Microprocessingを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 63件
ATOMIC FORCE MICROSCOPE MICROPROCESSING DEVICE AND MICROPROCESSING METHOD USING ATOMIC FORCE MICROSCOPE例文帳に追加
原子間力顕微鏡微細加工装置及び原子間力顕微鏡を用いた微細加工方法 - 特許庁
MICROPROCESSING ONE-SHOT VALVE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
マイクロ加工ワンショットバルブ、およびその製造方法 - 特許庁
To provide a microprocessing treatment agent capable of performing selective microprocessing treatment of a silicon oxide film on a laminated film of a silicon nitride film and the silicon oxide film, and to provide a microprocessing treatment method using the same.例文帳に追加
シリコン窒化膜及びシリコン酸化膜の積層膜に対して、シリコン酸化膜を選択的に微細加工することが可能な微細加工処理剤、及びそれを用いた微細加工処理方法を提供する。 - 特許庁
To perform the physical property microprocessing of a cyano-bridged metal complex by a simple method.例文帳に追加
簡易な方法でシアノ架橋金属錯体の微細物性加工を行うこと。 - 特許庁
METHOD FOR REMOVING MASK EXCESS DEFECT BY USING ATOMIC FORCE MICROSCOPE MICROPROCESSING DEVICE例文帳に追加
原子間力顕微鏡微細加工装置を用いたマスク余剰欠陥除去方法 - 特許庁
To provide a high dielectric composition which enables production at low temperatures and microprocessing.例文帳に追加
低温での製造および微細加工が可能な高誘電体組成物を提供する。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MICROPROCESSING CYANO CROSSLINKED METAL COMPLEX例文帳に追加
シアノ架橋金属錯体の微細加工方法およびシアノ架橋金属錯体の微細加工装置 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING DEFECT OF PHOTOMASK AND ATOMIC FORCE MICROSCOPE MICROPROCESSING DEVICE USED THEREFOR例文帳に追加
フォトマスク欠陥修正方法及びそれに用いる原子間力顕微鏡微細加工装置 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING BLACK DEFECT IN CHROME MASK BY USING ATOMIC FORCE MICROSCOPE MICROPROCESSING DEVICE例文帳に追加
原子間力顕微鏡微細加工装置を用いたクロムマスクの黒欠陥修正方法 - 特許庁
MICROPROCESSING METHOD AND APPARATUS OF CARBONACEOUS MATERIAL USING LOW VACUUM SCANNING ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加
低真空走査型電子顕微鏡を用いた炭素系材料の微細加工方法とその装置 - 特許庁
Ten processings from processings 1 to 10 are executed for inputted data by an MPU(microprocessing unit) 1 and an MPU 2.例文帳に追加
入力データに対してMPU1とMPU2とで処理1〜処理10の10個の処理を実行する。 - 特許庁
A pulse wave detecting section includes a pulse wave sensor 83 and outputs a pulse wave detection signal to an MPU (microprocessing unit) 94.例文帳に追加
脈波検出部は、脈波センサ83を有し、脈波検出信号をMPU94に出力する。 - 特許庁
A microprocessing unit (MPU) 31 accepts a command, to start or end superimposing of a predetermined image signal on an input image signal.例文帳に追加
MPU31は、入力画像信号に対する所定の画像信号の重畳の開始または終了の指令を受け付ける。 - 特許庁
To obtain the packaging structure of an MPU(microprocessing unit), which is used for low packaging the MPU in a compact size on the inner side of the metal case body of an electronic device.例文帳に追加
MPUを電子装置の金属筐体内側にコンパクトに丈低く実装するためのMPUの実装構造を得る。 - 特許庁
To provide a microprocessing mold constituted so as to be easily supported on a press machine in forming a microstructure on a substrate by a nano-imprinting method, a hot embossing method or the like, preventing the deformation or distortion caused by pressure and heating at the time of pressing and capable of performing microprocessing with high precision at a low cost.例文帳に追加
ナノインプリント、ホットエンボシング等の方法により基板上に微細構造を形成するにあたり、プレス装置に支持しやすく、かつプレス時における加圧および加熱による変形や歪みを防止し、高精度かつ低コストで加工しうる微細加工用型を提供する。 - 特許庁
To attain high accuracy of processing of an atomic force microscope microprocessing device and to make it possible to remove process waste produced in a cutting step by a process probe.例文帳に追加
原子間力顕微鏡微細加工装置の加工の高精度化と加工探針による切削で発生した加工屑をインラインで除去可能にする。 - 特許庁
To provide fine liquid droplets in a fine space in order to enable microprocessing and to provide a method and a device for forming fine liquid droplets therefor.例文帳に追加
マイクロ加工を可能にするために、微細空間に微細な液滴を供給すること、そのために微細な液滴の形成方法及び装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a disk original capable of microprocessing pits, grooves or visual information, and to provide a disk original and a simplified cutting apparatus.例文帳に追加
ピットまたはグルーブ、視認情報などの微細加工が可能な、ディスク原盤製造方法、ディスク原盤および簡略化されたカッティング装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for removing fine particles enabling to detect and remove the nano-sized particles adhering to a member used for a microprocessing process.例文帳に追加
微細加工プロセスに用いる部材に付着したナノサイズの微粒子を検出し、除去することが可能となる微粒子の除去方法を提供する。 - 特許庁
A file transmission device includes one first USB connection unit, a second USB connection unit, at least one microprocessing unit, and a network transmission application program.例文帳に追加
ファイル伝送装置は、一つの第一USB接続ユニット、第二USB接続ユニット、少なくとも一つのマイクロプロセッシングユニットとネットワーク伝送応用プログラムとを備える。 - 特許庁
To provide a semiconductor device that is adaptive to development of microprocessing technologies, has a high design flexibility, and can efficiently form a capacitative element.例文帳に追加
微細加工技術の進展に対応可能であって、設計自由度が高く、かつ効率よく容量素子を形成することが可能な半導体装置を提供すること。 - 特許庁
To control a fluid by realizing the function of a fluid valve, a micropump or the like, in a microchannel (microflow channel) without requiring the adaptation of a microprocessing process.例文帳に追加
微細加工プロセスの適用を必要とすることなしに、マイクロチャンネル(微細流路)に流体バルブやマイクロポンプ等の機能を実現して流体の制御を可能とする。 - 特許庁
To provide a focused charged particle beam processing method and a device, which perform a highly precise microprocessing by measuring the temperature of a sample in the vicinity of irradiation position of focused charged particle beams.例文帳に追加
集束荷電粒子ビーム照射位置近傍のサンプルの温度を測定し、高精度な微細加工を行う集束荷電粒子ビーム加工方法及び装置を提供する。 - 特許庁
To provide a new silicone copolymer having good transmissivity for short wavelength exposure like ArF exposure, and is suitable as an intermediate layer material for use in microprocessing.例文帳に追加
ArF露光のような短波長露光での透過性がよく、さらに、微細加工に使用される中間層材料として好適な新規シリコーン共重合体を提供する。 - 特許庁
To provide a polishing pad which easily forms a groove or the like which requires microprocessing difficult to process by a conventional cutting process, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加
従来方法の切削加工などでは加工困難な微細加工の必要な溝などを簡易に形成することのできる、研磨パッド製造方法および研磨パッドを提供する。 - 特許庁
The motion control device 17a comprises an MPU (microprocessing unit) 20a, a semiconductor storage element 22a and the outside device 18 connected to the MPU 20a via an outside interface 21.例文帳に追加
動作制御装置17aには、MPU20a、半導体記憶素子22a及びこのMPU20aに外部インターフェース21を介して接続された外部機器18が設けられている。 - 特許庁
To provide a pattern working method and a pattern working device, working the worked base within a mask width to be flat without over-etching by anisotropy working, and performing microprocessing.例文帳に追加
異方性の加工によりオーバエッチングを生じることなくマスク幅内の加工底面を平坦に加工でき、微細加工が可能なパターン加工方法及びパターン加工装置を提供する。 - 特許庁
To provide a tape that cleans, for example, a transfer system of any substrate processing apparatus and of an exposure mask (reticule) during microprocessing, and to provide a method for cleaning these with the same.例文帳に追加
本発明は、例えば各種の基板処理装置や微細加工時の露光マスク(レチクル)の搬送系などをクリーニングするテープ、及びこれを用いたこれらのクリーニング方法を提供する。 - 特許庁
A button module, a pointing module, a radio communication module, and a microprecessing module are contained in the remote control device, and the button module, a pointing module are contained in the remote control device, and the radio communication module are controlled by the microprocessing module.例文帳に追加
ボタンモジュールとポインティングモジュール、無線通信モジュール及びマイクロプロセスモジュールが含有され、マイクロプロセスモジュールにより、ボタンモジュールとポインティングモジュール及び無線通信モジュールが制御される。 - 特許庁
To provide a method of efficiently manufacturing 3,5-dihydroxy-1-adamantyl acrylates which are useful as raw material monomers for highly functional materials such as a resist material for microprocessing.例文帳に追加
微細加工用レジスト材料等の高機能性材料向け原料モノマーとして有用な、3,5−ジヒドロキシ−1−アダマンチルアクリレート類を効率良く製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a microprocessing method which simplifies and shortens a working process, and reduces the cost of the working process and materials, in forming a micropattern used for a semiconductor device, an optical device or a bio chip.例文帳に追加
半導体デバイス、光学デバイスあるいはバイオチップなどに用いられる微細パターンの形成において、加工プロセスが単純かつ短時間であって、加工プロセスや材料のコストが安価な微細加工方法を提供する。 - 特許庁
The handsfree apparatus 20 includes a cellular phone I/F 21, a car navigation I/F 22, an MPU (Microprocessing Unit) 22 and voice gain parameter tables 25a, 25b and 25c, and relays a voice signal between a cellular phone 10 and a car navigation 30.例文帳に追加
ハンズフリー装置20は、携帯電話I/F21、カーナビゲーションI/F22、MPU23及び音声ゲインパラメータテーブル25a、25b、25cを備え、携帯電話10とカーナビゲーション30間における音声信号を中継する。 - 特許庁
The light scanning device 16 contains a movable plate (reflecting mirror) and a torsion bar that is integrally formed from a silicon substrate by the semiconductor microprocessing method, and has a photodiode integrally formed at the center of the movable plate.例文帳に追加
光走査装置16はリコン基板から半導体微細加工法により可動板(反射ミラー)やトーションバー等が一体に形成されており、可動板の中央部にはフォトダイオードが一体に形成されている。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition for sandblasting having excellent alkaline developing property and resolution, excellent adhesion property with a substrate, excellent resistance against sandblasting, sharpness of an image and easy microprocessing property.例文帳に追加
アルカリ現像性及び解像性に優れ、かつ基材との密着性に優れると共に、耐サンドブラスト性、画像のシャ−プ性に優れ、微細加工が容易であるサンドブラスト用感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide an excellent positive resist composition which has sufficiently excellent contrast, furthermore, which has no problem of outgassing at the time of exposure by solving a problem associated with a performance improving technique in microprocessing of a semiconductor element using EUV (Extreme Ultraviolet) rays.例文帳に追加
EUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決し、充分良好なコントラストを有し、さらに露光時のアウトガスの問題がない優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a multi-probe and a microprocessing method using it, able to be applied as it is to a scan type probe microscope, performing high-accuracy nano-processing for an arbitrary position in a wide range collectively, and directly measuring the surface shape of a workpiece after processing.例文帳に追加
走査型プローブ顕微鏡にそのまま適用することができ、広範囲を一括に、且つ任意位置に高精度なナノ加工を行うことができ、加工後、直接被加工物の表面形状を計測することができる。 - 特許庁
To provide a positive resist composition for microprocessing which is sensitive to far UV rays and which has sufficient dry etching durability, sensitivity, transparency for ArF excimer laser light and excellent alkali developing property.例文帳に追加
遠紫外線に感応する微細加工用ポジ型レジスト組成物であって、十分なドライエッチング耐性、感度、およびArFエキシマレーザーに対する透明性を有し、かつ優れたアルカリ現像性を有するポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁
To provide a miniaturizable microprocessing one-shot valve with an opening temperature of the valve settable to an optional temperature, and usable in any of a liquid environment or a gas environment by restraining the scattering of contents except for fluid.例文帳に追加
バルブの開放温度を任意の温度に設定することができ、流体以外の内容物の飛散を抑制して、液体環境または気体環境のいずれにも使用でき、小型化を図ることが可能となるマイクロ加工ワンショットバルブ等を提供する。 - 特許庁
According to the microprocessing method, a liquid composition discharged from an ink jet head is made to collide with the upside of a curable composition liquid applied to a base material 10, thereby curing at least the curable composition liquid to form a micropattern 23.例文帳に追加
基材10上に塗布した硬化性組成液の上に、インクジェットヘッドから吐出した液体組成物を衝突させた後、少なくとも前記硬化性組成液を硬化させて、微細パターン23を形成することを特徴とする微細加工方法。 - 特許庁
To provide a microprocessing method of a sample which is capable of achieving processing in nanometer order accuracy without damaging the sample regardless of conductive/insulating properties of the sample, superior in efficiency compared with an conventional method, and capable of shortening processing time and simplifying processing.例文帳に追加
導電性・絶縁性試料を問わず試料に損傷を与えることなくナノメートルオーダー精度での加工を実現することができ、かつ従来手法に比べ効率に優れ、加工時間の短縮・簡便化を図ることができる試料の微細加工方法を提供する。 - 特許庁
To provide a radiosensitive resin composition useful as a chemically amplifying resist for use in microprocessing and an acid dissociative group-containing polymer, and to provide a pyrazole derivative useful as a chain transfer agent for preparation of the copolymer.例文帳に追加
微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用できる感放射線性樹脂組成物および酸解離性基含有重合体、この共重合体の製造に連鎖移動剤として好適に用いることができるピラゾール誘導体を提供する。 - 特許庁
To establish an electrical connection between a capacitive element, which includes a capacitive film comprising an upside ferroelectric or highly dielectric material, and a contact plug, by converting a predetermined region of a hydrogen barrier film into a conductive hydrogen barrier layer, without etching a fine contact hole in the hydrogen barrier film which resists microprocessing.例文帳に追加
微細加工が困難な水素バリア膜を微小コンタクトホールエッチングすることなく、所定領域のみ導電性水素バリア層として上部の強誘電体または高誘電体からなる容量膜を含む容量素子とコンタクトプラグとを電気的に接続する。 - 特許庁
To provide an axially excited gas laser which easily obtains a laser beam of a short pulsewidth acting at a high repetition frequency in a simple circuit, allows the laser size to be greatly reduced and a high repetition operation, and is usable for microprocessing or ablating process of tooth.例文帳に追加
簡便な回路で高い繰り返し周波数で動作するパルス幅の短いレーザー光を容易に得ることを可能とし、レーザー装置を大幅に小型化、高繰り返し化できる、微細加工や歯のアブレーション加工に使用される軸方向励起ガスレーザー装置を提供する。 - 特許庁
An MPU (microprocessing unit) 17 controls a gain of the RF final stage amplifier 16 on the basis of the level of the received signal from the RF final stage amplifier 16 via a BPF (band-pass filter) 19 and a detector 20 and a status outputted from the reception units 13a to 13n.例文帳に追加
MPU17は、RF終段増幅器16からBPF19及び検波器20を介して入力される信号のレベル及び受信ユニット13a〜13nから出力されるステータスに基づいてRF終段増幅器16の利得を制御する。 - 特許庁
This invention discloses the slide bearing device in which a hard film is formed on a sliding surface of at least one member of the members forming the sliding surfaces of a slide bearing, a covering film of a solid lubricant is formed, and microprocessing which forms a microrecessed portion is provided.例文帳に追加
本発明は、滑り軸受の摺動面を形成する部材のうち少なくとも一方の部材の摺動面に、硬質膜が形成されている、固体潤滑剤被膜が形成されている、微細な凹部を形成する微細加工が施されている、滑り軸受装置を開示する。 - 特許庁
Under an ultra-high vacuum, a high electric field is formed at a to-be-worked part of the sample having a sample multi-layer film structure, and the to-be-worked part is irradiated with a laser beam 13 to perform photoexcitation field evaporation, thereby performing microprocessing without damaging an atomic structure of the sample.例文帳に追加
超高真空下において、試料多層膜構造を有する試料の被加工部に、高電界を形成すると共に、レーザー光13を照射して、光励起電界蒸発を行わせることによりその原子構造に損傷を与えることなく微細加工する。 - 特許庁
To solve the problem of the manufacturing cost from rising accompanying with that a more high microprocessing technology is required for forming A/D conversion parts in the conventional MOS solid state image sensing elements containing the A/D conversion parts as the integration degree of the photoelectric conversion element is more elevated.例文帳に追加
A/D変換部を内蔵した従来のMOS型固体撮像素子において光電変換素子の集積度を高めれば高める程、A/D変換部を形成する際に高度な微細加工技術が要求されるようになり、これに伴って製造コストが増大する。 - 特許庁
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