「electrostatic deflection」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

After the gain correction, the deflection signal is converted to an analog signal and applied to the electrostatic deflection device 120.例文帳に追加

ゲイン補正した後にアナログ変換して静電偏向器１２０に印加する。 - 特許庁

A Z-sensor is provided with electrostatic deflection systems 19, 20.例文帳に追加

Ｚセンサーは、静電偏向器１９及び２０を備える。 - 特許庁

To provide a beam deflection scanning device in which a beam diameter, while scanning by electrostatic deflection, can be kept uniform at any scanning position.例文帳に追加

静電偏向による走査中におけるビーム径を走査位置によらずほぼ一定に保つことができるようにする。 - 特許庁

To align time differences of outputs of deflection voltages in respective electrodes of an 8-pole electrostatic deflection means, and to carry out deflection of electron beams in high accuracy, in an electron beam scanning device equipped with an 8-pole electrostatic deflection means deflecting electron beams.例文帳に追加

電子線を偏向する８極静電偏向手段を備えた電子線走査装置において、８極静電偏向手段の各電極で偏向電圧の出力の時間差を高精度に揃え、電子線の偏向を高精度に行う。 - 特許庁

MAGNETIC/ELECTROSTATIC HYBRID DEFLECTOR FOR ION IMPLANTATION SYSTEM, AND DEFLECTION METHOD OF ION BEAM例文帳に追加

イオン注入システムのための磁気／静電式ハイブリッド偏向器およびイオンビームの偏向方法 - 特許庁

To correct three astigmatisms by positively generating an electrostatic hexapole field against a hexapole field generated accompanying an electrostatic deflection field and a static magnetic deflection field in a Wien filter.例文帳に追加

ウィーンフィルタ内で静電偏向場、及び静磁偏向場に付随して発生する六極子場に対して、静電六極子場を積極的に発生させ、３回非点を補正する。 - 特許庁

The influence by a noise component is reduced by changing deflection sensitivity (transformation distance of deflection/deflection voltage) by changing over the effective area of an electrostatic deflector applied according to a scanning magnification factor by dividing the electrostatic deflector into multiple stages.例文帳に追加

静電偏向器を多段に分割して、走査倍率に応じて印加する静電偏向器の実効の面積を切換えることによって、偏向感度（偏向の変移距離／偏向電圧）を変えて、ノイズ成分による影響を軽減する。 - 特許庁

The multi-beam pattern definition device 300 includes a deflection array means 302 and a plurality of electrostatic deflector electrodes 321 for each beamlet.例文帳に追加

偏向アレイ手段３０２、各ビームレット用の複数の静電偏向電極３２１を有する。 - 特許庁

Data based on a forming pattern is converted to an 8-pole deflection signal by a circuit 102, and the deflected signal is applied to an 8-pole electrostatic deflection device 120 via digital/analog converting deflection amplifier 105.例文帳に追加

描画パターンに基づくデータを、回路１０２で８極用の偏向信号に変換し、この偏向信号を８極の静電偏向器１２０にディジタル／アナログ変換偏向アンプ１０５を介して印加する。 - 特許庁

To provide an electrostatic deflection control circuit of an electron beam measuring device, as well as an electrostatic deflection control method, in which high precision in measuring an electron beam can be attained and structural simplification of a device is obtained.例文帳に追加

電子線計測の高精度化を図ることができるとともに、装置の構成の簡易化に寄与することができる電子線計測装置の静電偏向制御回路および静電偏向制御方法を提供する。 - 特許庁

In the electron beam type testing device, the deflection control means 2 to control the electrostatic deflector has a deflection waveform forming means 21 to form a deflection control signal, and a deflection signal output means 20 of applying different voltages to respective stages of the electrostatic deflector by amplifying formed control signals and by branching these amplified control signals.例文帳に追加

電子ビーム式検査装置において、静電偏向器を制御する偏向制御手段２は、偏向制御信号を生成する偏向波形生成手段２１と、生成された制御信号を増幅し、この増幅された制御信号を分岐して静電偏向器の各段に違う電圧を印加する偏向信号出力手段２０とを有する。 - 特許庁

The deflection method of ion beam includes a step in which one or a plurality of characteristics of beam are identified and a step in which, based on the identification, either of the magnetic deflection module or the electrostatic deflection module are operated selectively.例文帳に追加

また、本発明に係るイオンビームの偏向方法は、ビームに関する１つまたは複数の特性を判別するステップと、この判別に基づいて、磁気偏向モジュールと静電偏向モジュールの１つを選択的に動作させるステップを含む。 - 特許庁

The deflection data converted into the analog value is calculated, amplified, and outputted into a deflection voltage given to each electrode of the 8-pole electrostatic deflector 110 by an analog calculation amplification circuit 104.例文帳に追加

アナログ値に変換された偏向データは、アナログ演算増幅回路１０４により、８極静電偏向器１１０の各電極に与える偏向電圧に演算・増幅され出力される。 - 特許庁

The electron beam irradiation device having an electron gun generating an electron beam and an electrostatic deflection apparatus controlling the electron beam is such that an electrode surface of a deflection electrode 61 formed on a surface inside a cylindrical electrode base material 60 structuring an electrostatic deflection apparatus is covered with a metal coating 62 as a conductive oxide coating.例文帳に追加

電子ビームを発生する電子銃と電子ビームを制御する静電偏向器を有する電子ビーム照射装置において、静電偏向器を構成する円筒状の電極基材６０内表面に形成された偏向電極６１の電極表面が、導電性酸化物被膜である金属被膜６２で覆われてなる。 - 特許庁

An electrostatic field generating part 4 generates a multipole electrostatic field such as an electrostatic deflection field, an electrostatic quadrupole field, and an electrostatic hexapole field by adjusting applied voltages of the respective power supplies according to an instruction operated by a user using an operation part 6 in order to focus a beam on a slit in a monochromator applied with this 12-pole Wien filter.例文帳に追加

静電場発生部４は、この１２極型ウィーンフィルタが適用されるモノクロメータにおいてスリット上でビームを絞るために、ユーザが操作部６を使って操作した指示にしたがって、各電源の印加電圧を調整し、静電偏向場、静電四極子場、静電六極子場のような多重極静電場を発生する。 - 特許庁

The hybrid deflector 500 for an ion implantation system is composed of a magnetic deflection module 350 which works to deflect ion beam from a beam axis, an electrostatic deflection module 504 which works to deflect the ion beam from the beam axis, and a controller 304 which, based on one or a plurality of input controlling signals, operates either the magnetic deflection module or the electrostatic deflection module selectively.例文帳に追加

本発明に係るイオン注入システムのためのハイブリッド偏向器５００は、イオンビームをビーム軸から偏向するように動作する磁気偏向モジュール３５０と、前記イオンビームを前記ビーム軸から偏向するように動作する静電偏向モジュール５０４と、１つまたは複数の入力制御信号に基づいて、前記磁気偏向モジュールと前記静電偏向モジュールの１つを選択的に動作させるコントローラー３０４とを含む。 - 特許庁

In an electrostatic and electromagnetic superimposed type deflector 11, the deflection electrodes 12a, 12b of the electrostatic deflector are given voltages of different polarities and of the same magnitude by power supply devices 14a, 14b.例文帳に追加

静電、電磁重畳型偏向器１１において、静電偏向器の偏向電極１２ａ，１２ｂは電源装置１４ａ，１４ｂによって、互いに極性の異なり大きさが同じ電圧を与えられている。 - 特許庁

To provide a uniaxial and biaxial deflection electrostatic actuator and optical scanning device having a simple electrode wiring structure.例文帳に追加

本発明は、電極配線構造の単純な１軸及び２軸偏向の静電アクチュエータ及び光走査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an electrostatic deflector capable of obtaining an observed image with an affect of a power source noise alleviated even in a high magnification without causing a shift of an optical axis adjustment even if deflection sensitivity of the electrostatic deflector is switched over.例文帳に追加

静電偏向器の偏向感度を切り換えても光軸調整のずれを生じることなく、高倍率でも電源ノイズの影響を軽減した観察像を得ることができる静電偏向器を与える。 - 特許庁

The present invention relates to an electrostatic deflection system for corpuscular radiation which can be used particularly for microstructured and nanostructured applications in a lithography device or a measuring device.例文帳に追加

本発明は、特にリソグラフィ装置又は測定器のミクロ構造及びナノ構造用途に使用できる粒子放射線用の静電偏向システムに関する。 - 特許庁

To reduce deflection of a beam due to internal stress of a laminated film in an electrostatic drive type MEMS element such as an optical MEMS element.例文帳に追加

光学ＭＥＭＳ素子等の静電駆動型のＭＥＭＳ素子において、積層膜の内部応力に起因したビームのたわみを極力低減せしめる。 - 特許庁

As a result, the pattern is interpolated with the electrostatic potential of the deflection electrodes constant, that is, to be linear between reference potentials at reference points (Pij) of respective subfields.例文帳に追加

従って、偏向電極の静電電位が一定、すなわち、それぞれのサブフィールドの基準点（Ｐｉｊ）における基準電位間で直線的に補間される。 - 特許庁

In order to apply the different voltages to the respective stages of the electrostatic deflector coping with the voltage set by a charged control means and applied to a charged control electrode, the deflection signal output means 20 has deflection voltage ratio switching means 203 to switch voltage ratios of the control signals applied to the respective stages of the electrostatic deflector.例文帳に追加

偏向信号出力手段２０は、静電偏向器の各段に違う電圧を印加するために、帯電制御手段により設定されて帯電制御電極に印加する電圧に応じて静電偏向器の各段に印加する制御信号の電圧比を切り替える偏向電圧比切替手段２０３を有する。 - 特許庁

By inputting a volume of the measurement error into an error detection/correction circuit 48, adding two kinds of error volumes to make up a deflection signal 25, and inputting it into an electrostatic deflection electrode 15, the electron beam 10 is positioned in precision.例文帳に追加

この測定誤差量を誤差検出・補正回路４８に入力し、２種類の誤差量を加えて偏向信号２５を作り、静電偏向電極１５に入力することで、電子ビーム１０の正確な位置決めを可能とする。 - 特許庁

To provide an optical axis deflection element which is constructed so as to provide an optical axis deflection effect similar to the conventional one even when an applied voltage value is set to be one-half or lower of the conventional value and with which electrostatic discharge and a noise is prevented and a power source is downsized.例文帳に追加

印加する電圧値を従来の１／２以下に設定しても、従来と同様な光学軸偏向効果が得られ、放電やノイズの防止、電源の小型化などが図れる構成の光学軸偏向素子を提供する。 - 特許庁

The E×B separators can work with such intensity as to set the deflection chromatic aberration by the electrostatic deflector 10 nearly equal to the chromatic aberration by the electromagnetic deflector 9.例文帳に追加

Ｅ×Ｂ分離器は、静電偏向器１０による偏向色収差と電磁偏向器９による色収差とをほぼ等しくさせるような強度で動作可能である。 - 特許庁

Thereby, the both ends-fixed beam 105 can be inclined to the space 108 side according to the deformation of the deflection region 110 caused by the action of electrostatic attraction.例文帳に追加

これにより、両端固定梁１０５は、静電引力が作用することにより、撓み部位１１０の変形に伴って空隙１０８側に傾斜することができる。 - 特許庁

In the electrostatic deflection system according to the invention, rod-shaped electrodes are held in an axially symmetric arrangement in an inwardly hollow carrier through which a corpuscular beam can be directed.例文帳に追加

本発明による静電偏向システムでは、ロッド状の電極は、粒子線を方向付けることができる内側方向に中空のキャリアに軸対称配置で保持される。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device and an FIB (focused ion beam) device excellent in performance by reducing an influence on an ion beam by a noise component included in an electrostatic deflection power source.例文帳に追加

静電偏向電源に乗っているノイズ成分によるイオンビームへの影響を軽減して、性能のよい荷電粒子ビーム装置およびＦＩＢ装置を提供すること。 - 特許庁

Thus, the deflection is stably controlled since the correction amount is appropriate even when deflection speed of the intermediate transfer belt 51 tends to increase as electrostatic attraction force between the secondary transfer outer roller 57 and the intermediate transfer belt 51 becomes bigger during the secondary transfer.例文帳に追加

これにより、二次転写時に二次転写外ローラ５７と中間転写ベルト５１との静電吸着力が大きくなって、中間転写ベルト５１の寄り速度が速くなる傾向となっても、補正量を適切にでき、寄り制御を安定して行える - 特許庁

To provide an X-ray tube device of an electrostatic deflection system capable of economically realizing upgrade of an existing X-ray tube device and carrying out deflection moving of the X-ray focus so that there is no effect on a shape of the X-ray focus and a tube current of the X-ray tube.例文帳に追加

既存のＸ線管装置のアップグレイドを経済的に実現でき、Ｘ線焦点の形状やＸ線管の管電流に影響が出ないようにＸ線焦点を偏向移動できる静電偏向方式のＸ線管装置を提供する。 - 特許庁

The optical axis direction position of the sample face is detected on the basis of the deflection voltage ratio of the deflection systems 19, 20 when the left and right of a secondary electron image of the marker obtained while a primary electron beam is deflected by the electrostatic deflection systems 19, 20 to scan on the marker 18, are just reversed, or the magnification substantially becomes infinite.例文帳に追加

静電偏向器１９及び２０により一次電子線を偏向してマーカ１８上を走査する間に得られた該マーカの二次電子画像の左右が丁度反転するとき又はその倍率が実質的に∞になるときの偏向器１９及び２０の偏向電圧比に基づいて、試料面の光軸方向の位置を検出する。 - 特許庁

At a time of a high magnification, a side of a permanently open contact 2a is closed and the output of the adding unit 22 is amplified at a low amplification rate by a low gain amplifier 23p and is similarly impressed on the electrostatic deflection plate 3x1.例文帳に追加

高倍率時、常開接点２５ａ側が閉成し、低利得増幅器２３ｐにより低増幅率で増幅されて、同様に静電偏向板３ｘ１に印加される。 - 特許庁

To provide an electrostatic actuator which can suppress deformation such as deflection of a diaphragm even when the diaphragm is made a thin film, and a High-k material or a surface protecting film is used for an insulating film.例文帳に追加

振動板を薄膜にしても、また絶縁膜にＨｉｇｈ−ｋ材や表面保護膜を使用しても、振動板の反りなどの変形を抑制できる静電アクチュエータ等を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck device and its manufacturing method, which is used even in an environment at high temperature, without deflection or peeling even under an environment with temperature change.例文帳に追加

温度変化のある環境下であってもそりや剥離のない、また、温度の高い環境下であっても用いることのできる静電チャックデバイスを提供し、その製造方法をも提供すること。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device capable of obtaining a condition without charging up an electrode surface of an electrostatic deflection apparatus and an electrostatic lens, maintaining highly precise exposure for a long time, and having an anti-oxidation function of the electrode surface for a long period of time.例文帳に追加

静電偏向器、静電レンズの電極表面をチャージアップすることが殆どない状態を実現し、高精度な露光を長時間維持することが可能で、且つ長期間に亘り電極表面の酸化防止機能を有する電子ビーム照射装置を提供する。 - 特許庁

An electrostatic latent image measurement apparatus comprises an electron gun 11, a light source 100, an acousto-optic deflection element 103, a polygon mirror 105, a second electron detector 24 and correction means which corrects the effect of changed drive frequency of the acousto-optic deflection element 103 on diffraction.例文帳に追加

電子銃１１と、光源１００と、音響光学偏向素子１０３と、ポリゴンミラー１０５と、２次電子検出器２４と、音響光学偏向素子１０３の駆動周波数の変化が回折に与える影響を補正する補正手段と、を備えた静電潜像計測装置。 - 特許庁

A particle orbit deflection portion is formed on the side of an electrode plate between an electrode plate 2 and a collector 3, a electrostatic shield grid 5 for forming an ion capturing portion is provided on the side of the collector 3, and means for applying a positive voltage to the electrode plate 2 and a negative voltage to an electrostatic shield means 4.例文帳に追加

電極板２とコレクター３との空間に電極板側に粒子軌道偏向部を形成し、コレクター３側にイオンイオン捕集部を形成する静電遮蔽グリッド５を設け、電極板２にプラス電圧が、そして静電遮蔽手段４にマイナス電圧を印加する手段を設ける。 - 特許庁

The power supply 111 is used to apply a voltage (of -70 to 0 V, for example) to the correction electrode 18 so as to cancel electrostatic force exerted on a deflection track A by carbon deposited within the analyzer tube 10.例文帳に追加

電源１１１は、分析管１０の内部に付着したカーボンが偏向軌道Ａに及ぼす静電力を相殺するように補正電極１８に電圧（たとえば、−７０〜０Ｖ）を印加する。 - 特許庁

A magnetic field formation means 11 for superposing a deflection magnetic field is arranged in an electrostatic field of the ion optical system 7 for transporting ions emitted from an ionization chamber 4 being the ion source to the quadrupolar mass filter 9.例文帳に追加

イオン源であるイオン化室４を出発したイオンを四重極質量フィルタ９まで輸送するイオン光学系７の静電場に、偏向磁場を重畳する磁場形成手段１１を配置する。 - 特許庁

Therefore, an electrostatic field is formed between the upper and lower deflection electrodes 9 and 10 and the charged ink particles 8 are deflected corresponding to the charge quantity thereof and printing is performed.例文帳に追加

そのため上部偏向電極９と下部偏向電極１０との間に静電界が形成されており、帯電したインク粒子８はその帯電量に応じて偏向され、印字が行われる。 - 特許庁

The device comprises at least one deflection means having a plurality of apertures surrounding beamlets, each aperture being equipped with at least two deflection electrodes which can apply different electrostatic potentials, so that the beamlet paths passing through respective apertures based on desired paths passing through the device (102) are corrected.例文帳に追加

デバイスがビームレットを取り巻く複数の開口部を有する少なくとも一つの偏向手段からなり、各開口部が異なる静電電位を印加可能である少なくとも二つの偏向電極を備え、デバイス（１０２）を通る所望のパスに基づくそれぞれの開口部を通過するビームレットのパスが修正される。 - 特許庁

Data of the pattern for determination stored in a pattern data storage part 301 includes data in which light deflection surfaces 43, to which a light beam LB is radiated in formation of an electrostatic latent image of each thin-width pattern, are the same.例文帳に追加

パターンデータ記憶部３０１に記憶されている判定用パターンのデータは、各細幅パターンの静電潜像の形成において光ビームＬＢを照射する光偏向面４３が同じとなるデータを含む。 - 特許庁

A mark substrate holder 101 absorbs the whole rear surface of the mark substrate by an electrostatic chuck, with the structure same as that of a reticle holder 103 to fully reduce an influence of a deflection by own weight of the mark substrate.例文帳に追加

マーク基板ホルダ１０１が、レチクルホルダ１０３と同様の構造により、静電チャックによりマーク基板の裏面全体を吸着するので、マーク基板の自重たわみの影響は十分に低減することが可能である。 - 特許庁

In an analog calculating circuit 2x1 included in an analog calculating part 2 composing an electrostatic deflection circuit 100, output voltages of a multiplication unit 21x and a multipliction unit 21y are added and outputted by an adding unit 22.例文帳に追加

静電偏向回路１００を構成するアナログ演算部２に含まれるアナログ演算回路２ｘ１では、乗算器２１ｘおよび乗算器２１ｙの出力電圧は、加算器２２により加算出力される。 - 特許庁