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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Y-Filmsに関連した英語例文

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Y-Filmsの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 32



例文

On the peripheral circuit region Y, light shield films 36a, 36b are formed.例文帳に追加

周辺回路領域Y上に、遮光膜36a,36bが形成される。 - 特許庁

A non-polarizing beamsplitter includes thin film groups and one or more additional thin films (220-X, 220-Y, 520-Z, 720-R and 720-S).例文帳に追加

非偏光ビームスプリッタは、薄膜のグループ、及び1つ又は複数の付加的な薄膜(220-X、220-Y、520-Z、720-R、720-S)を含む。 - 特許庁

During aging, discharge is made between the X-black belts 15 and the Y-black belts 25, so that protective films on the X-electrodes 10 and the Y-electrodes 20 are not damaged.例文帳に追加

エージング時はX黒帯15とY黒帯25との間で放電させるので、X電極10、Y電極20上の保護膜は損傷を受けない。 - 特許庁

A touch panel 21 comprises a pair of resistance films (X-resistance films and Y-resistance) having resistance values with linear characteristics and arranged to overlap each other with a microspace therebetween.例文帳に追加

タッチパネル21は、線形特性の抵抗値を有する1対の抵抗膜(X抵抗膜、及び、Y抵抗膜)が微少な間隔を介して互いに重なり合うよう構成される。 - 特許庁

例文

The phosphor film 131 emits a hue Y, the phosphor film 135 emits a hue B and the phosphor films 132, 133, 134 emit a mixed hue of the hue Y and the hue B.例文帳に追加

蛍光体膜131は、色相Yを発光し、蛍光体膜135は、色相Bを発光し、蛍光体膜132、133、134は、色相Yと色相Bとの混合色相を発光する。 - 特許庁


例文

The resistance films 20 divided into short strips are connected to Y coordinate detecting circuits A21, B22 and C23 every two sheets.例文帳に追加

短冊状に分割された抵抗膜20は、2枚置きにそれぞれのY座標検知回路A21、B22、C23に接続される。 - 特許庁

An x-ystage 9 is moved to implement the alignment so that the opposing substrate 62 faces the thin films 30 on the pattern substrate 31.例文帳に追加

x−y−θステージ9を移動させて、対向基板62とパターン基板31の薄膜30が対向するように位置合わせする。 - 特許庁

A large number of straight lines 31 oriented in a direction Y orthogonal to a length direction X of a linear conductor pattern 10 are indicated on outer jacket films 11 and 12.例文帳に追加

外皮フィルム11,12に、線状導電パターン10の長さ方向Xに直交する方向Yの多数の直線31を表示する。 - 特許庁

(GeTe)_xSb_2-yIn_yTe_3 is used as the composition of the recording films and ranges of 0.04≤y<2 and 4≤x≤8 are selected as the composition ratios of the recording film.例文帳に追加

記録膜の組成として、(GeTe)_xSb_2−yIn_yTe_3を用い、記録膜の組成比率として、0.04≦y<2、4≦x≦8の範囲を選択する。 - 特許庁

例文

The total of the area (area of Y-Z end face) in respective insulating films 112 within the vibrating part 11 increases, thus reducing the impedance as compared with those of conventional types.例文帳に追加

振動部11内における各絶縁膜112の面積(Y−Z端面の面積)の総和が大きくなり、従来よりもインピーダンスを低減することができる。 - 特許庁

例文

When the compositions of the first and the second metallic films 2a and 2b are defined as TiSi_x and TiSi_y, respectively, TiSi_x and TiSi_y satisfy a relation of x<y.例文帳に追加

第1の金属膜2a、第2の金属膜2bの組成をそれぞれTiSi_x、TiSi_yと表した場合、TiSi_x、TiSi_yがx<yの関係を満たす。 - 特許庁

The Zr precursor is represented by general formula; Zr_x(OR)_yL_z (wherein R is an alkyl group; L is a β-diketonate group; x is 1 or 2; y is 2, 4 or 6; and z is 1 or 2), and is used for depositing thin films of or containing zirconium oxide using an MOCVD technique.例文帳に追加

一般式: Zr_x(OR)_yL_z (式中、Rはアルキル基であり; Lはβ-ジケトネート基であり; x = 1又は2であり; y = 2、4又は6であり; z = 1又は2である。)を有する、MOCVD法を用いて酸化ジルコニウムの薄膜又は酸化ジルコニウムを含む薄膜を堆積させるのに用いるジルコニウム前駆物質。 - 特許庁

Plural cells are set on a pattern base plate, and a thin film bearing member 3 where plural pattern thin films and alignment marks are formed is set on a x-y-0 stage 4 in each cell.例文帳に追加

パターン基板上に複数のセルを設定し、各セル内に複数のパターン薄膜、および位置合わせマークを形成した薄膜担持体3をx−y−θステージ4上にセットする。 - 特許庁

A separation region 30 is provided in a separation region R2 which extends in a Y direction among regions extending in a grating shape to partition off a plurality of lower light-shielding films 501.例文帳に追加

分離領域30は、複数の下側遮光膜501を互いに隔てるように格子状に延びる領域のうちY方向に沿って延びる分離領域R2に設けられている。 - 特許庁

The digitizer is composed of the first resistive film Xt-1 and the second resistive film Xt-2 which are a pair of resistive films to detect X coordinates and the third resistive film Yt-1 and the fourth resistive film Yt-2 which are a pair of resistive films to detect Y coordinates.例文帳に追加

X座標を検出するための一対の抵抗膜である第1抵抗膜Xt−1と第2抵抗膜Xt−2が設けられているとともに、Y座標を検出するための一対の抵抗膜である第3抵抗膜Yt−1と第4抵抗膜Yt−2が設けられている。 - 特許庁

The photocatalytic layer composed mainly of TixOy (x and y are an integer other than 1.) is formed by applying a titanium oxide and titanium at a specified Ti component ratio to the surface of the base and thereby forming their respective thin coating films and thermally treating the thin coating films in a non-oxygen atmosphere of 800-1,200°C.例文帳に追加

基材表面に、所定のTi成分比率でチタン酸化物とチタンとをコーティングして各々の薄膜を形成すると共に800℃〜1200℃の非酸素雰囲気にて加熱処理し、TixOy(x、yは1以外の整数)を主成分とした光触媒層を形成する。 - 特許庁

Since the metal film 22 absorbs an infrared ray during film forming, the substrate body is effectively heated even by a radiation in addition to a thermal conduction by contacting and the AlzGayInzN (x+y+z=1, x, y, z≥0) films 26 to 29 each having excellent crystallinity and flatness can be stably formed.例文帳に追加

成膜過程中、高融点金属膜22は赤外線を吸収するので、接触による熱伝導に加えて、輻射によっても基体本体は有効に加熱され、結晶性および平坦性に優れたAl_xGa_yIn_zN(x+y+z=1,x,y,z≧0)膜26〜29を安定して形成できる。 - 特許庁

Color filters 37R, 37G and 37B of a plurality of layers of mutually different colors which are laminated on one another are formed on the peripheral circuit region Y so as to cover at least a part of a gap S between the light shield films 36a, 36b on the peripheral circuit region Y from a light incident side.例文帳に追加

互いに積層された互いに異なる色の複数層のカラーフィルタ37R,37G,37Bが、周辺回路領域Y上の遮光膜36a,36b間の隙間Sの少なくとも一部を光入射側から覆うように、周辺回路領域Y上に形成される。 - 特許庁

The films 35 and 36 are formed only in the regions X and Y wherein sliding resistance is increased, and thereby an amount of the film to be peeled off before the lap parts 43 and 51 are familiar with the plates 42 and 50 can be restrained.例文帳に追加

被膜35,36は、摺動抵抗が大きくなる領域X,Yのみに形成されているので、ラップ部43,51と鏡板42,50とがなじむまでに剥離される量が少なくて済む。 - 特許庁

This hot air heater comprises a ceramic honeycomb body, electrically conductive coating films X formed on both end faces of the honeycomb body, an electrically conductive coating film Y electrically connected with the electrically conductive coating films X and formed on hole inner faces of the honeycomb body, and an air blower means for blowing the air toward holes of the honeycomb body.例文帳に追加

セラミック製のハニカム体と、 前記ハニカム体の両端面に設けられた導電性塗膜Xと、 前記導電性塗膜Xと電気的に接続されて前記ハニカム体の孔内面に設けられてなる導電性塗膜Yと、 前記ハニカム体の孔に向かって送風する送風手段とを具備する温風装置。 - 特許庁

When two valve units 1 are loaded so as to be adjoined in the arrow head X direction, the flexible films 3 of one valve unit 1 and the films of the other valve unit 1 countering mutually are located so that at least one part of the projection drawing projected in the arrow head Y direction may be lapped.例文帳に追加

2つのバルブユニット1を矢印X方向に隣接するように装着したときに、互いに対向する一方のバルブユニット1の可撓性フィルム3と他方のバルブユニット1の可撓性フィルムは、それらを矢印Y方向に投影したときの投影図の少なくとも一部が重なるように位置する。 - 特許庁

Electrodes 331 to 333 made of metal thin films having grating structures corresponding to wavelength components λ1 to λ3, respectively, are arranged on a Y-shape optical waveguide 31 formed on a PLC 30, and each specified voltage V1 to V3 is applied.例文帳に追加

PLC30に形成したY字状の光導波路31上に波長成分λ_1〜λ_3に対応したグレーティング構造の金属薄膜の電極33_1〜33_3を配置し、それぞれ所定の電圧値V_1〜V_3を印加する。 - 特許庁

The plurality of spacers 20 are arrayed in a Y direction at narrow pitches p1 to prevent a sticking phenomenon between the resistive films and arrayed in an X direction at relatively wide pitches p2 to ensure a predetermined input load.例文帳に追加

複数のスペーサ20は、Y方向には抵抗膜間の貼り付き現象を防止するために狭いピッチp1にて配置され、X方向には所定の入力荷重を得るために比較的広いピッチp2にて配置される。 - 特許庁

At the time, through the crystal defects 8 are recovered at positions where the silicide films are formed, since the acquisition layer formation region Y is masked with the silicon oxide film 10, the crystal defects 8 are not recovered in the region.例文帳に追加

このとき、シリサイド膜が形成された位置において結晶欠陥8が回復するが、捕捉層形成領域Yをシリコン酸化膜10によってマスクしているため、この領域においては結晶欠陥8が回復しない。 - 特許庁

The board coils 6 and 7 are formed using conductor patterns formed on resin films constituting the wiring board 9, and the conductor patterns are each wound around center axes X and Y at angles of equal to or larger than halves of circumferences (≥180°), and less than the circumferences (<360°).例文帳に追加

配線基板9を構成する樹脂フィルムに対して形成される導体パターンを用いて基板コイル6、7を形成し、各導体パターンが、中心軸X、Yの周囲に対して半周以上(180度以上)かつ一周未満(360度未満)の角度巻回された構成となるようにする。 - 特許庁

In this resist coating, an ultrasonic irradiation part 160 immediately after a resist nozzle 154 on the switched-on state is transferred together with the resist nozzle 154 while ultrasonic waves being applied toward the vicinity of a boundary E between band-shaped resist liquid films R(1) and R(2) in the second-time and onward Y-direction scannings.例文帳に追加

このレジスト塗布処理において、2回目以降のY方向走査では、レジストノズル154の直ぐ後で超音波照射部160をオン状態で、つまり両帯状レジスト液膜R(1),R(2)の境界E付近に向けて超音波を放射させながらレジストノズル154と一体に移動させる。 - 特許庁

Capacity elements are constituted of: flexible conducting films 201 to 204; and fixed electrodes E10 to E40 on the substrate 300, and, based on the change of capacitance values of the capacity elements, moments Mx and My about the X-axis and Y-axis, which act on the substrate 100, are detected, based on the change of their capacitance values.例文帳に追加

可撓性導電膜201〜204と、基板300上の固定電極E10〜E40とによって容量素子が構成され、その静電容量値の変化に基づいて、基板100に作用したX軸/Y軸まわりのモーメントMx,Myを検出する。 - 特許庁

Two magnetic impedance elements 10A and 10B are adjacently arranged in the y-axis direction while putting the x-axis between them so that their magnetic field detection directions (longitudinal directions of magnetic detection parts 14a and 14b formed of magnetic thin films) are set in the x-axis directions in the vicinity of the signal line 8.例文帳に追加

2つの磁気インピーダンス素子10A,10Bは、信号線8の近傍で、それぞれの磁界検知方向(磁性薄膜からなる磁気検知部14a,14bの長手方向)がx軸方向になるようにして、x軸を挟んでy軸方向に隣接して配置される。 - 特許庁

The touch panel 10 has: a pair of transparent resistance films 11a, 11b opposite to each other; a pair of electrodes 111a, 112a on both edges in the X direction of the transparent resistance film 11a; and a pair of electrodes 111b, 112b on both edges in the Y direction of the transparent resistance film 11b.例文帳に追加

タッチパネル10は、対向する一対の透明抵抗膜11a、11b、透明抵抗膜11aのX方向両端の一対の電極111a、112a、透明抵抗膜11bのY方向両端の一対の電極111b、112bを有する。 - 特許庁

Lead-out wires 241a and 242a are formed extending in the Y direction on an insulating film 91 and arrayed in an X direction in plane view so that a separation region R1 partitioning off the shield-films may not overlap the separation region R2.例文帳に追加

引き出し配線241a及び242aは、絶縁膜91上においてY方向に沿って延在するように夫々形成されており、且つ互いを隔てる分離領域R1が分離領域R2に重ならないように平面的に見てX方向に沿って配列された配列されている。 - 特許庁

A CoxSiy (x≥y) intermediate reaction layer is formed on a diffusion layer 6 and a gate silicon film 4 in self-aligning way, by intermittently depositing first and second Co films 7a and 7b while the silicon substrate 1 of a MOS transistor 10, in which the diffusion layer 6 constituting a source-drain region and the gate silicon film 6 constituting a gate electrode are formed is heated.例文帳に追加

ソース・ドレイン領域である拡散層6及びゲート電極であるゲートシリコン膜4が形成されたMOSトランジスタ10のシリコン基板1を加熱しながら第1Co膜7a及び第2Co膜7bを間欠的に堆積して、拡散層6及びゲートシリコン膜4上にCo_xSi_y(x≧y)の中間反応層を自己整合的に形成する。 - 特許庁

例文

The IDT electrode is formed by laminated films containing a substrate layer composed of titanium nitride or titanium laminated on the single crystal piezoelectric substrate one by one and an Al layer, and the single crystal piezoelectric substrate is a lithium tantalate substrate with 46° or more rotation Y-X propagation.例文帳に追加

単結晶圧電基板の表面にIDT電極を備えかつ金属バンプを介してベース基板上にFCB実装されたSAW素子を1以上含むSAW装置で、IDT電極は、単結晶圧電基板上に順次積層した窒化チタン又はチタンからなる下地層とAl層とを含む積層膜により形成されかつ、単結晶圧電基板は46°以上の回転Y‐X伝搬タンタル酸リチウム基板である。 - 特許庁




  
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