「basic nitrogen compound」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The low-smoke emission resin composition is prepared by compounding 100 pts.wt. resin composition comprising a polyamide resin (A) and a rubber-reinforced styrene resin (B) with 5-100 pts.wt. salt (C) (except ammonium polyphosphate) formed from a polyphosphoric acid and a nitrogen-containing basic compound.例文帳に追加

ポリアミド樹脂（Ａ）とゴム強化スチレン系樹脂（Ｂ）からなる樹脂組成物１００重量部に対してポリ燐酸と含窒素塩基性化合物から構成される塩（但し、ポリ燐酸アンモニウム塩を除く）（Ｃ）５〜１００重量部を配合してなる低発煙性樹脂組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive resist composition contains (A) a resin containing Si atoms and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a photo-acid generating agent, (C) a solvent and (D) a compound having a nitrogen-containing basic group and an acidic group in one molecule.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する、シリコン原子を含有する樹脂、(Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）溶剤、及び（Ｄ）分子内に含窒素塩基性基及び酸性基を有する化合物を含有することを特徴とする感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁

The filler-added halobutyl elastomer composition contains at least one halobutyl elastomer and inorganic filler particles and does not contain a metallic halide, wherein the surface of the inorganic filler is modified with an organic compound containing at least one basic nitrogen-containing group and at least one hydroxyl group.例文帳に追加

少なくとも一つのハロブチルエラストマーおよび無機フィラー粒子を含有し、該無機フィラーの表面が少なくとも一つの塩基性窒素含有基および少なくとも一つのヒドロキシル基を含む有機化合物で変性されている、金属ハロゲン化物を含まない、フィラー添加ハロブチルエラストマー組成物。 - 特許庁

The oxygen absorbent in which an inorganic compound having a cation exchange capacity and a transition metal complex comprising a polycation having basic nitrogen atoms and the transition metal are multiplexed, the oxygen absorbent resin composition containing the oxygen absorbent, the laminate, and the package are provided.例文帳に追加

陽イオン交換能を有する無機化合物と、塩基性窒素を有するポリカチオンと遷移金属とからなる遷移金属錯体とを複合化させた酸素吸収剤及び該酸素吸収剤を含有する酸素吸収性樹脂組成物及び積層体及び包装体。 - 特許庁

In the ink-jet recording material in which an ink receiving layer containing fine inorganic particles is formed on a support, the ink receiving layer contains a thioether compound having an alkyl group substituted by a hydrophilic group or a group having a basic nitrogen atom.例文帳に追加

支持体上に無機微粒子を含有するインク受容層を設けたインクジェット記録用材料において、該インク受容層に親水性基もしくは塩基性窒素原子を有する基で置換されたアルキル基を有するチオエーテル化合物を含有することを特徴とするインクジェット記録材料。 - 特許庁

In the negative resist composition, a base resin contains styrene-based repeating units and has a weight average molecular weight of 1,000-10,000, and a compound containing a nitrogen atom as a basic component contains one or more kinds of amine compounds having a carboxyl group and not having a hydrogen atom covalently bonded to a base-center nitrogen atom.例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物であって、ベース樹脂は、スチレン系繰り返し単位を含み、重量平均分子量が１，０００〜１０，０００であり、塩基性成分として窒素を含有する化合物は、カルボキシル基を有し、かつ塩基性中心である窒素原子に共有結合で結合する水素を有しないアミン化合物の１種以上を含むものであることを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

A new fluorescent group-containing carbodiimide compound precursor having a halogen or a sulfonic acid group is prepared and used to prepare the new fluorescent group-containing carbodiimide compound having at least one group selected from carboxy group, sulfo group, phosphono group and phosho group substituted with an alkali metal, an alkaline earth metal or a basic group containing nitrogen or phosphorus.例文帳に追加

ハロゲン又はスルホン酸基を有する新規な蛍光性基含有カルボジイミド化合物前駆体を作製し、これを用いてアルカリ金属、アルカリ土類金属、又は、窒素若しくはリンを含有する塩基性基で置換されたカルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基及びホスホ基から選ばれる基を少なくとも１つ有する新規な蛍光性基含有カルボジイミド化合物を作製する。 - 特許庁

Which is an epoxy type resin wherein 5-80 parts by weight (solid) of a polyisocyanate compound having at least two isocyanate groups in one molecule thereof is compounded with 100 parts by weight (solid) of a substrate resin wherein at least one basic nitrogen atom and at least two primary hydroxyl groups are added to a terminal of an epoxy resin.例文帳に追加

（１）エポキシ樹脂の末端に少なくとも１個の塩基性窒素原子と少なくとも２個の１級水酸基とを付加した基体樹脂１００重量部（固形分）に対し、１分子中に少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物を５〜８０重量部（固形分）の割合で混合したエポキシ系樹脂。 - 特許庁

The polycarbonate having a component originated from a plant is prepared by melting-polymerizing/condensing a diol comprising dianhydrohexytols and carbonic acid diester relative to 1 mol of the diol in the presence of 50-500 μmol of a nitrogen-containing basic compound and 1.2-40 μmol of a total amount of an alkali metal element and an alkaline earth metal element.例文帳に追加

ジアンハイドロヘキシトール類からなるジオールと炭酸ジエステルとを、該ジオール１ｍｏｌに対して含窒素塩基性化合物５０〜５００μｍｏｌ、並びに、アルカリ金属元素およびアルカリ土類金属元素の合計量１．２〜４０μｍｏｌの存在下に溶融重縮合させて植物由来成分を有するポリカーボネートを得る。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing acid decomposable alicyclic olefin repeating units with a specified structure, anhydride repeating units with a specified structure and acid decomposable acrylic repeating units with a specified structure and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a nitrogen-containing basic compound having no aromatic ring.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸分解性脂環オレフィン系繰り返し単位、特定構造の無水物系繰り返し単位、及び特定構造の酸分解性アクリル系繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び芳香族基を有さない含窒素塩基性化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

In the method of producing the thermoplastic resin having a specified structure, an acylated material provided by acylating hydroxide groups of at least one kind of compound selected from a group consisting of aromatic diol, heterocyclic diol, aromatic hydroxycarboxylic acid and heterocyclic hydroxycarboxylic acid is transesterified with non-aromatic dicarboxylic acid, wherein the acylation and/or the transesterification is performed in the presence of the organic basic compound that is a heterocyclic compound containing at least one nitrogen atom in a molecule.例文帳に追加

芳香族ジオール、複素環ジオール、芳香族ヒドロキシカルボン酸、および複素環ヒドロキシカルボン酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物の水酸基を、脂肪族酸無水物でアシル化して得られたアシル化物と、非芳香族ジカルボン酸をエステル交換する、特定構造を有する熱可塑性樹脂の製造方法であって、窒素原子を分子中に１個以上含むヘテロ環化合物である有機塩基化合物の存在下、アシル化および／またはエステル交換を行うことを特徴とする熱可塑性樹脂の製造方法。 - 特許庁

There is provided an oligopeptide compound comprising: (a) at least one nitrogen-containing basic group attached to at least one end of the oligopeptide; and (b) two or more heterocyclic monomers, at least one of which is substituted in the heterocyclic part by a branched chain, cyclic or partially cyclic 3-5C alkyl group, or a pharmaceutically acceptable salt or solvate thereof.例文帳に追加

DNAの副溝に結合する、(a)オリゴペプチドの少なくとも一方の端に結合している少なくとも1個の窒素含有塩基性基;および(b)2個以上の複素環式モノマーであって、そのうちの少なくとも1個が複素環部分で分枝鎖、環式または部分環式C_3〜C_5アルキル基で置換されているモノマーを含有するオリゴペプチド化合物または薬剤として許容されるその塩もしくは溶媒和物が提供される。 - 特許庁

To provide an oxygen absorbent which makes a complex comprising a basic nitrogen-containing compound having an oxygen absorption capacity and a transition metal insoluble in water by a simple method, an oxygen absorbent resin composition in which the oxygen absorbent is incorporated into a thermoplastic resin etc., a laminate using it, and a package.例文帳に追加

酸素吸収能力を有する塩基性窒素含有化合物と遷移金属からなる錯体を簡易な手法で非水溶性化した酸素吸収剤、およびそれを熱可塑性樹脂などに配合した酸素吸収性樹脂組成物、ならびにそれを用いた積層体及び包装体を得ることにあり、さらには、これらの包装体をボイルやレトルト処理にも展開が可能な包装体にすることにある。 - 特許庁

The semiconductor wafer polishing composition uses an active silic acid solution obtained by removing alkali from a silic acid alkaline solution, and colloidal silica formed of a nitrogen containing basic compound composed of one kind or more of ethylenediamine, diethylenediamine, imidazole, methyl imidazole, piperidine, morpholine, arginine, and hydrazine as main components, and contains a quaternary ammonium hydroxide, whereby pH at 25°C is prepared to 8.5-11.0.例文帳に追加

珪酸アルカリ水溶液からアルカリを除去して得られた活性珪酸水溶液と、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、イミダゾール、メチルイミダゾール、ピペリジン、モルホリン、アルギニンおよびヒドラジンのいずれか１種類以上である窒素含有塩基性化合物によって製造されるコロイダルシリカを主成分とし、水酸化第４アンモニウムを含有することで、２５℃におけるｐＨが８．５〜１１．０に調製されていることを特徴とする半導体ウエハ研磨用組成物。 - 特許庁