１２の表面１２０２と反対側のアンダー層１４の表面１４０２の全域を覆う金属蒸着膜で形成された金属光沢を有するものである。 - 特許庁

To improve the removal ratio of removed ground metal when removing ground metal deposited on a ladle, and to improve the fixation ratio of spray coating material to be sprayed after removing ground metal.例文帳に追加

取鍋に付着した地金を除去するにあたって、除去した地金の除去率を向上させることができると共に、地金除去後に行われる吹き付け材の定着率も向上させることができるようにする。 - 特許庁

A part of the metal atoms ground from a sample during the plasma etching and scattered therearound is adhered to the surface of the mask member 50 to deposit the metal film, while no metal film is deposited on positions of the slits 503, and a blank area is formed.例文帳に追加

プラズマエッチング中にサンプルから削り取られて飛散する金属原子の一部はマスク部材５０の表面に付着して金属膜を形成するが、スリット５０３の部分は金属膜が形成されず空白領域となる。 - 特許庁

Inside of the contact hole 109, a third metal film 111 is deposited on the second metal film 105 and then the plug consisting of the third metal film 111 is formed.例文帳に追加

接続孔１０９の内部において第２の金属膜１０５の上に第３の金属膜１１１を成長させて該第３の金属膜１１１からなるプラグを形成する。 - 特許庁

The metal vacuum deposition workpiece is composed of a transparent or semi-transparent substrate and a metal deposited film prepared by directly depositing the metal without forming the undercoat layer on the upper layer of the substrate.例文帳に追加

透明又は半透明の基材と、前記基材の上層にアンダーコート層を形成することなく直接金属が蒸着された金属蒸着膜とで構成された金属蒸着加工物。 - 特許庁

A metal deposition material 4 is deposited on the surface of a metal filter sheet 2 obtained by sintering an aggregation of metal wires 1 in a manner that the filter pores 3b remain.例文帳に追加

金属線材１の集合体を焼結した金属フィルタシート２の表面に、フィルタ孔３ｂが残存するように金属蒸着材４を蒸着する。 - 特許庁

A building material to which a paint containing a heavy metal is deposited is carbonized to the charcoal and the remaining heavy metal in the charcoal is adsorbed and fixed by a heavy metal adsorbent.例文帳に追加

重金属を含有する塗料が付着した建材を炭化して木炭とし、前記木炭に残留する重金属を重金属吸着剤に吸着させて固定するようにした。 - 特許庁

On the surface of a substrate with a gate insulating film formed, a first metal forming a gate electrode is deposited, and a metal film that becomes a mask is formed in a region in which the first metal remains.例文帳に追加

ゲート絶縁膜を形成した基板表面にゲート電極を構成する第１の金属を堆積し、第１の金属を残存させる領域にマスクとなる金属膜を形成する。 - 特許庁

In this metal surface treatment method, a galvanized layer 36 is formed on the surface of a pulley base metal 10a as a metal layer having the ionization tendency than that of iron, and a titania phosphate compound layer 38 is deposited on the surface of the galvanized layer 36.例文帳に追加

プーリ母材１０ａの表面に鉄よりイオン化傾向の小さい金属層として亜鉛メッキ層３６を形成し、亜鉛メッキ層３６の表面にリン酸チタニア化合物層３８を形成する。 - 特許庁

Alternatively, an insulating film 22 is formed on a substrate 21, a metal layer 23 is deposited on the insulating film 22 and subsequently fine protrusions and recessions are formed on the surface of the metal layer 23 by heating the metal layer 23.例文帳に追加

または、基板２１上に絶縁性膜２２を成膜し、該絶縁性膜２２上に金属層２３を成膜し、次に、前記金属層２３を加熱して金属層２３表面に微細な凹凸を形成する。 - 特許庁

Inter- metal chemicals are deposited on the projecting faces of the projecting bars 20 in the metal plate 10 and the gas passages 30 are partitioned by the surface 11 of the exposed metal plate 10 and a pair of side face 21 of the adjoining projecting bars 20.例文帳に追加

金属板１０における凸条２０の突出面には金属間化合物が析出しており、ガス通路３０を、露出する金属板１０の表面１１と、隣り合う凸条２０の一対の側面２１とにより画成する - 特許庁

The manufacturing method includes a step (c) of reducing the film thickness of the metal film after the step (b), and separating the metal film embedded in the wiring groove from the metal film deposited on the interlayer dielectric.例文帳に追加

そして、この工程（ｂ）の後に、前記金属膜の膜厚を減少させるとともに、前記配線溝に埋め込まれた金属膜と前記層間絶縁膜上に堆積した金属膜との分離を行う工程（ｃ）を有する。 - 特許庁

This welding method for fusing metal onto the base material reduces the residual stress containing a process for welding the fusion metal on the base material and a process for plastically recessively deforming the neighborhood of surrounding part of the deposited metal on the surface of the base material.例文帳に追加

母材に溶着金属を溶接する工程と、母材表面であって溶着金属の周縁部近傍を凹状に塑性変形させる工程とを含む残留応力を低減した母材への溶着金属の溶接方法。 - 特許庁

In the manufacturing method for the exhaust gas cleaning catalyst, an organic acid is contained in a noble metal salt aqueous solution so that a molar ratio of the organic acid and the noble metal may be a fixed range, and the noble metal is deposited on the heat resistant inorganic oxide carrier.例文帳に追加

貴金属塩の水溶液に、該有機酸と該貴金属のモル比が一定の範囲になるように有機酸を含有させ、該貴金属を耐熱性無機酸化物担体に担持させる排気ガス浄化用触媒の製造方法である。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet wherein an adhesion defect between a metal vapor deposition layer and an adhesive agent layer generated when the adhesive agent layer is formed on the metal vapor deposited surface of a metal vapor deposition film by a transfer method is improved.例文帳に追加

金属蒸着フィルムの金属蒸着を施した面に、転写法により粘着剤層を形成する際に生じる金属蒸着層と粘着剤層との密着不良が改善された粘着シートを提供する。 - 特許庁

A metal layer 12 composed of silver is deposited on a substrate 11 by a sputtering method and subsequently fine protrusions and recessions are formed on a surface of the metal layer 12 by applying an electric field 13 in the film thickness direction of the metal layer 12.例文帳に追加

基板１１上に銀からなる金属層１２をスパッタ法により成膜し、次に、金属層１２の膜厚方向に電界１３を印加して金属層１２の表面に微細な凹凸を形成する。 - 特許庁