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PL-Cの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 16



例文

The crystal of PL-C belongs to a trigonal space group R3 and has unit lattice constants of a=b=104.1Å and c=69.7Å in trigonal crystal state.例文帳に追加

PL-Cの結晶は、三方晶系空間群R3に属し、三方晶状態でa=b=104.1Å、c=69.7Åの単位格子定数を有する。 - 特許庁

The crystal of PL-D1 belongs to a space group P2_12_12 and has unit lattice constants of a=48.67Å, b=49.01Å and c=29.93Å.例文帳に追加

PL-D1の結晶は、空間群P2_12_12に属し、a=48.67Å、b=49.01Å、c=29.93Åの単位格子定数を有する。 - 特許庁

The crystal of PL-D2 belongs to a space group P2_1 and has unit lattice constants of a=23.24Å, b=56.95Å, c=29.62Å and β=109.3°.例文帳に追加

PL-D2の結晶は、空間群P2_1に属し、a=23.24Å、b=56.95Å、c=29.62Å、β=109.3°の単位格子定数を有する。 - 特許庁

A recessed part 1C capable of receiving a cylindrical projecting part C around a bolt inserting hole BH formed in the metallic plate PL is formed in an end surface 1B opposed to the metallic plate PL.例文帳に追加

金属板(PL)に形成されるボルト挿通孔(BH)の周囲の筒状突部(C)を受入れ可能な凹部(1C)が金属板(PL)に対面する端面(1B)に形成されている。 - 特許庁

例文

The exposure apparatus EX includes a mask stage 1 and a chamber device C which covers a projection optical system PL and a substrate stage 2 and forming an inner space N1.例文帳に追加

露光装置EXは、マスクステージ1、投影光学系PL及び基板ステージ2を覆う、内部空間N1を形成するチャンバ装置Cを備える。 - 特許庁


例文

The ideal low-beam pattern PL is a light distribution pattern where a part on the side of a driving lane within the highest illuminance zone HZ (a latticed part within (C) in Fig. 2) increases.例文帳に追加

この理想のすれ違い用の配光パターンPLは、最高照度ゾーンHZ(図2(C)中、格子が施された部分)のうち、走行車線側の部分が増大している配光パターンである。 - 特許庁

While the speed is in the R range, the valve 9 is shifted from the position shown in the figure to the left and to a backward travel position (R position), and the clutch R/C is engaged by line pressure PL, and the clutch F/C is released so that the automatic transmission can travel backward.例文帳に追加

Rレンジ時は弁9を図示位置から左行させて後退走行位置(R位置)にし、ライン圧P_L によりクラッチR/Cを締結させると共にクラッチF/Cを解放状態にして自動変速機を後退走行可能状態にする。 - 特許庁

While the speed is in a D range, the valve 9 is shifted from the position shown in the figure to the right and to a forward travel position (D position), and the clutch R/C is engaged by line pressure PL, and the clutch F/C is released so that the automatic transmission can travel forward.例文帳に追加

Dレンジ時は弁9を図示位置から右行させて前進走行位置(D位置)にし、ライン圧P_L によりクラッチF/Cを締結させると共にクラッチR/Cを解放させることで自動変速機を前進走行可能状態にする。 - 特許庁

A carrier material PL is heated at a heating temperature of 200°C to 400°C MCH, and a mixture of gases MG containing t-butyliminotris(diethylamino) tantalume(t-BuN=Ta(NEt_2)_3) of a partial pressure more than 25 mTorr(3.3Pa) is circulated, being contacted with the heated carrier material in an atmosphere of oxidization.例文帳に追加

担体材料PLを200℃〜400℃の加熱温度に加熱しMCH、分圧25mTorr(3.3Pa)以上のt−ブチルイミノトリス(ジエチルアミノ)タンタル(t−BuN=Ta(NEt_2)_3)を含むガス混合物MGを酸化雰囲気下で加熱担体材料に接触させながら循環させる。 - 特許庁

例文

For instance, in the case that an SF fault is generated in an active system transmission line SL (4) from the state where a fault is generated in the standby system transmission lines PL (1) and (2) of a segment C, the effect of SF fault generation is directly reported from the node C to the node D by MS-RDI signals.例文帳に追加

例えばセグメントCの予備系伝送路PL(1)、(2)に障害が発生している状態から現用系伝送路SL(4)にSF障害が発生した場合に、SF障害発生の旨を、ノードCからノードDに対してMS−RDI信号により直接に通知する。 - 特許庁

例文

Four F marks are placed in advance on a printed wiring board and relative positions between ideal mark positions A, B, C and D of the F marks on the printed wiring board before deformation, and ideal mounting positions PL for mounting electrical components are obtained.例文帳に追加

プリント配線板に予め4つのFマークを設け、変形前のプリント配線板におけるFマークの理想マーク位置A,B,C,Dと電気部品を装着する理想装着位置PLとの相対位置を取得する。 - 特許庁

A target area (die) C of a mask (reticle) MA on a mask table MT is irradiated a lithographic projecting apparatus 1 with a projected beam PB generated by a radiation systems LA, IL, and the image thereof is imaged on a substrate W on a substrate table WT via a projecting system PL.例文帳に追加

放射システムLA,ILによって発生された投射ビームPBを、マスクテーブルMT上のマスク(レティクル)MAの目標区域(ダイ)Cに照射し、その像を投影システムPLを介して基板テーブルWT上の基板Wに像映する、リトグラフ投影装置。 - 特許庁

At a GPS satellite 100 and a PL transmitter 200, carrier waves in L1, L2, and L5 wave bands are modulated by an SOC modulation system and a BOC modulation system on the basis of C/A and P codes, and positioning signals up to twelve kinds are generated and emitted into space.例文帳に追加

GPS衛星100およびPL送信機200において、L1,L2,L5波帯の搬送波をC/AコードおよびPコードに基づきSOC変調方式、およびBOC変調方式で変調して最大で12通りの測位信号を生成し、空間に放射する。 - 特許庁

The voltage control unit 12 controls an output voltage to be constant in accordance with a working voltage, the capacitor C charges or discharges depending on a generated output Pg of the wind power generator G and a selling electric power Pb can be sent out to the commercial electric power system PL through the linkage unit 14.例文帳に追加

電圧制御ユニット12は、キャパシタCの使用電圧に合わせて出力電圧を一定に制御し、キャパシタCは、風力発電機Gの発電電力Pg の変動により充放電し、昇圧ユニット13、連係ユニット14を介して売電電力Pb を商用電力系統PLに送出することができる。 - 特許庁

In the injection mold wherein the runner 9 and gate (g) communicating with a cavity C are formed to a parting line surface PL, a runner body fixing means for fixing the runner body R cured in the runner and a molding body moving means for moving the molded object S cured in the cavity while holding the same between a cavity block 5 and a core block 6 are provided.例文帳に追加

キャビティCに連通したランナー9およびゲートgをパーティングライン面PLに形成した射出成形用金型において、ランナー内で硬化したランナー体Rを固定するランナー体固定手段と、キャビティ内で硬化した成形体Sをキャビティブロックと5コアブロック6との間に保持したまま移動させる成形体移動手段とを備えてある。 - 特許庁

例文

The manufacturing apparatus which is characterized in that one wavelength in exposure is 140 to 310 nm and the other is 360 to 440 nm and different and is for manufacturing different kinds of resist liquids containing the mutually different solvent components is equipped with a manufacture line PL formed by connecting the following (a) to (c) and a reverse washing line RL comprising the following (d) to (e).例文帳に追加

露光時の波長が一方は140〜310nmの範囲、他方が360〜440nmの範囲である点で異なり、且つ溶剤成分が互いに異なるレジスト液を製造するための装置であって、下記のa)〜c)をこの順に接続した製造ラインPLと下記のd)〜e)からなる逆洗浄ラインRLとを備えた製造装置。 - 特許庁




  
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