「acid developer」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

In the heat-sensitive paper formed by laminating, on a base material, a heat-sensitive coloring layer and a heat resistance protective layer in the order, the heat-sensitive coloring layer contains a leuco dye, a developer, and a binder, and the binder is acid-treated gelatin.例文帳に追加

基材上に、感熱発色層と、耐熱保護層とがこの順で積層されてなる感熱紙において、感熱発色層は、ロイコ染料と、顕色剤と、バインダーを含み、このバインダーが、酸処理ゼラチンである。 - 特許庁

The liquid developer contains toner particles dispersed in an insulating liquid, wherein the insulating liquid contains a conjugate unsaturated fatty acid component having a conjugate unsaturated bond.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、絶縁性液体中にトナー粒子が分散した液体現像剤であって、絶縁性液体が、共役不飽和結合を有する共役不飽和脂肪酸成分を含むものであることを特徴とする。 - 特許庁

BROENSTED ACID COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING CONDENSED COMPOUND, CONDENSED COMPOUND PARTICLE DISPERSION, METHOD FOR PRODUCING BINDING RESIN, RESIN PARTICLE DISPERSION, ELECTROSTATICALLY CHARGED IMAGE DEVELOPING TONER, ELECTROSTATICALLY CHARGED IMAGE DEVELOPER AND METHOD FOR FORMING IMAGE例文帳に追加

ブレンステッド酸化合物、縮合化合物の製造方法、縮合化合物粒子分散液、結着樹脂の製造方法、樹脂粒子分散液、静電荷像現像トナー、静電荷像現像剤、及び、画像形成方法 - 特許庁

In the liquid developer having toner particles dispersed in insulating liquid, the insulating liquid is made principally of glyceride of unsaturated fatty acid and contains an anti-oxidant.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、絶縁性液体中にトナー粒子が分散した液体現像剤であって、前記絶縁性液体は、主として不飽和脂肪酸のグリセリドで構成され、かつ、酸化防止剤を含むことを特徴とする。 - 特許庁

When the amine value of the rosin resin having the amine value is A_1 [mgKOH/g] and an acid value of the rosin resin having the amine value is A_2 [mgKOH/g], the liquid developer preferably satisfies the relation: 0.1≤A_2/A_1≤40.例文帳に追加

アミン価を有するロジン系樹脂のアミン価をＡ_１［ｍｇＫＯＨ／ｇ］、前記アミン価を有するロジン系樹脂の酸価をＡ_２［ｍｇＫＯＨ／ｇ］としたとき、０．１≦Ａ_２／Ａ_１≦４０の関係を満足するのが好ましい。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin including a cyclic sulfonamide partial structure represented by formula (S1), and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）一般式（Ｓ１）で表される環状スルホンアミド部分構造を含む、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物、及び、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) an organic fluoropolymer which has at least one structure selected from formulae (I)-(III) and whose solubility in an alkali developer is increased by the action of an acid and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｂ）下記の一般式（Ｉ）及び（ＩＩ），（ＩＩＩ）から選ばれた少くとも１種の構造を有する酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する有機フッ素ポリマー及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: a resin which has an aliphatic cyclic hydrocarbon group in the side chain and specified two repeating units and which increases the solubility rate with an alkali developer solution by the effect of an acid; and a specified trialkylsulfonium compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、特定の２つの繰り返し単位をもつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定のトリアルキルスルホニウム化合物とを含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition for the method for forming a thermal flow pattern contains (a) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or radiation and (b) resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which decomposes by the effect of an acid to increase the solubility in an alkali developer.例文帳に追加

（ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするサーマルフローパターン形成方式用ポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin that is decomposed by an action of an acid to thereby increase its solubility in an alkali developer, a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation, and any of basic compounds represented by general formula (1).例文帳に追加

本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂と、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物と、下記一般式（１）により表される塩基性化合物とを含んでいる。 - 特許庁

The chemically amplified negative resist material comprises at least a crosslinking agent represented by formula (1), a photoacid generator which generates an acid upon irradiation with a high energy beam and an alkali-soluble resin which takes part in a crosslinking reaction with the acid generated by the photoacid generator to lower solubility in an alkali developer.例文帳に追加

少なくとも、下記一般式（１）で示される架橋剤、高エネルギー線照射により酸を発生する光酸発生剤、光酸発生剤より発生する酸によって架橋反応し、アルカリ現像液に対する溶解性が減少するアルカリ可溶性樹脂を含むことを特徴とする化学増幅型ネガ型レジスト材料。 - 特許庁

In the resist composition containing (A) a compound generating an acid due to irradiation with an active light or radiation, and (B) a resin increasing solubility to an alkali developer due to action of the acid, the resin of (B) components has a repeating unit due to a monomer of a specific structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するレジスト組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、特定構造のモノマーによる繰り返し単位を有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains: (A) a resin containing repeating units expressed by formulae (I), (II) and (III) and changing into soluble with an alkali developer by an action of an acid; and (B) two or more kinds of compounds generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）式（Ｉ）、(II)及び(III)により表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、及び（Ｂ）２種類以上の、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

In the double-sided thermal recording body having a thermal recording layer comprising a colorless or light-colored electron-donating leuco dye, an electron-accepting developer, and a sensitizer at each of both faces of a substrate, the double-sided thermal recording body is characterized in that the sensitizer is an aliphatic acid amide or an aliphatic acid amide mixture.例文帳に追加

支持体の両面に、無色または淡色の電子供与性ロイコ染料、電子受容性顕色剤及び増感剤を含有する感熱記録層を有した両面感熱記録体において、該増感剤が脂肪酸アマイドあるいは脂肪酸アマイド混合物であることを特徴とする両面感熱記録体。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin containing a repeating unit having a fluorine atom in the principal chain and a group having -NH- in a side chain and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）主鎖にフッ素原子、側鎖に−ＮＨ−を有する基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin that, when acted on by an acid, exhibits an increased solubility in an alkali developer, (B) a compound that, when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, (C) a resin containing two or more resins (c) each having at least either a fluorine atom or a silicon atom, and (D) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂（ｃ）を２以上含有する樹脂、及び（Ｄ）溶剤、を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin having a specified repeating unit having a ring hydrocarbon structure and a fluorine atom in a side chain and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖に環状炭化水素構造とフッ素原子とを有する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The photoresist composition contains a resin (A) which contains a repeating unit having a specific partial structural and a repeating unit expressed by a specific structure and the solubility of which in an alkali developer increases by the action of an acid and a compound (B) generating the acid by active ray or radioactive ray irradiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の部分構造を有する繰り返し単位と、特定の構造で表される繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin having a specified repeating unit derived from a vinyl ether having a fluorine atom or a fluoroalkyl group in the α-position and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）α位にフッ素原子又はフルオロアルキル基を有するビニルエーテルに由来する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

In the process cartridge in which contact-charging devices for subjecting surfaces of electrostatic latent image carriers to contact charging are arranged, toner of developer contains at least a binder resin and colorants and the binder resin contains a polyester resin made by polycondensating an alcohol component and a carboxylic acid component containing (meth)acrylic acid modified rosin.例文帳に追加

静電潜像担持体表面を接触帯電する帯電装置を配設するプロセスカートリッジに於いて、現像剤のトナーは少なくとも結着樹脂及び着色剤を含有し、かつ前記結着樹脂がアルコール成分と、（メタ）アクリル酸変性ロジンを含有するカルボン酸成分とを縮重合させてなるポリエステル樹脂を含有する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (a) a resin which contains a repeating unit having a phenyl group or a cyclohexyl group in the side chain and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkali developer solution; (b) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; and (c) a solvent.例文帳に追加

（ａ）側鎖にフェニル基又はシクロヘキシル基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、（ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び（ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin of which the solubility in an alkali developer increases under the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (C) a resin having a specific structure and (D) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定構造を有する樹脂および（Ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation and (B) a crosslinked resin having a specified crosslinked repeating unit as at least one of repeating units and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）繰り返し単位の少なくとも１種として、特定の架橋繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する架橋樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

This temperature sensitive color phase reversible composition comprises a coloring agent containing a reversible dyestuff colored by an acid, a color developer containing a Lewis acid having a melting point at the temperature range of objective color phase change and a sensitizer and colors on rising temperature and discolors on decreasing temperature and shows reversible color changes.例文帳に追加

酸で顕色化する可逆性色素からなる発色剤、所望する色相変化の温度域に融点を有するルイス酸からなる顕色剤、及び増感剤の三成分を含有してなり、昇温すると発色し、降温すると消色して、可逆的な色相変化を示す感温性色相可逆組成物が提供される。 - 特許庁

In the liquid developer having toner particles dispersed in insulating liquid, the insulating liquid is made principally of glyceride of unsaturated fatty acid and contains an oxidation polymerization accelerator accelerating oxidation polymerization reaction of glyceride of unsaturated fatty acid during fixation.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、絶縁性液体中にトナー粒子が分散した液体現像剤であって、前記絶縁性液体は、主として不飽和脂肪酸のグリセリドで構成され、かつ、定着時における前記不飽和脂肪酸のグリセリドの酸化重合反応を促進する酸化重合促進剤を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin having an organic group of a specified structure and having the solubility to an alkali developer solution increased by the effect of an acid; (B) a compound generating a fluorine-substituted alkane sulfonic acid having 2 or 3 carbon atoms upon irradiation with active rays or radiation; and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の有機基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射によりフッ素置換された炭素数２または３のアルカンスルホン酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which contains a repeating unit having a -SO_2- structure in the side chain and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkali developer, and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖に−ＳＯ_２−構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

In a thermal recording material with a thermal recording layer composed mainly of a leuco dye, a developer and a binding agent, formed on a support, a very high performance to meet the requirement levels of especially the transparent medical treatment media can be obtained by adding a salicylic acid compound of a special structure or its zinc salt as the developer.例文帳に追加

支持体上にロイコ染料と、顕色剤及び結着剤を主成分とする感熱記録層を設けてなる感熱記録材料において、該顕色剤として特定構造のサリチル酸化合物又はその亜鉛塩を含有させる事により、特に透明タイプの医療用メディアの要求水準を満たす非常に優れた性能が得られることを見い出した。 - 特許庁

The pattern forming method includes (1) applying a resist composition for negative development comprising a resin of which the polarity increases by the action of an acid to thereby reduce its solubility in a negative developer, (2) exposing the composition, and (3) performing development with a negative developer comprising an organic solvent having a metal impurity content of ≤100 ppb.例文帳に追加

（ア）酸の作用により極性が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有するネガ型現像用レジスト組成物を塗布する工程、（イ）露光工程及び（ウ）金属不純物の含有量が、１００ｐｐｂ以下の有機溶剤を含有するネガ型現像液を用いて現像を行う工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

In the decolorizable image forming material containing a color developing compound, a developer, a matrix material and a decoloring agent having an electron donative group capable of physically or chemically absorbing the developer, the decoloring agent is a compound containing both a saccharine skeleton and a steroid skeleton and having an acid dissociation constant of <10-15.5.例文帳に追加

呈色性化合物と、顕色剤と、マトリックス材料と、顕色剤を物理的または化学的に吸着することが可能な電子供与性基を有する消色剤とを含有する消去可能な画像形成材料において、消去剤が糖骨格およびステロイド骨格の両方を含む化合物であり、その酸解離定数が１０^-15.5より小さい。 - 特許庁

The method for manufacturing a hologram element includes exposing and heat treating a heat developable silver salt photographic sensitive material containing a silver salt of a fatty acid, a developer, a silver halide, a binder and a base, and then bringing the material into contact with a halogen.例文帳に追加

脂肪酸銀、現像剤、ハロゲン化銀、バインダー、及びベースを含む熱現像銀塩写真感光材料に露光処理及び熱処理を行った後、ハロゲンに接触させる処理を行うホログラム素子の製造方法とする。 - 特許庁

The erasable ink contains a leuco dye, a water-insoluble developer, ≤50 wt.% of an alcohol, ≥1 wt.% and ≤10 wt.% of an organic acid and ≥40 wt.% of water.例文帳に追加

ロイコ色素と、非水溶性顕色剤と、５０重量％以下のアルコールと、１重量％以上、１０重量％以下の有機酸と、４０重量％以上の水と、を含有することを特徴とする消色可能なインク。 - 特許庁

The liquid developer includes: an insulating liquid; toner particles constituted by a material containing a polyester resin; and an alkyl diamine and an amide compound having a hydroxy fatty acid skeleton as dispersants.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、絶縁性液体と、ポリエステル樹脂を含む材料で構成されたトナー粒子とを有し、分散剤として、アルキルジアミンとヒドロキシ脂肪酸骨格を有するアミド化合物とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The wall of the microcapsule containing a color forming agent changing from a colorless state to a colored state in the presence of an acid developer is formed of the polyurea obtained by a reaction of a polyisocyanate, a guanidine compound and an amine.例文帳に追加

酸性現像剤の存在下で無色から着色状態へ変化する色形成剤を内部に含有するミクロカプセルの壁をポリイソシアネートとグアニジン化合物およびアミンとの反応によって得られるポリ尿素で形成させる。 - 特許庁

In the liquid developer in which toner particles are dispersed in an insulating liquid, the insulating liquid consists mainly of an ester of an 8-10C medium chain fatty acid.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、絶縁性液体中にトナー粒子が分散した液体現像剤であって、絶縁性液体は、主として、炭素数が８〜１０の中鎖脂肪酸のエステルで構成されたものであることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a toner for electrostatic charge image development having improved lightfastness of a colorant compared to when metatitanic acid is used alone, and to provide an electrostatic charge image developer, a toner cartridge, a process cartridge and an image forming apparatus using the toner.例文帳に追加

メタチタン酸を単独で用いる場合に比べ、着色剤の耐光性が向上した静電荷像現像用トナー並びにそれを用いた静電荷像現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The laminated structure film on the first Mo, MoOx, and second Mo films 10, 10A, and 11 is formed on the Al film 9, thus preventing corrosion, due to buffered fluoric acid solution and alkaline- based developer in the gate electrode.例文帳に追加

第１Ｍｏ膜１０／ＭｏＯ_ｘ膜１０Ａ／第２Ｍｏ膜１１の積層構造膜を、Ａｌ膜９上に形成することにより、ゲート電極の緩衝フッ酸溶液及びアルカリ系現像液による腐食を防止出来る。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises a resin which contains a first repeating unit having a group that is decomposed by the action of an acid to thereby generate an alcoholic hydroxyl group, and which exhibits decreased solubility in a developer containing an organic solvent under the action of an acid, a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation, and a hydrophobic resin.例文帳に追加

本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸の作用により分解してアルコール性ヒドロキシ基を生じる基を備えた第１繰り返し単位を含み且つ酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、疎水性樹脂とを含有している。 - 特許庁

The positive resist composition contains a base component which exhibits increased solubility in an alkali developer under the action of an acid and generates an acid upon exposure, wherein the base component contains a polymeric compound having a hydroxystyrene unit, a hydroxystyrene unit having an acetal bond in a side chain, and a hydroxystyrene unit to which a structural unit which generates an acid upon exposure bonds through an acetal bond.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ露光により酸を発生する基材成分を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分が、ヒドロキシスチレン単位と、側鎖にアセタール結合を有するヒドロキシスチレン単位と、露光により酸を発生する構成単位がアセタール結合を介して結合しているヒドロキシスチレン単位とを有する高分子化合物を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a fluororesin which has a specified repeating unit and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer, (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (C) a solvent and (D) a compound having at least one carboxyl group.例文帳に追加

（Ａ）特定の繰り返し単位を有する、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増大するフッ素含有樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）溶剤、及び（Ｄ）少なくともひとつのカルボキシル基を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a compound (A) generating an acid by the irradiation with an active ray or radiation, a resin (B) having a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure in the main chain or the side chain and increasing the solubility in an alkali developer by the decomposition with the action of the acid and a compound (C) expressed by a specific structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を、主鎖または側鎖に有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｃ）特定の構造で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has a structure of a polymer skeleton with fluorine atoms substituted in the main chain and/or side chains and contains a repeating unit having a silicon group and which decomposes by the effect of acid to increase the solubility with an alkali developer, and (B) a compound which produces acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）ポリマー骨格の主鎖及び／又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つシリコン基を有する繰り返し構造単位を含む、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition is characterized in containing (A) a compound which generates an acid by irradiation with active rays or a radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which decomposes by the effect of an acid to increase the solubility in an alkali developer liquid, and (C) a compound having a nitrogen-containing basic group and an acidic group in the molecule.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）分子内に含窒素塩基性基及び酸性基を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has at least each one kind of a repeating unit of a specified structure and a repeating unit having a specified partial structure and the solubility of which increases with an alkali developer by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の繰り返し単位と、特定の部分構造を有する繰り返し単位とをそれぞれ少なくとも１種ずつ有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photosensitive resin composition is characterized by containing (A) a compound generating acid by irradiation of an active light ray or a radial ray, (B) a resin increasing its rate of solution for an alikali developer by the action of an acid having specified cycle units, and (C) a nitrogenous compound having a specific partial molecular structure.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）特定の繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｃ）特定の部分構造を分子内に有する含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁