「acid developer」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The liquid developer is prepared by dispersing toner particles into the insulating liquid and includes a phenol phosphite compound in which a compound having a phenol structure and a phosphorous acid are ester bonded and an unsaturated fatty acid glyeride.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、絶縁性液体中にトナー粒子が分散した液体現像剤であって、フェノール構造を有する化合物と亜リン酸とがエステル結合したフェノールホスファイト系化合物と、不飽和脂肪酸グリセリドとを含んでいることを特徴とする。 - 特許庁

The resist composition for liquid immersion exposure comprises (A) a resin whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid, (B) an acid generator, and (C) a mixed solvent containing an alkylene glycol alkyl ether carboxylate and propylene glycol monomethyl ether.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂 （Ｂ）光酸発生剤 （Ｃ）アルキレングリコールアルキルエーテルカルボキシレートとプロピレングリコールモノメチルエーテルとを含有する混合溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 - 特許庁

Further, the package for the two-component developer includes a lamination structure in which at least two resin layers are laminated, wherein a first resin layer is made of a resin containing at least polyglycolic acid, and a second resin layer is made of a resin containing at least one selected from polylactic acid, polybutylene succinate and copolymerized polyester of 3-hydroxy butyric acid and 3-hydroxy hexanoic acid.例文帳に追加

また、二成分現像剤用包装体は、少なくとも２つの樹脂層が積層されてなる積層構造を有し、第１の樹脂層が少なくもポリグリコール酸を含有する樹脂よりなり、第２の樹脂層が、ポリ乳酸、ポリブチレンサクシネート、および、３−ヒドロキシ酪酸と３−ヒドロキシヘキサン酸とによる共重合ポリエステルから選ばれる少なくとも１種を含有する樹脂よりなる構成とすることができる。 - 特許庁

The positive photoresist composition for exposure to far UV rays contains a compound which produces acid by irradiation of active rays or radiation and a resin which contains an acid-decomposing alicyclic olefin repeating unit having a specific structure, an anhydride repeating unit having a specific structure and an acid-decomposing acrylic repeating unit having a specific structure and which increases the dissolving rate to an alkali developer by the effect of acid.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造の酸分解性脂環オレフィン系繰り返し単位、特定構造の無水物系繰り返し単位、及び特定構造の酸分解性アクリル系繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition includes a base component (A) whose solubility in an alkali developer increases by the action of an acid and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A1) comprising a hydroxystyrene structural unit, a hydroxystyrene structural unit having an acetal or ketal type acid-dissociable group, and a (meth)acrylic ester structural unit.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、ヒドロキシスチレン構成単位と、アセタールまたはケタール型酸解離性基を有するヒドロキシスチレン構成単位と、（メタ）アクリル酸エステル構成単位とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

In this pattern forming method, a resist pattern is formed by generating an acid from a radiation-sensitive acid generation group-containing resin contained as a resin component in a radiation-sensitive resin composition by irradiation with an actinic ray or radiation to increase the solubility of the radiation-sensitive acid generation group-containing resin in a developer.例文帳に追加

本パターン形成方法は、感放射線性樹脂組成物の樹脂成分として含有されている感放射線性酸発生基含有樹脂から、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生させ、該感放射線性酸発生基含有樹脂の現像液に対する溶解性を増大させることにより、レジストパターンを形成する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a resin component (A) of which the solubility in an alkali developer is increased by the action of an acid and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the resin component (A) has a hydroxynaphthalene (meth) acrylate constitutional unit (a0) and the positive resist composition further comprises a crosslinkable polyvinyl ether compound (G).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分（Ａ）はヒドロキシナフタレン（メタ）アクリレート構成単位（ａ０）を有し、さらに架橋性ポリビニルエーテル化合物（Ｇ）を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition for an electron beam, X-rays or EUV (extreme-ultraviolet radiation) comprises (a) a resin which has a structural unit containing an acid-decomposable group of formula (X) and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer and (b) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic radiation.例文帳に追加

（ａ）下記一般式（Ｘ）の酸分解性基を含有する構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（ｂ）活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin component whose solubility for an alkali developer solution increases by an action of an acid and (B) an acid generator component generating an acid by exposure.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、一般式（１）［式（１）中、Ｘは酸の作用により解裂する特定の結合基を表し；Ｙ及びＹ’はそれぞれ独立して炭素原子数１〜１２のアルキレン基を表す。 - 特許庁

The resist composition for negative development comprises (A) a resin which has an acid decomposable repeating unit and increases in polarity under the action of an acid to exhibit decreased solubility in a negative developer, (B) a photoacid generator which generates an acid having a specific structure upon irradiation with actinic rays or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大してネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、特定の構造を有する酸を発生する光酸発生剤と、（Ｃ）溶剤とを含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition for negative development includes (A) a resin which has an acid decomposable repeating unit and exhibits increased polarity and decreased solubility in a negative developer under the action of an acid, (B) a photoacid generator which generates an acid having one or two fluorine atoms upon irradiation with actinic rays or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大してネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、１個または２個のフッ素原子を有する酸を発生する光酸発生剤と、（Ｃ）溶剤とを含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition contains (A) a resin, having at least two kinds of repetition units expressed by general formula (1), and increasing its solubility into an alkali developer by an action of an acid, and (B) a compound generating an acid, by irradiating the compound with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を少なくとも２種有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains (A) a resin which has a repeating unit having a specific group and increases its solubility in an alkaline developer under the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active light or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has specified two kinds of repeating units having alicyclic groups and which increases the dissolving rate with an alkali developer by the effect of an acid and (B) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）脂環基を有する特定の繰り返し単位を２種含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The composition is an active energy ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing (A) a resin the solubility of which with an alkali developer solution is increased by an effect of an acid, (B) a compound generating an acid by irradiation with active rays or radiation, and (C) a resin having an ether bond and a fluorine atom in the main chain.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）主鎖にエーテル結合及びフッ素原子を有する樹脂、を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a specified compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) a resin having a specified repeating unit and solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定の化合物、（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

This positive resist composition contains (A) a resin having at least a repeating unit represented by formula (A1) and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）少なくとも下記一般式（Ａ１）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin containing a repeating unit having an adamantane structure in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖にアダマンタン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The liquid developer contains an insulating liquid and toner particles dispersed in the insulating liquid, characterized in that the insulating liquid contains a fatty acid monoester that is ester of a fatty acid and monohydric alcohol, and that the aniline point of the insulating liquid is 5°C to 80°C.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、絶縁性液体と、絶縁性液体中に分散したトナー粒子とを含み、絶縁性液体は、脂肪酸と１価のアルコールとのエステルである脂肪酸モノエステルを含み、かつ絶縁性液体のアニリン点が５℃〜８０℃であることを特徴とする。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin containing a specified group having -NH- and a fluorine atom and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子及び−ＮＨ−を有する特定の基を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has at least one structural unit of a specified structure and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkali developer, (B) a compound which produces an acid by irradiation of active rays or radiation and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し単位を少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition is disclosed, comprising: (A) a resin containing repeating units of formulae (I), (II) and (III) that when acted on by an acid, becomes soluble in an alkali developer, and (B) a compound that when irradiated with actinic rays or radiation, generates a fluorine-containing acid.例文帳に追加

（Ａ）式（Ｉ）、(II)及び(III)により表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、および（Ｂ）活性光線または放射線の照射によりフッ素を含有する酸を発生する化合物を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has a specific alicyclic hydrocarbon group and in which the dissolution rate to an alkali developer is increased by the action of an acid, and (B) a compound having a specific structure to generate an acid by the irratidation with active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定構造の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which contains a specified repeating unit having hydroxyadamantyl groups and increases the dissolving rate with an alkali developer by the effect of an acid and (B) a compound which produces an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）ヒドロキシアダマンチル基を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a specified resin which has aliphatic cyclic hydrocarbon groups and increases the dissolving rate with respect to an alkali developer by the effect of an acid and (B) a specified compound which produces an acid by irradiation with active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する特定の樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin having a fluorine-containing specified repeating unit and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有する特例の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains a polymer, having at least one kind of repeating unit derived from an acrylic ester derivative or the like and having an acid dissociable group which increases the solubility with respect to alkali developer by the action of an acid, and a crosslinking agent or a crosslinking initiator.例文帳に追加

レジスト組成物は、少なくとも１つのアクリル酸エステル誘導体等に由来する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸解離性基を有する重合体と、架橋剤又は架橋開始剤を含有している。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has a repeating unit having a side chain of a sulfonate structure and which increases the solubility with an alkali developer by the effect of an acid, and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active light rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）スルホネート構造の側鎖をもった特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A positive resist composition contains (A) a resin containing a repeating unit having a specific structure in a side chain and having solubility in an alkaline developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造を側鎖に有する繰り返し単位を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

This positive type resist composition contains (A) resin, whose solubility to an alkaline liquid developer is increased by the action of acid, (B) a compound to which active light rays or radiation is applied to generate acid, and (C) a compound having a functional group which bridges between resins by heating.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）加熱により樹脂間を架橋する官能基を有する化合物、を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a resin (A) which has a norbornen repeating unit having a specific norbornane structure in the side chain and increases the solubility to alkaline developer by the operation of acid and a compound (B) which produces the acid by irradiation of active light rays or radioactive rays.例文帳に追加

（Ａ）側鎖に特定のノルボルナン構造をもったノルボルネン系繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains: (A) a resin which has two kinds of specified repeating units expressed by general formulas (X) and (Y) and of which solubility into an alkali developer is increased by the action of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of an active ray or a radioactive ray.例文帳に追加

（Ａ）一般式（Ｘ）及び一般式（Ｙ）で表される特定の繰り返し単位を２種有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする。 - 特許庁

An actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a compound represented by the following formula (I) which generates an acid upon irradiation of an actinic ray or a radiation and (B) a resin which decomposes by an action of an acid to increase the solubility of the resin in an alkaline developer.例文帳に追加

（Ａ）活性光線または放射線の照射により下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The liquid developer has toner particles consisting mainly of a resin material and an insulating liquid, wherein the toner particles contain a fatty acid monoester and the resin material contained in the toner particles are swollen with the fatty acid monoester.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、主として樹脂材料で構成されたトナー粒子と、絶縁性液体とを有し、前記トナー粒子は、脂肪酸モノエステルを含むものであり、前記トナー粒子中に含まれる前記樹脂材料は、前記脂肪酸モノエステルによって膨潤していることを特徴とする。 - 特許庁

Next a solvent solution of a mixture containing highly unsaturated aliphatic acids or derivatives thereof is made to flow through the silver salt-containing diatomaceous earth in the column and then a developer is made to flow whereby eicosapentaenoic acid and docosahexaenoic acid or esters thereof are selectively separated and purified.例文帳に追加

ついで、高度不飽和脂肪酸またはその誘導体を含む混合物の溶媒溶液をカラム中の銀塩担持珪藻土に流し、次にカラムに展開溶媒を流すことにより、エイコサペンタエン酸およびドコサヘキサエン酸またはそれらのエステルを選択的に分離精製する。 - 特許庁

The liquid developer includes an insulating liquid containing a fatty acid monoester and toner particles composed of a material containing a resin material and an ester-based wax, wherein the ester-based wax included in the toner particles is plasticized by the fatty acid monoester.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、脂肪酸モノエステルを含む絶縁性液体と、樹脂材料とエステル系ワックスとを含む材料で構成されたトナー粒子とを有し、前記トナー粒子中に含まれる前記エステル系ワックスが、前記脂肪酸モノエステルにより可塑化されていることを特徴とする。 - 特許庁

In the liquid developer in which toner particles are dispersed in an insulation liquid, fatty acid monoester and a dispersant are unevenly distributed in the vicinity of the surfaces of the toner particles, and in addition, the insulation liquid includes unsaturated fatty acid triglyceride.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、絶縁性液体中にトナー粒子が分散した液体現像剤であって、トナー粒子の表面付近には脂肪酸モノエステルおよび分散剤が偏在しており、かつ、絶縁性液体が、不飽和脂肪酸トリグリセリドを含むものであることを特徴とする。 - 特許庁

To obtain an acid decomposing compound having a high efficiency in reaction at the time of exposure and stabilized in exposure characteristics with time without deteriorating the latitude of a developer.例文帳に追加

現像液ラチチュードを低下することなく、露光時の反応の効率が高く、露光経時性も安定した酸分解性化合物及びその合成方法並びに画像形成材料を提供する。 - 特許庁

The photosensitive composition contains (A) a resin having a repeating unit of a specific group, whose solubility in an alkaline developer increases by the action of an acid, and the method is disclosed for forming a pattern using the same.例文帳に追加

（Ａ）特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The liquid developer contains toner particles dispersed in an insulating liquid, and contains an unsaturated fatty acid monoester unevenly present near the surfaces of the toner particles.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、絶縁性液体中にトナー粒子が分散した液体現像剤であって、トナー粒子の表面付近には、不飽和脂肪酸モノエステルが偏在していることを特徴とする。 - 特許庁

Otherwise, the method for manufacturing a hologram element comprises exposing and heat treating a heat developable silver salt photographic sensitive material containing a silver salt of a fatty acid, a developer, a silver halide, a binder and a halogen generator.例文帳に追加

または、脂肪酸銀、現像剤、ハロゲン化銀、バインダー及びハロゲン発生剤を含む熱現像銀塩写真感光材料に、露光処理及び熱処理を行うホログラム素子の製造方法とする。 - 特許庁

The positive resist composition includes: a base material component comprising an acid generator which is decomposed upon exposure to increase solubility in an alkali developer; and an alkali-soluble compound.例文帳に追加

露光によって分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が向上する酸発生剤からなる基材成分と、アルカリ可溶性化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin which has a repeating unit represented by general formulas (I) and (II), and which has a property of being insoluble or hardly soluble in an alkali developer and getting soluble in an alkali developer by the action of an acid, and a nonionic nitrogen-containing base compound with a specified structure.例文帳に追加

下記の一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含有する、アルカリ現像液には不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂、及び特定構造の非イオン性含窒素塩基性化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A liquid developer for an adhesive transfer process contains toner particles dispersed in a liquid carrier; and the developer contains, as a toner resin component constituting the toner, a moiety derived from an acrylic ester, a moiety derived from a methacrylic ester, a moiety derived from an acryloylmorpholine, a moiety derived from a glycidyl acrylate, and a moiety derived from an acrylic acid.例文帳に追加

液状担体中に分散したトナー粒子を含む粘着転写用液体現像剤において、上記トナーを構成するトナー樹脂成分としてアクリル酸エステル由来の部位、メタクリル酸エステル由来の部位、アクリロイルモルホリン由来の部位、グリシジルアクリレート由来の部位、アクリル酸由来の部位を含有する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin having at least one repeating unit having a group -SO_2-O-, further having at least one repeating unit having a fluorine atom and an acid-decomposable group, and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）−ＳＯ_2−Ｏ−基を有する繰り返し単位を少なくとも１種有し、更にフッ素原子と酸分解性基とを有する繰り返し単位を少なくとも１種有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁