| 意味 | 例文 (999件) |
dry-filmの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2266件
To provide a dry film laminating apparatus capable of excluding the effect due to the skill of a worker and capable of stabilizing the quality of a resist layer forming material wound in a roll form in dry film setting and cutting work and a laminating method using the dry film laminating apparatus.例文帳に追加
ドライフィルムのセット、カット作業に関して、作業者のスキルによる影響を排除でき、ロール状に巻いたレジスト層形成材の品質安定化が可能となるドライフィルムラミネート装置及びラミネート方法を提供する。 - 特許庁
The dry film comprises at least one water-soluble polymer in an amount of about 45 to 82 wt.% based on the total weight of the dry film and at least one surfactant in an amount of about 18 to 55 wt.% based on the total weight of the dry film, when used for cleansing.例文帳に追加
そのフィルムは、乾燥フィルムの全重量基準で約４５〜約８２重量％の量の少なくとも１種の水溶性ポリマーを含み、そしてクレンジングに使用されたときに乾燥フィルムの全重量基準で約１８〜約５５重量％の量の少なくとも１種の界面活性剤を含む。 - 特許庁
To smoothly laminate a pohotosensitive dry film resist on a substrate and more particularly to provide a laminating method of preventing the temporarily bonded front end of the photosensitive dry film resist from being peeled or the substrate from being deformed when the front end of the photosensitive dry film resist is temporarily bonded onto the substrate.例文帳に追加
基板上に感光性ドライフィルムレジストをスムーズにラミネートすること、特に感光性ドライフィルムレジストの先端部を基板上に仮着した際に、この仮着が剥離したり或は基板が変形したりすることを防止するラミネート方法を目的とする。 - 特許庁
A wiring layer is formed by dry-etching a silicon nitride film 5, a titanium nitride film 3 and a tungsten film 4 one by one.例文帳に追加
シリコン窒化膜５、窒化チタン膜３、タングステン膜４を順次ドライエッチングして、配線層を形成する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING MICROLENS PROTECTION FILM, PHOTOSENSITIVE DRY FILM FOR FORMING MICROLENS PROTECTION FILM, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加
マイクロレンズ保護膜形成用感光性樹脂組成物、マイクロレンズ保護膜形成用感光性ドライフィルム、及び液晶表示ディスプレイ - 特許庁
Silicon oxide film or silicon nitride film, deposited on a platinum film, is dry-etched within a reaction chamber of which the wall surface is covered with quartz.例文帳に追加
白金膜上に堆積されたシリコン酸化膜もしくはシリコン窒化膜を、壁面が石英で覆われた反応室内でドライエッチングする。 - 特許庁
The insulating film 8 is formed thicker than a necessary film thickness, and a recessed portion 8a having a bottom is formed in the insulating film 8 by dry etching.例文帳に追加
絶縁膜８については必要膜厚よりも厚く形成しておき、ドライエッチングの際、絶縁膜８に有底の凹部８ａを形成する。 - 特許庁
Then the plating resist film 26 for columnar electrode formation made of a negative type dry film resist is formed on an upper surface of the coating film 25.例文帳に追加
次に、被覆膜２５の上面にネガ型のドライフィルムレジストからなる柱状電極形成用メッキレジスト膜２６を形成する。 - 特許庁
To easily and precisely measure the thickness of a coating film, irrespective of the film thickness of the coating film and the dry/wet conditions thereof.例文帳に追加
塗膜の膜厚やその乾燥／湿潤状態に関わらず、塗膜の厚さを簡便にかつ高精度に計測する。 - 特許庁
The intermediate film pattern 108 is used as a mask for the dry etching of the processed film 103 to form a processed film pattern 109.例文帳に追加
その後、中間膜パターン１０８をマスクに用い、被加工膜１０３をドライエッチングして、被加工膜パターン１０９を形成する。 - 特許庁
After wet etching the metal film 106, n^+a-Si film 105 and an a-Si film 104 are dry etched.例文帳に追加
金属膜１０６をウエットエッチングした後、ｎ^＋ａ−Ｓｉ膜１０５、ａ−Ｓｉ膜１０４をドライエッチングする。 - 特許庁
(e) A dry film photoresist is applied onto the Ti film 44 and then exposed and developed to form a choking film 49 on the openings 44-1.例文帳に追加
(e) Ｔｉ膜４４上にドライフィルムフォトレジストを被覆し、露光・現像して、開口４４−１上部に閉塞膜４９を形成する。 - 特許庁
Next, the first insulating film 63a and a first metallic film are dry-etched to form the lower electrode 62a and the first insulating film 63a.例文帳に追加
次に、第１の絶縁膜６３ａと第１の金属膜をドライエッチングして下部電極６２ａ及び第１の絶縁膜６３ａを形成する。 - 特許庁
The stretching is performed while drying the wet film 16 by blowing dry wind to the wet film 16 with a drying mechanism 12 to stepwise raise the temperature of the wet film 16.例文帳に追加
延伸は、乾燥機構１２により乾燥風を吹き付けて湿潤フイルム１６の温度を段階的に上げて乾燥する。 - 特許庁
To provide a dry film photoresist which can be formed into a hardened film (tent film) having high resolution and hardly fractured and which has excellent peeling property.例文帳に追加
高解像でかつ破れにくい硬化膜（テント膜）を形成でき、かつ剥離性に優れたドライフィルムフォトレジストを提供する。 - 特許庁
A copper film and a dry film are pressed continuously to a flexible insulating film 20 through interlocked reel-to-reel operation.例文帳に追加
フレクシブル絶縁テープ２０にリールツーリールの連動操作で銅箔とドライフィルムとを連続的にプレスする。 - 特許庁
The thickness of dry film is 20-50 μm and at film peeling, the printed wiring board is applied with a film peeling liquid at 40-70°C.例文帳に追加
ドライフィルムの厚みは２０〜５０μｍであり，かつ剥膜処理は，温度４０〜７０℃の剥膜液を上記プリント配線板に施すことにより行う。 - 特許庁
When dry etching using etching gas containing at least COF_2 gas is performed, the silicon nitride film 22 can be favorably dry-etched and a channel protection film is formed under the resist film 23.例文帳に追加
そして、少なくともＣＯＦ_２ガスを含むエッチングガスを用いてドライエッチングすると、窒化シリコン膜２２を良好にドライエッチングすることができ、レジスト膜２３下にチャネル保護膜が形成される。 - 特許庁
In forming the imidized film by heating a dry film of a polyimide precursor formed on a cylindrical mold with an atmosphere heating means, a heating restricting means which restricts the heating from the air side surface of the dry film is employed.例文帳に追加
円筒型上に形成されるポリイミド前駆体の乾燥膜を雰囲気加熱手段により加熱してイミド化膜を形成する際、該乾燥膜のエアー面からの加熱を制限する加熱制限手段を用いる。 - 特許庁
Thereafter, the protective film material is getting dry as a certain time elapses, the protective film material gets dry enough when cobalt chloride indicates blue, depending on the degree of dryness of the protective film material.例文帳に追加
この後、時間の経過により、保護膜材料が乾燥し、この乾燥度合いにより、塩化コバルトが青色を示すと、保護膜材料が十分に乾燥した状態となる。 - 特許庁
A coating film 17B of a PZT precursor solution is formed on a first electrode 12 to become a dry film 15, after which the heat equal to or more than a thermal decomposition temperature is applied only on specific regions of the dry film 15 selectively.例文帳に追加
第１の電極１２上に、ＰＺＴ前駆体溶液による塗膜１７Ｂを形成して乾燥膜１５とした後に、該乾燥膜１５の特定の領域にのみ選択的に熱分解温度以上の熱を加える。 - 特許庁
To provide a dry film resist suitable for effectively manufacturing a circuit board such as a printed wiring board where higher resolution is required, and a support film suitable for the dry film resist.例文帳に追加
いっそうの高解像度化が求められるプリント配線板等の回路基板の効率的な製造に適したドライフィルムレジスト、及び、該ドライフィルムレジストに適する支持フィルムを提供すること。 - 特許庁
To provide a method of dry-treating surface of insulating film by which no damage is given to a low-k film regardless of the material of the film, and to provide a surface dry-treating device that realizes the method.例文帳に追加
Ｌｏｗ−ｋ膜の材料に依存せず、Ｌｏｗ−ｋ膜にダメージを与えないドライ表面処理方法、さらに、この表面処理方法を実現するドライ表面処理装置を提供することを課題とする。 - 特許庁
A method of selectively dry etch tantalum and a tantalum nitride film is provided.例文帳に追加
本発明は、タンタル及び窒化タンタル膜を選択的にドライ・エッチングするための方法を説明する。 - 特許庁
The lubricant 7 is a dry coating film lubricant composed of a solid lubricant and its binder.例文帳に追加
潤滑剤７は、固体潤滑剤とそのバインダーからなる乾性被膜潤滑剤である。 - 特許庁
THERMOSETTING RESIN COMPOSITION, MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD, AND THERMOSENSITIVE DRY FILM例文帳に追加
熱硬化性樹脂組成物、多層プリント配線板および感熱性ドライフィルム - 特許庁
The antireflection film is patterned by dry etching (b) (a broken line showing the proper patterning position).例文帳に追加
ドライエッチングで反射防止膜をパターニングする（ｂ）（破線は本来のパターン位置を示す）。 - 特許庁
CURABLE RESIN COMPOSITION FOR COATING, MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD, PRINTED WIRING BOARD AND DRY FILM例文帳に追加
塗工用硬化性樹脂組成物、多層プリント配線板、プリント配線板及びドライフィルム - 特許庁
PHOTOSENSITIVE DRY FILM RESIST HAVING EPOXY RESIN LAYER AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
エポキシ樹脂層を有する感光性ドライフィルムレジスト及びその作製方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE DRY FILM RESIST HAVING ION SCAVENGER LAYER, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
イオン捕捉剤層を有する感光性ドライフィルムレジストおよびその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD, AND PHOTOSENSITIVE DRY FILM USED FOR SAME例文帳に追加
多層プリント配線板の製造方法およびそれに用いる感光性ドライフィルム - 特許庁
DRY FILM FOR FORMING OPTICAL WAVEGUIDE AND OPTICAL WAVEGUIDE FORMED BY USING THE SAME例文帳に追加
光導波路形成用ドライフィルム、およびそれを用いてなる光導波路 - 特許庁
The dry film density can also be increased by making the ink for an internal electrode to contain lauryl betaine.例文帳に追加
同様に、ラウリルベタインを含有させることで、乾燥膜密度を向上させる。 - 特許庁
SELF-ADHESIVE FILM FOR FORMING HOLOGRAM, DRY PLATE FOR PHOTOGRAPHING HOLOGRAM, AND IMAGE FORMING METHOD USING THEM例文帳に追加
ホログラム形成用粘着フィルム、ホログラム撮影用乾板、及びそれを用いた画像形成方法 - 特許庁
The etching damage during dry etching after forming an electrode or a wiring over an insulating film is prevented.例文帳に追加
絶縁膜上の電極や配線形成後のドライエッチングにおけるエッチングダメージを防止する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL WAVEGUIDE, DRY FILM, OPTICAL WAVEGUIDE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
光導波路用感光性樹脂組成物、ドライフィルム、光導波路及びその製造方法 - 特許庁
A pattern dry film layer is formed on lower surfaces of the metal substrate 110 and the seed layer 120.例文帳に追加
パターンドライフィルム層が金属基板１１０とシード層１２０の下表面上に形成される。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE POLYAMIDE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM AND COVERLAY USING THOSE例文帳に追加
感光性ポリアミド樹脂組成物、感光性ドライフィルムおよびそれらを用いたカバーレイ - 特許庁
After that, dry etching treatment is applied to the low-permittivity film 103 from the upper portion of the mask pattern layer successively.例文帳に追加
その後、連続してマスクパターン層上から低誘電率膜１０３をドライエッチング処理する。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE DRY FILM RESIST HAVING ADHESIVE LAYER AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
接着剤層を有する感光性ドライフィルムレジストおよびその製造方法 - 特許庁
RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL WAVEGUIDE FORMATION, DRY FILM, AND OPTICAL WAVEGUIDE BASED ON THESE例文帳に追加
光導波路形成用樹脂組成物、ドライフィルム、およびこれらを用いてなる光導波路 - 特許庁
This personal care composition in the form of dry film useful for cleansing or shaving.例文帳に追加
クレンジング又はシェービングに有用な乾燥フィルム形態のパーソナルケア組成物である。 - 特許庁
RESIN COMPOSITION FOR ALKALI DEVELOPABLE RESIST, DRY FILM AND RESIST COMPRISING THEIR CURED BODY例文帳に追加
アルカリ現像性レジスト用樹脂組成物、ドライフィルム及びそれらの硬化物よりなるレジスト - 特許庁
To provide a method of dry-etching a silicon nitride film increasing the throughput.例文帳に追加
スループットを向上できる窒化珪素膜のドライエッチング方法を提供すること。 - 特許庁
OUTER FACE COATING COMPOSITION FOR 3P METAL CAN AND 3P METAL CAN HAVING DRY COATING FILM LAYER OF THE SAME例文帳に追加
３Ｐ金属缶外面用塗料組成物及び該組成物の乾燥塗膜層を有する３Ｐ金属缶 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition for a halogen-free frame retardant dry film.例文帳に追加
ハロゲンフリーの難燃性ドライフィルム用感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁
A mask material 18 is used for dry-etching the aluminum film to form the aluminum wire 15.例文帳に追加
アルミニウム膜をマスク材１８を用いてドライエッチングし、アルミニウム配線１５を形成する。 - 特許庁
To provide a composition for forming an antireflection film having a higher dry etching rate than a photoresist.例文帳に追加
ドライエッチング速度がホトレジストに比べて速い反射防止膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁
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