「electrostatic deflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In reviewing the defects, by irradiating the primary electron beam on the testpiece in such a state that the deflection amount of the electrostatic deflector 12 is reduced than the detection time of defects, and by forming the secondary electron microscopic picture of the defect candidate of the testpiece 19, the three-dimensional SEM image is obtained.例文帳に追加

欠陥レビュー時には、静電偏向器１２の偏向量を欠陥検出時より低下させた状態で１次電子線を試料に照射して試料１９の欠陥欠陥候補の２次電子画像を形成することにより立体的なＳＥＭ像が得られる。 - 特許庁

The reference chamber 52 is separated from the detection chamber 42 by a flexible diaphragm 44 made from Haynes 230 alloy, wherein the deflection of the diaphragm 44 in response to an applied pressure in the detection chamber 42 corresponds to a change in electrostatic capacitive value by the detection electrode 62.例文帳に追加

基準チャンバー５２は、ヘインズ２３０アロイから作られた可撓性ダイヤフラム４４により検出チャンバー４２から分離され、検出チャンバー４２内に加えられる圧力に応じたダイヤフラム４４の撓みが、検出電極６２により検出される静電容量値の変化に対応する。 - 特許庁

The electron bombarded ion source comprises a source magnet that deflects a part of generated ions from the center axis direction of the ion reserve, and at the rear stage of the electron bombarded ion source, an electrostatic lens that further assists the deflection of ion by the source magnet and a differential discharge slit for cutting off the deflected ion are provided.例文帳に追加

電子衝撃イオン源は、発生したイオンの一部を、イオン溜の中心軸方向から偏向させるソースマグネットを備え、電子衝撃イオン源の後段には、ソースマグネットによるイオンの偏向を更に助長する静電レンズと、偏向されたイオンを遮断する差動排気スリットとを備えた。 - 特許庁

An electrostatic latent image is formed on a surface of a photoreceptor by interlace scan by a multiple beam scanner deflecting a plurality of light beams by the light emission of each of a plurality of light emitting parts possessed by a light source element by a deflection element to mainly scan and expose the electrified surface of a photoreceptor.例文帳に追加

光源素子が有する複数の各発光部の発光による複数本の光ビームを偏向素子によって偏向して、感光体の帯電された表面を主走査して露光するマルチビーム走査装置により、インタレース走査によって感光体の表面に静電潜像を形成する。 - 特許庁

Additionally, by arranging a second scanner so that a deflection center coincides with an incident side focus on a plane vertical to the scanning surface of ion beams composited by the device for making parallelism, the magnetic field type lens 40, or the electrostatic lens, precision in the parallelism in two directions of the ion beams can be improved further.例文帳に追加

また、平行化装置と、磁場型レンズ４０、又は、静電レンズにより合成されるイオンビームの走査面に垂直な平面での入射側焦点に、その偏向中心を一致させるように第２の走査器を配置すると、イオンビームの二方向の平行化精度を一層向上させることができる。 - 特許庁

To provide a forming method of a deflecting voltage can copy with both of PVC mode and NVC mode, and to provide a testing device can improve detection sensitivity by reducing scanning deviation of an electron beam caused by noises of a deflection control circuit in an electron beam type testing device based on an electrostatic deflector system of a multi-stage and multi-pole constitution.例文帳に追加

複数段多極構成の静電偏向器方式に基づいた電子ビーム式検査装置において、ＰＶＣモードとＮＶＣモードのいずれにも対応できる偏向電圧生成方法を提供すると共に、偏向制御回路のノイズに起因する電子ビームの走査ずれを低減して検出感度を向上できる検査装置を提供する。 - 特許庁

A deflection mirror surface 651 of the deflector 65, that is manufactured using micro-machining technology, is driven by rocking driving force such as electrostatic attracting force or the like, so that heat generated from the deflector 65 is greatly reduced compared with the case in which a mechanical driving element such as a motor or the like is used and fluctuation of air is suppressed.例文帳に追加

このようにマイクロマシニング技術を利用して製造した偏向器６５の偏向ミラー面６５１を静電吸着力などの揺動駆動力によって駆動しているので、モータなどの機械駆動要素を用いた場合に比べて偏向器６５から発生する熱を大幅に低減させることができ、空気のゆらぎが抑制される。 - 特許庁

When an electrostatic quadrupole lens for reshaping a beam is formed by dividing a third electrode 4 into a third focusing electrode 41 of a first kind and a third focusing electrode 42 of a second kind, an electrode adjacent to a fourth electrode 5 is a third focusing electrode 42 for applying a second focusing voltage varying in synchronization with a change of a deflection angle for scanning an electron beam on a screen.例文帳に追加

第３電極４を第１種の第３集束電極４１と第２種の第３集束電極４２に分割してビーム整形用静電四重極レンズを形成させる際に、第４電極５と隣接する電極を電子ビームをスクリーン上で走査する偏向角の変化に同期して変動する第２集束電圧が印加される第２種の第３集束電極４２とする。 - 特許庁