「Microprocessing」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain techniques to improve the performance in microprocessing of a semiconductor element using high energy rays, in particular, KrF excimer laser light, X-rays, electron beams or EUV (extreme UV) rays, and to provide a negative resist composition satisfying the requirements for high sensitivity, high resolution, a preferable pattern profile and preferable dependence on the pattern density.例文帳に追加

高エネルギー線、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な疎密依存性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In the case of applying microprocessing to holes and trenches by dry-etching the interlayer insulating film in a plasma environment, fluorocarbon compound gas is employed for etching gas which is halogen group gas (halogen elements are F, I and Br) wherein at least one of the I and Br is 26% or below of the total amount of halogen in terms of an atomic composition ratio and a remaining material is F.例文帳に追加

プラズマ雰囲気中でドライエッチングしてホール、トレンチを微細加工する際に、エッチングガスとして、ハロゲン系ガス（ハロゲンは、Ｆ、Ｉ、Ｂｒ）であって、Ｉ及びＢｒの少なくとも一方が、原子組成比でハロゲンの総量の２６％以下で、残りがＦであるフッ化炭素化合物ガスを用いる。 - 特許庁

To eliminate stress imbalance, to enhance detection sensitivity, and to enhance reliability, as to a thermal fluid flow sensor having a diaphragm structure body configured by an insulating film formed by stacking a film having compressive stress and a film having tensile stress on the top and bottom of a temperature-measuring resistive element and a heater resistive element which are processed by microprocessing.例文帳に追加

微細加工された測温抵抗体および発熱抵抗体の上下に圧縮応力を有する膜と引っ張り応力を有する膜が積層された絶縁膜で構成されたダイヤフラム構造部を有する熱式流体流量センサにおいて、応力不均衡を解消し、検出感度を向上し、かつ信頼性を向上する。 - 特許庁

This microprocessing one-shot valve comprises a silicon substrate, a channel having openings over both surfaces of the silicon substrate, a metallic layer formed on one surface of the silicon substrate so as not to block up the opening of the channel, and a low melting point metallic member covering at least a part of the metallic layer and welded to cut off the opening of the channel.例文帳に追加

マイクロ加工ワンショットバルブであって、 シリコン基板と、 前記シリコン基板の両面に亘る開口部を有するチャネルと、 前記シリコン基板の一面上に、前記チャネルの開口部を塞がないように形成された金属層と、 前記金属層の少なくとも一部を覆い、かつ、前記チャネルの開口部を遮断するように溶着された低融点金属部材と、 を備えている構成とする。 - 特許庁

By microprocessing a laminate 5 manufactured by laminating an electron emission layer 51 and an electron extracting electrode layer 53 via an insulator layer 52 with an IC technology, a number of micro columnar electron emission part 2 can be formed at an expected region in an expected shape and arrangement and an electron extracting electrode layer 53 can be formed at upper part of adjoining circumference as required.例文帳に追加

絶縁体層５２を介して電子放出層５１と電子引出電極層５３とを積層し、このようにして得た積層体５をＩＣ技術を用いて微細加工することにより、多数の微細柱状の電子放出部２を所望領域に所望の形状及び配置で形成することができ、その近接した周囲上方に電子引出電極層５３を適宜形成することができる。 - 特許庁

One or a plurality of microwells are arranged on the surface of an electrode by a microprocessing technique, to produce a biomolecule array chip wherein probe DNA is fixed to each of a plurality of the microwells, and a change in an oxidation-reduction current value at the interaction of target DNA with probe DNA is measured with high sensitivity to detect the variation of a single base in target DNA.例文帳に追加

微細加工技術によって１または複数の微小ウェルを電極表面上に配列させ、これら１または複数の微小ウェルの各々にプローブＤＮＡを固定化したバイオ分子アレイチップを作製し、このプローブＤＮＡにターゲットＤＮＡが相互作用したときの酸化還元電流値の変化を高感度で測定することによって、ターゲットＤＮＡ中の単一塩基の変異を検出する。 - 特許庁

To provide a polishing solution for polishing hard barrier layers and layer insulation films while the surface of cupper or a cupper alloy in a recess is protected during polishing to obtain a polished superior-flatness clean substrate surface, in the manufacturing of an electronic apparatus such as a semiconductor device, and to provide a high reliability chemical/mechanical polishing method superior in microprocessing, thinning, and dimension accuracy.例文帳に追加

半導体デバイスなど電子機器の製造において、硬いバリア層や層間絶縁膜を研磨する際に、凹部の銅或いは銅合金表面を研磨中に保護することにより、研磨後に平坦性に優れた清浄な基体表面が得られる研磨液、及び前記研磨液を用いて生産性が高く、微細化、薄膜化、寸法精度に優れ、信頼性の高い化学機械研磨を行う研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor element to be used for a non-volatile semiconductor memory or the like, a semiconductor memory using the semiconductor device, its data writing method, data reading method, and those manufacturing method, capable of achieving the microprocessing and integration of cells with superior storage characteristics of data, and for reducing power consumption.例文帳に追加

本発明は、不揮発性半導体記憶装置等に利用される半導体素子及びそれを用いた半導体記憶装置、及びそのデータ書込み方法、データ読出し方法、及びそれらの製造方法に関し、セルの微細化及び集積化が可能で、データの記憶特性に優れ、低消費電力化が可能な半導体素子及びそれを用いた半導体記憶装置、及びそのデータ書込み方法、データ読出し方法、及びそれらの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁