「VHF High band」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A power amplifier 44 amplifies and outputs output signals supplied from a voltage amplifier 6 for low VHF band and a voltage amplifier 34 for high VHF band.例文帳に追加

低ＶＨＦ帯用電圧増幅器６と、高ＶＨＦ帯用電圧増幅器３４から供給された出力信号を、電力増幅器４４が増幅して出力する。 - 特許庁

A VHF band high-frequency waveguide 20 is provided in the midway of the crossbeam 18 nearly in parallel with the UHF band waveguide 4a, 4b.例文帳に追加

腕木１８の中途にＵＨＦ帯導波器４ａ、４ｂとほぼ平行にＶＨＦ帯高域用導波器２０が設けられている。 - 特許庁

To provide a receiver that receives low-band and a high-band signals of a VHF television broadcast program without switching a local oscillation circuit.例文帳に追加

ＶＨＦのテレビ放送のローバンドと、ハイバンドとで、局部発振回路を切り換えずに使用する。 - 特許庁

To provide: an Fe-based soft magnetic alloy powder that has high performance coefficient Q and high real number part μ' of complex relative permeability, especially in the VHF band; a method of producing the Fe-based soft magnetic alloy powder; a magnetic sheet for VHF band and a molded article using the Fe-based soft magnetic alloy powder; and a magnetic core for VHF band.例文帳に追加

特に、ＶＨＦ帯域にて性能係数Ｑ及び複素比透磁率の実数部μ´が共に高いＦｅ基軟磁性合金粉末及びその製造方法、ならびに、前記Ｆｅ基軟磁性合金粉末を用いたＶＨＦ帯域用磁性シート及び成形体、ＶＨＦ帯域用磁心を提供することを目的としている。 - 特許庁

Changeover switches 4, 10 are provided corresponding to the voltage amplifier 6 for low VHF band, and change over switches 32, 38 are provided corresponding to the voltage amplifier 34 for high VHF band, respectively, and voltage is cut off in the voltage amplifier in the frequency band whose amplification becomes unnecessary, by the changeover switch corresponding to the amplifier.例文帳に追加

低ＶＨＦ帯用電圧増幅器６に対応して切換スイッチ４、１０が、高ＶＨＦ帯用電圧増幅器３４に対応して切換スイッチ３２、３８がそれぞれ設けられ、増幅不要となった周波数帯の電圧増幅器に、これに対応する切換スイッチによって電圧を遮断する。 - 特許庁

An antenna 1 includes a radiation electrode 2 for use in a UHF band of high frequencies and an additional radiation electrode 3 for use in a RF-ID band, a FM band, a VHF band, etc. of low frequencies.例文帳に追加

アンテナ１は、高周波のＵＨＦ帯で用いる放射電極２と低周波のＲＦ−ＩＤ帯，ＦＭ帯及びＶＨＦ帯等で用いる追加放射電極３とを備える。 - 特許庁

By applying a power source voltage between this pair of electrodes, high-frequency electromagnetic wave signals from the VHF band up to the SHF band are generated while centering mainly on the UHF band.例文帳に追加

この一対の電極間に電源電圧を印加して、ＶＨＦ帯からＳＨＦ帯までの主にＵＨＦ帯域を中心とする高周波電磁波信号を発生させる。 - 特許庁

A circuit group for the nonusage band of a reception signal is omitted in the tuner 8 and, besides, a circuit part for selecting stations is shared in the circuit group for a VHF band(low frequency band) and a UHF band(high frequency band) to be used.例文帳に追加

チューナ８においては、受信信号の未使用帯域向けの回路群は省略され、さらに使用されるＶＨＦ帯（低周波数帯）およびＵＨＦ（高周波数帯）向けの回路群においては選局のための回路部が共用される。 - 特許庁

When electromagnetic coupling takes place between the parasitic antenna element 5 and the element 4 of a monopole antenna, a current flows through the parasitic antenna element 5 and resonates on the low frequency side and the high frequency side of UHF band and VHF band.例文帳に追加

無給電エレメント５とモノポール型アンテナのエレメント４との間で電磁結合が発生して無給電エレメント５に電流が流れ、ＵＨＦ帯域及びＶＨＦ帯域の低周波側及び高周波側で共振する。 - 特許庁

A free space from a low-frequency VHF band up to a high-frequency microwave band is attained by preventing the generation of multiple-path diffraction waves.例文帳に追加

送受信点の中間に、屋根形電波障壁を置くことにより、反射面の遮蔽を完全にし、マルチ経路回折波の発生を阻止することによって、ＶＨＦ低域よりマイクロ波高域までの自由空間化を達成する。 - 特許庁

To provide a plasma processing system realizing a high density, high uniformity plasma over a wide parameter region in a plasma generation system employing a high frequency of VHF or UHF band and a magnetic field.例文帳に追加

ＶＨＦもしくはＵＨＦ帯の高周波と磁場とを用いてプラズマを生成する方式において、広いパラメータ領域で、高密度，高均一のプラズマを実現するプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Moreover, the oscillator creates a resonant signal using a large region of a capacity change region in a voltage-capacitance change curve of the varactor diode 21 at a time of VHF high band selection, and creates the resonant signal using a small region of the capacity change region in the voltage-capacity change curve of the varactor diode 21 at a time of VHF low band selection.例文帳に追加

また、ＶＨＦハイバンド選択時はバラクタダイオード２１の電圧−容量変化カーブのうち容量変化範囲の大きい領域を使用して共振信号を生成し、ＶＨＦローバンド選択時はバラクタダイオード２１の電圧−容量変化カーブのうち容量変化範囲の小さい領域を使用して共振信号を生成する。 - 特許庁

To provide a treating apparatus with plasma, with which undesirable discharge generated at the back surface of a ground electrode is surely suppressed when a substrate mounted on the ground electrode is subjected to a film depositing treatment using a high frequency belonging a VHF band.例文帳に追加

ＶＨＦ帯域に属する高周波を用いて接地電極に搭載された基板を成膜処理するとき、接地電極の裏面で発生する望ましくない放電を確実に防止するプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a ground wave digital broadcast reception tuner that can receive a digital audio signal or the like going to be broadcast, through only a VHF band channel or the like with a simple operation, while keeping high excluding capability with respect to adjacent channel disturbance.例文帳に追加

ＶＨＦ帯のチャンネルに限定して放送されるであろうデジタルの音声信号等を簡単な操作で、しかも、隣接チャンネル妨害に対して高い排除能力を保って受信できるようにする。 - 特許庁

To provide a high-frequency amplifying device capable of stopping an amplifying function for an analog TV broadcast of the VHF band, while maintaining the amplification functions for an FM broadcast.例文帳に追加

ＦＭ放送に対する増幅機能を維持した状態で、ＶＨＦ帯のアナログＴＶ放送に対する増幅機能を停止できる高周波増幅装置を提供する。 - 特許庁

To provide a radio wave absorption panel for a high structure such as a steel tower being usable for VHF and UHF in common, having wide band characteristics, and being light in weight.例文帳に追加

鉄塔等の背の高い構造物用の電波吸収パネルであって、ＶＨＦ、ＵＨＦに兼用が可能で広帯域特性を有し、軽量化された電波吸収パネルを提供する。 - 特許庁

The element 12 is formed so as to be able to resonate in a high band of a VHF band together with the element 11, and one end part of a 3rd antenna element 13 is further connected to the other end of the element 12 through a choke coil 22.例文帳に追加

第２のアンテナエレメント１２は、第１のアンテナエレメント１１と共にＶＨＦ帯の高い帯域で共振し得るように形成され、第２のアンテナエレメント１２の他端部には、さらに第２のチョークコイル２２を介して第３のアンテナエレメント１３の一端部が接続されている。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device which attains plasma having high density and high uniformity over the whole of an object to be treated by coping with a wide-ranging change in various parameters in the case where the plasma is produced using VHF or UHF band high-frequency waves.例文帳に追加

ＶＨＦまたはＵＨＦ帯の高周波を用いてプラズマを生成する場合、各種パラメータの広範囲の変化に対応し、被処理物４全体にわたり高密度、高均一性を持ったプラズマを実現することを可能にしたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The inductance of the series inductor L2 is a value by which a resonance frequency by the series inductor L2 and the radiation element RE is set at a frequency f0 between a VHF high band (207.5-222 MHz) being a first frequency band and a one-segment broadcasting frequency band (470-770 MHz) being a second frequency band.例文帳に追加

直列インダクタＬ２のインダクタンスは、その直列インダクタＬ２と放射素子ＲＥとによる共振周波数が、第１の周波数帯であるＶＨＦハイバンド（２０７．５〜２２２ＭＨｚ）と第２の周波数帯であるワンセグ放送周波数帯（４７０〜７７０ＭＨｚ）との間の周波数ｆ０になる値である。 - 特許庁

To realize a demodulator having a high frequency selectivity whereby its wide-band reception ranging from VHF to UHF is made possible and the image removing performance thereof is not deteriorated independently of the position of its desired receiving segment, in the demodulator for performing the partial reception of an ISDB-T modulation signal.例文帳に追加

ＩＳＤＢ−Ｔ変調信号の部分受信を行う復調装置において、ＶＨＦからＵＨＦまでの広帯域な受信を可能とし、かつ、受信セグメント位置によらずイメージ除去性能を劣化させない選択度の高い復調装置を実現する。 - 特許庁

One-side terminal of a capacitor Cv included in a U-V separation circuit 3 is connected to an output node of a wideband amplifier 2, to an input node of a VHF high-band input tuning circuit 11, and to an input node of an IF trap circuit 18.例文帳に追加

Ｕ−Ｖ分離回路３に含まれるコンデンサＣｖの一方端子は、広帯域増幅器２の出力ノードに接続されるとともに、ＶＨＦハイバンド入力同調回路１１の入力ノードおよびＩＦトラップ回路１８の入力ノードに接続される。 - 特許庁

The plasma processing system comprises an antenna and a radiation port for supplying a high frequency of VHF or UHF band to a processing chamber, and means for forming a magnetic field in the processing chamber wherein the ratio of the radius of the antenna and the effective length of the radiation port is set in the range of 0.4-1.5.例文帳に追加

プラズマ処理装置として、ＵＨＦもしくはＶＨＦ帯の高周波を処理室に供給するアンテナ及び放射口と、前記処理室に磁場を形成する磁場形成手段とを有し、前記アンテナ半径と放射口の実効長との比が０.４以上１.５以下となるアンテナ及び放射口を具備する。 - 特許庁

To provide a surface treating device and a method for uniformly generating plasma in a VHF band(30MHz to 300MHz) with high reproducibility between a pair of electrodes in a vacuum container for a large area substrate of 1mx1m class, and for carrying out uniform plasma surface treatment to the substrate.例文帳に追加

１ｍｘ１ｍ級大面積基板に対して、真空容器内の一対の電極間にＶＨＦ帯（３０ＭＨｚ〜３００ＭＨｚ）のプラズマが再現性良く、均一に生成され、基板に対する均一なプラズマ表面処理が可能となる表面処理装置および表面処理方法を提供すること。 - 特許庁

The high frequency power having the frequency of HF-VHF band is supplied to a first electrode with a substrate being arranged thereon, and the power having the frequency which is lower than that of the power to be supplied to the first electrode and ≤13.56 MHz or the DC pulse power of the pulse frequency is supplied to solve the problem.例文帳に追加

基板を配置する第１電極にＨＦ〜ＶＨＦ帯の周波数を有する高周波電力を供給し、対向電極となる第２電極に、前記第１電極に供給する電力よりも低周波数で、かつ、１３．５６ＭＨｚ以下である周波数を有する電力もしくはパルス周波数のＤＣパルス電力を供給することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

This microplasma jet generator to produce inductively coupled microplasma jet driven by a high frequency power supply in a VHF band has a substrate 1 is equipped with micro antennas 2a, 2b, 2c, a discharge tube 3 installed in the vicinity of the micro antennas, and the micro antenna has a wavy shape of a plurality of rolls.例文帳に追加

ＶＨＦ帯の高周波電源により駆動されるマイクロ誘導結合プラズマジェットを生成するマイクロプラズマジェット発生装置において、基板１と、基板上に配設されたマイクロアンテナ２ａ,２ｂ,２ｃと、マイクロアンテナの近傍に設置された放電管３とを備え、マイクロアンテナが平板状に複数巻の波状形態を有する。 - 特許庁