「acid developer」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive resist composition contains: a polymeric compound (A1) having a structural unit represented by general formula (a0-1) as a base component (A) whose solubility in an alkali developer increases by the action of an acid; and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）として、一般式（ａ０−１）で表される構成単位を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains (A) a specific acid generating agent generating an acid by the irradiation with active ray or radiation and (B) a resin having a single cyclic or polycyclic aliycyclic hydrocarbon structure, decomposed by the action of the acid and having solubility increased in an alkali developer.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The resist composition contains a polymer having at least one kind of repeating unit derived from an acrylic ester derivative or the like and having an acid dissociable group which increases the solubility with respect to alkali developer, and an acid generator capable of generating an acid upon irradiation with light or radiation.例文帳に追加

レジスト組成物は、アクリル酸エステル誘導体等に由来する繰り返し単位を少なくとも１種類有し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸解離性基を有する重合体と、光又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤を含有している。 - 特許庁

Resin layers containing as a binder a resin comprising a polyhydroxyalkanolate containing one or more hydroxyalkanoic acid units containing a sulfonic acid or its derivative or a carboxylic acid or its derivative in the molecule are formed on the substrate of a developer carrier or on the surface of the substrate.例文帳に追加

スルホン酸あるいはその誘導体、あるいは、カルボン酸あるいはその誘導体を含むヒドロキシアルカン酸ユニットを分子中に１ユニット以上含むポリヒドロキシアルカノエートが含有されている樹脂を結着剤として含む樹脂層を現像剤担持体の基体及び基体表面に形成する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises a resin component (A) which comprises a fluorine-containing high molecular compound (A0) having a constitutional unit represented by general formula (a0-1), and of which the solubility in an alkali developer increases by the action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure.例文帳に追加

一般式（ａ０−１）で表される構成単位を有する含フッ素高分子化合物（Ａ０）を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The package for the two-component developer is made by packaging a negatively charging two-component developer comprising toner and carrier, and is formed of a resin containing at least polyglycolic acid.例文帳に追加

二成分現像剤用包装体は、トナーとキャリアとからなる負帯電性二成分現像剤が包装されたものであって、当該二成分現像剤用包装体が、少なくともポリグリコール酸を含有する樹脂によって形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains: (A) resin which has a specified repeating unit containing a fluorine atom and a specified (meth-)acrylic acid ester recurring unit with a group decomposable with an acid and of which solubility into an alkali developer is increased by the action of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of an active ray or a radioactive ray.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を含有する特定の繰り返し単位及び酸分解性基を有する特定の（メタ）アクリル酸エステル繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The composition contains a resin which has a group of a specified structure, which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkali developer solution, and a compound which generates a carboxylic acid by irradiation with radiation.例文帳に追加

特定の構造の基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び放射線の照射によりカルボン酸を発生する化合物を含有することを特徴とする。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains an acid- decomposable polymer which contains a silicon-containing recurring unit expressed by formula (I) and a recurring unit of a specified structure expressed by formula (II) and which increases the solubility with an alkali developer by the effect of an acid.例文帳に追加

式（Ｉ）のシリコン含有繰り返し単位と式（II）の特定の構造の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性ポリマーを含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains (A) a resin increasing a dissolution speed to an alkali developer due to the action of an acid having a specific repeating unit, and (B) a compound generating the acid due to irradiation with an active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

The liquid developer comprises: an insulating liquid including aliphatic monoester; and toner particles mainly composed of a styrene-acrylic acid ester copolymer.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、脂肪酸モノエステルを含む絶縁性液体と、主としてスチレン−アクリル酸エステル共重合体で構成されたトナー粒子とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

There are disclosed a resin containing a specific group and a resin having a repeating unit of a specific group, whose solubility in an alkaline developer increases by the action of an acid.例文帳に追加

特定の基を有する樹脂、及び、特定の基を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂。 - 特許庁

The resist polymer is adapted to chemically react with the additive in the presence of the acid to generate a non-crosslinking reaction product that is insoluble in an aqueous alkaline developer solution.例文帳に追加

レジストポリマーは、酸の存在下に添加剤と化学的に反応して、水性アルカリ性現像液に不溶性である非架橋性生成物を発生するように適合される。 - 特許庁

In the thermal recording material utilizing the coloring reaction of an electron donating leuco dye with an acid developer developing the dye, the main constituent of the acid developer is a phenolic compound containing a sulfonyl group in a molecule, and a sensitizer contains an N-(4-tolyl)-amide phenylacetate being an amide compound.例文帳に追加

電子供与性のロイコ染料とこれを発色させる酸性の顕色剤との発色反応を利用した感熱記録材料において、酸性の顕色剤の主成分が分子中にスルホニル基を含有するフェノール性化合物であり、増感剤がアミド化合物であるＮ−（４−トリル）−フェニル酢酸アミドを含有することを特徴とする感熱記録材料。 - 特許庁

The positive resist composition is characterized in containing a resin which has a specified aliphatic cyclic hydrocarbon group and which increases the solubility rate with an alkali developer liquid by the effect of an acid, a compound which generates an acid by radiation of active rays or radiation, and a compound which accelerates the solubility rate of the film with an alkali developer liquid.例文帳に追加

特定の脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、膜のアルカリ現像液に対する溶解速度を促進させる化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which is insoluble or hardly soluble in an alkali developer solution and becomes soluble in an alkali developer solution by the action of an acid; and (C) a basic compound having at least one cyclic ether group.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び（Ｃ）少なくとも１つの環状エーテル基を有する塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a toner that uses a binder resin having polyhydroxy carboxylic acid skeleton, and provides an image with good cold temperature fixability and superior environmental stability, and also to provide a developer employing the toner, an image forming method employing the developer, an image forming apparatus, and a process cartridge.例文帳に追加

ポリヒドロキシカルボン酸骨格を有する結着樹脂を用いた、低温定着性が良好で環境安定性に優れた画像が得られるトナー、該トナーを用いた現像剤、並びに該現像剤を用いた画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a resin which has a repeating unit represented by formula (I) and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkaline developer and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation, (B) an organic fluoropolymer whose solubility in an alkali developer is increased by the action of an acid having a specified structure and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｂ）特定の構造を有する酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する有機フッ素ポリマー及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: a resin which comprises a combination of specified repeating units and increases the solubility with an alkali developer solution by the effect of an acid; and a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し単位を組み合わせた、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂と、活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has three kinds of specified repeating units and which increases the dissolution rate with an alkali developer solution by the effect of an acid and (B) a compound which produces an acid by applying active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）３種の特定の繰り返し単位を含有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which contains three kinds of specified repeating units and which increases the dissolution rate with an alkali developer solution by the effect of an acid and (B) a compound which produces an acid by applying active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）３種の特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin containing a specified (meth)acrylic ester repeating unit and having velocity of dissolution in an alkaline developer increased by the action of an acid, and a compound which generates an acid upon irradiation with active light or radiation.例文帳に追加

特定の（メタ）アクリル酸エステル繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The liquid developer contains: an insulating liquid containing a fatty acid monoester, an aliphatic hydrocarbon and/or silicone oil; toner particles dispersed in the insulating liquid; and a polyamine fatty acid condensation polymer as a dispersant.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、脂肪酸モノエステルと、脂肪族炭化水素および／またはシリコーンオイルとを含む絶縁性液体と、絶縁性液体中に分散したトナー粒子と、分散剤としてのポリアミン脂肪酸縮重合体とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

This liquid developer has toner particles and insulating liquid containing fatty acid monoester, and the toner particle contains a resin material and hydrolysis restrainer having a function for restraining hydrolysis of fatty acid monoester.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、トナー粒子と、脂肪酸モノエステルを含む絶縁性液体とを有し、トナー粒子が、樹脂材料と、前記脂肪酸モノエステルの加水分解を抑制する機能を有する加水分解抑制剤とを含むものであることを特徴とする。 - 特許庁

The liquid developer consists of toner particles and an insulating liquid containing a fatty acid triglyceride and a fatty acid monoester, wherein a phenolic radical capturing agent having a function to capture radicals is contained in the toner particles.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、トナー粒子と、脂肪酸トリグリセリドおよび脂肪酸モノエステルを含む絶縁性液体とで構成され、トナー粒子中に、ラジカルを捕捉する機能を有するフェノール系ラジカル捕捉剤とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The negative resist composition includes a base material component (A) consisting of a polynuclear phenol compound having a functional group which is chemically converted by the action of an acid to reduce solubility in an alkali developer and a triphenylmethane compound, and an acid generator component (B) which generates an acid upon irradiation with radiation.例文帳に追加

酸の作用によって化学変換されアルカリ現像液に対する溶解性が減少する官能基を有する多核フェノール化合物および、トリフェニルメタン化合物から構成される、基材成分（Ａ）と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含むことを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition for liquid immersion lithography includes a base component (A) of which the solubility in an alkali developer changes by the action of an acid, an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure to light, and the fluorine-containing copolymer (C) having a constitutional unit represented by general formula (c1-1).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、下記一般式（ｃ１−１）で表される構成単位を有する含フッ素共重合体（Ｃ）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 - 特許庁

The toner for electrostatic image developer uses a polyester resin having an acid value of 3 to 25 mg KOH/g as binder, wherein a terminal of a part or all parts of molecules of the polyester resin is (A) an aliphatic polycarboxylic acid of two to four valences and/or (B) an alicyclic polycarboxylic acid of two to four valences.例文帳に追加

酸価が３〜２５ｍｇＫＯＨ／ｇのポリエステル樹脂をバインダーとして用いた静電荷像現像剤用トナーであって、該ポリエステル樹脂の分子の一部または全部の末端が（Ａ）２〜４価の脂肪族ポリカルボン酸および／または（Ｂ）２〜４価の脂環族のポリカルボン酸であることを特徴とする静電荷像現像剤用トナーに関する。 - 特許庁

The liquid developer comprises toner particles and an insulating liquid containing a fatty acid triglyceride and a fatty acid monoester, and contains a phenol phosphite compound prepared by ester linkage of a compound having a phenol structure and phosphorous acid, and a phenolic radical capture agent having a function of capturing radicals.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、トナー粒子と、脂肪酸トリグリセリドおよび脂肪酸モノエステルを含む絶縁性液体とで構成され、フェノール構造を有する化合物と亜リン酸とがエステル結合したフェノールホスファイト系化合物と、ラジカルを捕捉する機能を有するフェノール系ラジカル捕捉剤とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The photosensitive composition comprise (A) a resin whose solubility in an alkali developer is increased by the action of an acid, and (B) a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation, wherein the resin (A) contains two or more repeating units respectively having acid-decomposable groups that are different from each other in the acid decomposition ratio at an image formation sensitivity.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性組成物であって、樹脂（Ａ）が、画像形成感度における酸分解率が互いに異なる酸分解基を有する２種以上の繰り返し単位を含むことを特徴とする感光性組成物。 - 特許庁

The resist composition comprises a base material component (A) of which the solubility in an alkali developer changes by the action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the acid generator component (B) is a polymer using an α-(un)substituted acrylic ester having a specific sulfonyl oxime in a side chain as a constitutional unit.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、特定のスルホニルオキシムを側鎖に有するα−（未）置換アクリル酸エステルを構成単位としてなる重合体であることを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has fluorine atoms and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkaline developer and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation, wherein the compound (B) has a group which is decomposed by the action of an acid (acid decomposable group).例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有する組成物であって、上記化合物（Ｂ）が酸の作用により分解する基（酸分解性基）を有していることを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

For example, a suitable example of the coloring agent is a lewco dye, that of the color developer is a long chain fatty acid, and that of the sensitizer is an acidamide.例文帳に追加

適当な発色剤の例としてはロイコ色素が、適当な顕色剤の例としては長鎖カルボン酸が、また適当な増感剤の例としては酸アミド類が、それぞれ挙げられる。 - 特許庁

Liquid developer includes: toner particles containing a polyester resin; a fatty acid polyester amine polymer; an amine-modified compound of an olefin hydrocarbon-maleic anhydride copolymer; and non-aqueous solvent.例文帳に追加

ポリエステル樹脂を含むトナー粒子と、脂肪酸ポリエステルアミン重合体と、オレフィン炭化水素−無水マレイン酸共重合体のアミン変性化合物と、非水溶媒と、を含む液体現像剤である。 - 特許庁

Thus, the unevenness of the processing is prevented even in the development processing by the developer for which isoascorbic acid is used as the developing agent of which the unevenness of the processing remarkably appears due to the automatic developing machine.例文帳に追加

このため、自動現像機起因の処理むらが顕著に現れる前記イソアスコルビン酸を現像主薬とする現像液での現像処理においても、処理むらを防止することができる。 - 特許庁

The negative resist composition comprises a resin component soluble in an alkali developer, an acid generator component and a cross-linker component, wherein the resin component has a constitutional unit represented by general formula (I) and a constitutional unit represented by general formula (II).例文帳に追加

アルカリ現像液に可溶な樹脂成分、酸発生剤成分、架橋剤成分を含むネガ型レジスト組成物で、樹脂成分は下式構成単位を有するネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The liquid developer preferably contains an oxidation polymerization accelerator which accelerates oxidation polymerization reaction of unsaturated fatty acid components contained in the sesame oil in fixing.例文帳に追加

液体現像剤は、定着時における、前記ごま油に含まれる不飽和脂肪酸成分の酸化重合反応を促進する酸化重合促進剤を含むものであるのが好ましい。 - 特許庁

The liquid developer has an insulating liquid containing fatty acid monoester, and toner particles mainly composed of a resin material.例文帳に追加

本発明の液体現像剤は、脂肪酸モノエステルを含む絶縁性液体と、主として樹脂材料で構成されたトナー粒子とを有し、トナー粒子が、円盤形状をなしていることを特徴とする。 - 特許庁

The positive resist composition contains: a resin which has a repeating unit derived from isosorbide (meth)acrylate and which increases the solubility rate in an alkali developer solution by the effect of an acid; and a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition contains a resin which has a group in specified structure, is dissolved through the operation of acid, and increases in solubility to an alkali liquid developer and a specific compound which produces acid by irradiation with an active light beam or radiation.例文帳に追加

特定の構造の基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物、を含有する感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The resist composition contains (A) a resin increasing a dissolution speed to an alkali developer due to the action of an acid having a repeating unit expressed by a general formula (I), and (B) a compound generating the acid due to irradiation with an active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition is decomposed by (A) the action of an acid having a specific structure expressed in general formula (A), and contains a compound generating the acid by a resin increasing solubility to an alkali developer and by (B) irradiation of an active light beam or radiation.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（Ａ）で表される特定構造の、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及びを含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin having a repeating unit of a specified structure and increasing the solubility with an alkali developer solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The developer carrying member comprises at least a substrate and a resin layer formed on a substrate surface, wherein the resin layer contains a resin, as a binder, containing a polyhydroxyalkanoate in which one or more 3-hydroxyalkanoic acid units containing a sulfonic acid or a derivative thereof are contained within a molecule.例文帳に追加

スルホン酸あるいはその誘導体を含む３−ヒドロキシアルカン酸ユニットを分子中に１ユニット以上含むポリヒドロキシアルカノエートが含有されている樹脂を結着剤として含む樹脂層を現像剤担持体の基体及び基体表面に形成する。 - 特許庁