「interlayer insulation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR INTERLAYER INSULATION FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE, INTERLAYER INSULATION FILM USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

半導体素子の層間絶縁膜用感光性樹脂組成物、それを用いた層間絶縁膜及び層間絶縁膜の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING INTERLAYER INSULATION FILM AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

層間絶縁膜の形成方法及び層間絶縁膜用感光性樹脂組成物 - 特許庁

In tandem with the film formation process, an interlayer insulation film is formed in an interlayer insulation process.例文帳に追加

成膜工程と相前後して、層間絶縁工程において層間絶縁膜を形成する。 - 特許庁

POLYIMIDE, POLYAMIC ACID, AND INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

ポリイミド、ポリアミック酸および層間絶縁膜 - 特許庁

METHOD FOR FORMING LOW PERMITTIVITY INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜を形成する方法 - 特許庁

First interlayer wiring grooves 7 are formed in the insulation film 3.例文帳に追加

絶縁膜３に第１層配線用溝７を形成する。 - 特許庁

ORGANIC MATERIAL FOR SEMICONDUCTOR INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

半導体層間絶縁膜用有機材料 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD AND APPARATUS OF INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

層間絶縁膜のドライエッチング方法及びその装置 - 特許庁

FORMATION METHOD FOR INTERLAYER INSULATION FILM OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

半導体素子の層間絶縁膜の形成方法 - 特許庁

INTERLAYER INSULATION FILM AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

層間絶縁膜及びその製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING INTERLAYER INSULATION FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体素子の層間絶縁膜形成方法 - 特許庁

CURING RESIN COMPOSITION AND INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

硬化性樹脂組成物および層間絶縁膜 - 特許庁

PROCESS FOR PREPARING COATING COMPOSITION FOR MANUFACTURING INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

層間絶縁膜製造用の塗布組成物の製造法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

層間絶縁膜のドライエッチング方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING FILM AND MATERIAL FOR INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

膜形成用組成物および層間絶縁膜用材料 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

層間絶縁膜用感光性樹脂組成物 - 特許庁

CURABLE RESIN COMPOSITION AND INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

硬化性樹脂組成物および層間絶縁膜 - 特許庁

On the first interlayer insulating film, a second interlayer insulating film consisting of an insulation material is formed.例文帳に追加

第１の層間絶縁膜の上に、絶縁材料からなる第２の層間絶縁膜が形成されている。 - 特許庁

The first interlayer insulation film 3 of a low dielectric constant is formed on a substrate insulation film 2, and a second interlayer insulation film 4 is formed on the first interlayer insulation film 3.例文帳に追加

下地絶縁膜２上に低誘電率の第１の層間絶縁膜３を形成し、第１の層間絶縁膜３上に第２の層間絶縁膜４を形成する。 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS, AND INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成方法ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズ - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, USE THEREOF FOR INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS, AND INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、その層間絶縁膜およびマイクロレンズへの使用、並びに層間絶縁膜およびマイクロレンズ - 特許庁

An interlayer insulation film 21 is formed on a substrate 1, and a polysilicon layer 10 is formed on the interlayer insulation film 21.例文帳に追加

基板１上に層間絶縁膜２１が形成されており、層間絶縁膜２１上にポリシリコン層１０が形成されている。 - 特許庁

An interlayer insulation film 22 is formed, while the polysilicon layer 10 is covered, and a polysilicon layer 11 is formed on the interlayer insulation film 22.例文帳に追加

ポリシリコン層１０を覆って層間絶縁膜２２が形成されており、層間絶縁膜２２上にポリシリコン層１１が形成されている。 - 特許庁

The gate electrode 6 is covered with an interlayer insulation film 7 and an Al source electrode 101 stretches to over the interlayer insulation film 7.例文帳に追加

ゲート電極６上は層間絶縁膜７によって覆われており、Ａｌのソース電極１０１は、層間絶縁膜７上に延在する。 - 特許庁

A second interlayer insulation film 107 is formed on the first interlayer insulation film to cover the wiring where the oxidation preventing film is formed at the surface.例文帳に追加

次に、表面に酸化防止膜が形成された配線を覆うように第１の層間絶縁膜上に第２の層間絶縁膜１０７を形成する。 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE COMPOSITION FOR FORMING INTERLAYER INSULATION FILM OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT, INTERLAYER INSULATION FILM FORMED THEREFROM AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

液晶表示素子の層間絶縁膜を形成するための感放射線性組成物、それから形成された層間絶縁膜、および液晶表示素子 - 特許庁

To etch an interlayer insulation film that is composed of organic film made mainly of organic constituent without oxidizing the interlayer insulation film.例文帳に追加

有機成分を主成分とする有機膜からなる層間絶縁膜に対して、層間絶縁膜を酸化させることなくエッチングできるようにする。 - 特許庁

The interlayer insulation film of the liquid crystal display element is formed from the radiation sensitive composition and the liquid crystal display element has the interlayer insulation film.例文帳に追加

液晶表示素子の層間絶縁膜は上記感放射線性組成物から形成され、液晶表示素子は上記創刊絶縁膜を具備する。 - 特許庁

An interlayer insulation film 4 is formed on a silicon substrate 1 and then the interlayer insulation film 4 is etched and a contact hole 5 is made.例文帳に追加

シリコン基板１上に層間絶縁膜４を形成し、層間絶縁膜４をエッチングしてコンタクトホール５を形成する。 - 特許庁

A first interlayer insulation film 13 is formed on a substrate 11, and conductor posts 14A, 14B are formed in the first interlayer insulation film 13.例文帳に追加

基板11上に第1層間絶縁膜13を形成し、第1層間絶縁膜13に導電体柱14A、14Bを形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming an interlayer insulation film in which a general-purpose developer can be used and a photosensitive resin composition for the interlayer insulation film.例文帳に追加

汎用の現像液を使用可能な層間絶縁膜を形成する方法及び層間絶縁膜用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Then the interlayer insulation film 23 is heated, so that the particles 24 are gasified and a plurality of cavities are formed in the interlayer insulation film 23a.例文帳に追加

次に、この層間絶縁膜２３を熱処理することにより、粒子２４を気化させ層間絶縁膜２３ａ中に複数の空孔２５を形成する。 - 特許庁

A plurality of pillar-shaped interlayer insulation films 13a in a hexagonal plane shape are gathered to form a third interlayer insulation film 13.例文帳に追加

第３層間絶縁膜１３は、平面形状が六角形である複数の柱状層間絶縁膜１３ａが集合して構成されている。 - 特許庁

To provide a technique which can mitigate a stress to be applied to an interlayer insulation film and decrease cracks to occur in the interlayer insulation film.例文帳に追加

層間絶縁膜に加わる応力を緩和することができ、層間絶縁膜に生じるクラックの発生を低減することができる技術を提供する。 - 特許庁

On the source interconnection 10, a second interlayer insulation film 12 and a third interlayer insulation film 14 are stacked.例文帳に追加

ソース配線１０上には、第２層間絶縁膜１２および第３層間絶縁膜１４が積層されている。 - 特許庁

A third interlayer insulation film 13 provided with a via hole 12 is formed on a second interlayer insulation film 9 to cover a third wiring layer 11.例文帳に追加

第２層間絶縁膜９上には、ビアホール１２を有する第３層間絶縁膜１３が第３配線層１１を被覆して形成されている。 - 特許庁

An interlayer insulation film and an insulation film are formed on the substrate 1 so as to cover the TFTs.例文帳に追加

そのＴＦＴを覆うように基板１上に層間絶縁膜および絶縁膜が形成される。 - 特許庁

An insulation film is formed between an interlayer insulation film on TFTs and positive electrodes.例文帳に追加

また、ＴＦＴ上の層間絶縁膜と陽極との間に、絶縁膜を形成する。 - 特許庁

The SRN film serves as a working stopper film when working an interlayer insulation film to expose the gate insulation film.例文帳に追加

SRN膜が層間絶縁膜を加工してゲート絶縁膜を露出する場合の加工のストッパ膜となる。 - 特許庁

A groove wiring portion insulation film 15 is formed on the top surface of the first interlayer insulation film 13.例文帳に追加

第1層間絶縁膜13の上面に溝配線部絶縁膜15を形成する。 - 特許庁

To tightly make an interlayer insulation film stick to a substrate by STP method, without exfliating the insulation film.例文帳に追加

基板に層間絶縁膜を剥離させずにＳＴＰ法により密着させる。 - 特許庁

INTERLAYER INSULATION ADHESIVE FOR MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD, AND COPPER FOIL例文帳に追加

多層プリント配線板用層間絶縁接着剤及び銅箔 - 特許庁

INTERLAYER INSULATION FILM FOR MULTILAYER WIRING AND PRODUCTION OF RESIN USED THEREFOR例文帳に追加

多層配線用層間絶縁膜及びそれに用いる樹脂の製造方法 - 特許庁

A first interlayer insulation film 2 is formed on an Si substrate 1.例文帳に追加

Ｓｉ基板１上に第１の層間絶縁膜２を形成する。 - 特許庁

A trimming element T is formed on an interlayer insulation film 2.例文帳に追加

層間絶縁膜２上にトリミング素子Ｔを形成する。 - 特許庁