「interlayer insulation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DRY ETCHING METHOD OF INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

層間絶縁膜のドライエッチング方法 - 特許庁

INTERLAYER INSULATION FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

層間絶縁膜及びその製造方法 - 特許庁

POLYIMIDE, POLYAMIC ACID, AND INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

ポリイミド、ポリアミック酸および層間絶縁膜 - 特許庁

METHOD FOR FORMING INTERLAYER INSULATION FILM AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

層間絶縁膜の形成方法及び層間絶縁膜用感光性樹脂組成物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR INTERLAYER INSULATION FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE, INTERLAYER INSULATION FILM USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

半導体素子の層間絶縁膜用感光性樹脂組成物、それを用いた層間絶縁膜及び層間絶縁膜の製造方法 - 特許庁

ORGANIC MATERIAL FOR SEMICONDUCTOR INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

半導体層間絶縁膜用有機材料 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

層間絶縁膜用感光性樹脂組成物 - 特許庁

CURING RESIN COMPOSITION AND INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

硬化性樹脂組成物および層間絶縁膜 - 特許庁

In tandem with the film formation process, an interlayer insulation film is formed in an interlayer insulation process.例文帳に追加

成膜工程と相前後して、層間絶縁工程において層間絶縁膜を形成する。 - 特許庁

CURABLE RESIN COMPOSITION AND INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

硬化性樹脂組成物および層間絶縁膜 - 特許庁

The first interlayer insulation film 3 of a low dielectric constant is formed on a substrate insulation film 2, and a second interlayer insulation film 4 is formed on the first interlayer insulation film 3.例文帳に追加

下地絶縁膜２上に低誘電率の第１の層間絶縁膜３を形成し、第１の層間絶縁膜３上に第２の層間絶縁膜４を形成する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING INTERLAYER INSULATION FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体素子の層間絶縁膜形成方法 - 特許庁

A via hole is formed in a first mask film on an interlayer insulation film and the interlayer insulation film so that it may reach the midway in the direction of thickness of the interlayer insulation film.例文帳に追加

層間絶縁膜上の第１のマスク膜及び層間絶縁膜に、層間絶縁膜の厚さ方向の途中まで達するビアホールを形成する。 - 特許庁

FORMATION METHOD FOR INTERLAYER INSULATION FILM OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

半導体素子の層間絶縁膜の形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING LOW PERMITTIVITY INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜を形成する方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND APPARATUS OF INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

層間絶縁膜のドライエッチング方法及びその装置 - 特許庁

METHOD OF FORMING INTERLAYER INSULATION FILM, PRECURSOR SOLUTION FOR FORMING INTERLAYER INSULATION FILM, CVD MATERIAL FOR FORMING INTERLAYER INSULATION FILM, AND MATERIAL FOR FORMING SILOXANE OLIGOMER例文帳に追加

層間絶縁膜の形成方法、層間絶縁膜形成用の前駆体溶液、層間絶縁膜形成用のＣＶＤ原料、及びシロキサンオリゴマー形成用原料 - 特許庁

A first interlayer insulation film 13 is formed on a substrate 11, and conductor posts 14A, 14B are formed in the first interlayer insulation film 13.例文帳に追加

基板11上に第1層間絶縁膜13を形成し、第1層間絶縁膜13に導電体柱14A、14Bを形成する。 - 特許庁

PROCESS FOR PREPARING COATING COMPOSITION FOR MANUFACTURING INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

層間絶縁膜製造用の塗布組成物の製造法 - 特許庁

On the source interconnection 10, a second interlayer insulation film 12 and a third interlayer insulation film 14 are stacked.例文帳に追加

ソース配線１０上には、第２層間絶縁膜１２および第３層間絶縁膜１４が積層されている。 - 特許庁

A groove wiring portion insulation film 15 is formed on the top surface of the first interlayer insulation film 13.例文帳に追加

第1層間絶縁膜13の上面に溝配線部絶縁膜15を形成する。 - 特許庁

To provide an interlayer insulation diagnosis technique capable of discriminating between partial discharge in an interlayer insulation and partial discharge in an insulation to the ground, and diagnosing an insulation state.例文帳に追加

層間絶縁での部分放電と対地絶縁での部分放電とを区別して絶縁状態を診断することができる層間絶縁診断技術を提供することにある。 - 特許庁

To tightly make an interlayer insulation film stick to a substrate by STP method, without exfliating the insulation film.例文帳に追加

基板に層間絶縁膜を剥離させずにＳＴＰ法により密着させる。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING FILM AND MATERIAL FOR INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

膜形成用組成物および層間絶縁膜用材料 - 特許庁

An interlayer insulation film 3a covers the trimming element T.例文帳に追加

トリミング素子Ｔの上を層間絶縁膜３ａで被覆する。 - 特許庁

A trimming element T is formed on an interlayer insulation film 2.例文帳に追加

層間絶縁膜２上にトリミング素子Ｔを形成する。 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, USE THEREOF FOR INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS, AND INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、その層間絶縁膜およびマイクロレンズへの使用、並びに層間絶縁膜およびマイクロレンズ - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS, AND INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成方法ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズ - 特許庁

First interlayer wiring grooves 7 are formed in the insulation film 3.例文帳に追加

絶縁膜３に第１層配線用溝７を形成する。 - 特許庁

A third opening is formed on a cap film 7 and an interlayer insulation film 8 on the interlayer insulation film 4 and the wiring film 6, and a second opening is formed on an interlayer insulation film 9 on the interlayer insulation film 8 to contact the third opening 3.例文帳に追加

層間絶縁膜４及び配線膜６上のキャップ膜７及び層間絶縁膜８に第３の開口部が設けられ、層間絶縁膜８上の層間絶縁膜９に第３の開口部に接するように第２の開口部が設けられる。 - 特許庁

An insulation film is formed between an interlayer insulation film on TFTs and positive electrodes.例文帳に追加

また、ＴＦＴ上の層間絶縁膜と陽極との間に、絶縁膜を形成する。 - 特許庁

An interlayer insulation film 4 is formed on a silicon substrate 1 and then the interlayer insulation film 4 is etched and a contact hole 5 is made.例文帳に追加

シリコン基板１上に層間絶縁膜４を形成し、層間絶縁膜４をエッチングしてコンタクトホール５を形成する。 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ - 特許庁

INTERLAYER INSULATION ADHESIVE FOR MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD, AND COPPER FOIL例文帳に追加

多層プリント配線板用層間絶縁接着剤及び銅箔 - 特許庁

An interlayer insulation film 21 is formed on a substrate 1, and a polysilicon layer 10 is formed on the interlayer insulation film 21.例文帳に追加

基板１上に層間絶縁膜２１が形成されており、層間絶縁膜２１上にポリシリコン層１０が形成されている。 - 特許庁

Then, an anti-diffusion insulation film 107 and an interlayer insulation film 108 are sequentially deposited on the insulation film 102.例文帳に追加

次に、絶縁膜１０２の上に、拡散防止絶縁膜１０７及び層間絶縁膜１０８を順次堆積する。 - 特許庁

The cell contacts 9 are covered with the second interlayer insulation film 10.例文帳に追加

セルコンタクト９は第２の層間絶縁膜１０で覆われている。 - 特許庁

A wiring 106 is formed on the first interlayer insulation film.例文帳に追加

次に、第１の層間絶縁膜上に配線１０６を形成する。 - 特許庁

A first interlayer insulation film 2 is formed on an Si substrate 1.例文帳に追加

Ｓｉ基板１上に第１の層間絶縁膜２を形成する。 - 特許庁

INTERLAYER INSULATION FILM, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

層間絶縁膜およびその製造方法、ならびに半導体装置 - 特許庁

CURABLE RESIN COMPOSITION AND INTERLAYER INSULATION MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加

硬化性樹脂組成物およびそれを用いた層間絶縁材料 - 特許庁

To prevent the peeling of films and cracks in the interlayer insulation layer of multilayer wiring.例文帳に追加

多層配線の層間絶縁層の膜剥れや、クラックを防止する。 - 特許庁

On the first interlayer insulating film, a second interlayer insulating film consisting of an insulation material is formed.例文帳に追加

第１の層間絶縁膜の上に、絶縁材料からなる第２の層間絶縁膜が形成されている。 - 特許庁

On an insulation film 14 wherein plugs 16 are formed, an interlayer insulation film 17 consisting of a silicon-rich oxide film and an interlayer insulation film 18 consisting of TEOS film are formed.例文帳に追加

プラグ１６を形成した絶縁膜１４上にシリコンリッチな酸化膜よりなる層間絶縁膜１７およびＴＥＯＳ膜よりなる層間絶縁膜１８を形成する。 - 特許庁

The thin-film inductor 10 has a structure wherein an interlayer insulation film 16, a lower magnetic thin film 19, an interlayer insulation film 20, a first layer conductor pattern 22, an interlayer insulation film 26, a second layer conductor pattern 28, an interlayer insulation film 32 and an upper magnetic thin film 34 are stuck in sequence on a substrate 12.例文帳に追加

薄膜インダクタ１０は、基板１２上に、層間絶縁膜１６，下部磁性薄膜１８，層間絶縁膜２０，第１層導体パターン２２，層間絶縁膜２６，第２層導体パターン２８，層間絶縁膜３２，上部磁性薄膜３４が積層された構造となっている。 - 特許庁