「interlayer insulation」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

After a gate insulation film 12 and an interlayer insulation film 14 are formed by liquid phase method using a liquid material containing polysilazane, a hydrogen block film 15 for accelerating decomposition of moisture contained in the gate insulation film 12 and the interlayer insulation film 14 and blocking hydrogen produced through decomposition is formed on the interlayer insulation film 14 and then the gate insulation film 12 and the interlayer insulation film 14 are annealed.例文帳に追加

ポリシラザンを含む液体材料を用いて液相法によりゲート絶縁膜１２及び層間絶縁膜１４を順次形成した後、係る層間絶縁膜１４の上に、当該ゲート絶縁膜１２及び層間絶縁膜１４中に含まれる水分の分解を促し、且つ、該分解によって生じた水素をブロックする水素ブロック膜１５を形成し、その後、上記ゲート絶縁膜１２及び層間絶縁膜１４をアニールする。 - 特許庁

Then, the interlayer insulation film 11 is dry-etched (Figure 1B) to form a contact hole 12.例文帳に追加

次に、層間絶縁膜１１をドライエッチングし（図１Ｂ）、コンタクトホール１２を形成する。 - 特許庁

THERMOSETTING RESIN COMPOSITION, TRANSFER PRINTING MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

熱硬化性樹脂組成物、転写材料および層間絶縁膜の形成方法 - 特許庁

When a contact hole to the peripheral circuit is made after a second layer interlayer insulation film 67a is formed on the entire surface, the second layer interlayer insulation film on the dummy pattern is also removed by etching.例文帳に追加

２層目層間絶縁膜６７ａを全面に成膜後、周辺回路へコンタクトホールを形成する際に、ダミーパターン上の２層目層間絶縁膜もエッチング除去する。 - 特許庁

The metal fuse element 11 is formed on the arbitrary interlayer insulation film 10.例文帳に追加

この任意の層間絶縁膜１０上にメタルヒューズ素子１１が形成されている。 - 特許庁

The low specific permittivity interlayer insulation film 8 is formed with openings 17 and 20.例文帳に追加

低比誘電率層間絶縁膜８には、開口部１７，２０が形成されている。 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND FORMATION OF INTERLAYER INSULATION FILM AND MICROLENS例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成 - 特許庁

In the display device, an interlayer insulation film including a resin material is provided covering a TFT group and a pixel electrode is provided on the interlayer insulation film.例文帳に追加

表示装置においては、ＴＦＴ群を覆うように樹脂材料でなる層間絶縁膜が設けられ、前記層間絶縁膜上に画素電極が設けられている。 - 特許庁

An etch mask is formed on an interlayer insulation layer to define bit line trenches.例文帳に追加

エッチマスクは、ビット線トレンチを規定するために、層間絶縁層上に形成される。 - 特許庁

After depositing a non-selective film 4 on a capacitor-portion interlayer insulation film 3 by using the film 4 as a mask, the interlayer insulation film 3 is so processed as to have a three-dimensional structure of its cylindrical opening portions.例文帳に追加

この層間絶縁膜３上に非選択性膜４を堆積後、それをマスクとして層間絶縁膜を開口部が円筒形の立体構造に加工する。 - 特許庁

In the interlayer insulation film 5, an annular opening 5b is so formed as to surround part of the interlayer insulation film 5 located immediately above the undermetal 3 from the circumferential direction.例文帳に追加

層間絶縁膜５には、アンダーメタル３の直上に位置する層間絶縁膜５の部分を周方向から取囲むようにリング状開口部５ｂが形成されている。 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR INTERLAYER INSULATION OF MULTILAYER PRINTED WIRING BOARD, ADHESIVE FILM, AND PREPREG例文帳に追加

多層プリント配線板の層間絶縁用樹脂組成物、接着フィルム及びプリプレグ - 特許庁

After the formation of an interlayer insulation film 6, the interlayer insulation film 8 is etched by reactive ion etching with a resist pattern 8 as a mask so as to form the connection hole (Figure 1 (a)).例文帳に追加

層間絶縁膜６の形成後、接続孔を形成すべくレジストパターン８をマスクとして、反応性イオンエッチングにより層間絶縁膜８のエッチングを行なう（図１（ａ））。 - 特許庁

An interlayer insulation film 12 and an interlayer insulation film 13 of a next layer selectively etched partway are provided on a fuse cut region of the metal fuse element 11.例文帳に追加

メタルヒューズ素子１１のヒューズカット領域上は層間絶縁膜１２、そして途中まで選択的にエッチングされた次層の層間絶縁膜１３が設けられている。 - 特許庁

A second interlayer insulation layer 7, the pixel electrodes 9a and an alignment layer 16 are flatly formed compatibly with the upper surface of the first interlayer insulation layer 4 and no alignment defect is generated.例文帳に追加

第２層間絶縁膜（７）、画素電極（９ａ）、配向膜（１６）は、第１層間絶縁膜（４）上と整合的に平坦に形成され、配向不良が生じることはない。 - 特許庁

A glass substrate has about one- thousandth the capacitance of an interlayer insulation film.例文帳に追加

硝子基板の容量は層間絶縁膜の容量のおおよそ１／１０００である。 - 特許庁

The interlayer insulation layer 20 comprises a first insulation layer 30, a second insulation layer 50 formed on the first insulation layer 30, and an intermediate layer 40 formed between the first insulation layer 30 and the second insulation layer 50.例文帳に追加

層間絶縁層２０は、第１の絶縁層３０と、第１の絶縁層３０の上に設けられた第２の絶縁層５０と、第１の絶縁層３０と第２の絶縁層５０との間に設けられた中間層４０とを有する。 - 特許庁

An interlayer insulation film 16 is formed on an insulation film 12 for covering a semiconductor substrate 10 via a wiring layer 14.例文帳に追加

半導体基板１０を覆う絶縁膜１２の上に配線層１４を介して層間絶縁膜１６を形成する。 - 特許庁

Each of the product chips and the dummy chips includes a gate insulation film, a gate electrode, an interlayer insulation film and a contact hole.例文帳に追加

また、ダミーチップ及び製品チップそれぞれは、ゲート絶縁膜、ゲート電極、層間絶縁膜及びコンタクトホールを有している。 - 特許庁

Then, the unreacted titanium film 14 is removed, and an interlayer insulation film 16 is piled up on the entire surface of the insulation film 11.例文帳に追加

その後、未反応のチタン膜１４が除去され、絶縁膜１１の全面に層間絶縁膜１６が堆積される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having an interlayer insulation film, in which the adhesion on the boundary surface between an organic insulation film and an inorganic insulation film is improved.例文帳に追加

有機系絶縁膜と無機系絶縁膜との界面における接着性が向上された層間絶縁膜を有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for an interlayer dielectric having higher insulation.例文帳に追加

より高い絶縁性を有する層間絶縁膜用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

After forming a lower electrode, an interlayer insulation film is deposited and a via hole is bored.例文帳に追加

次に下部電極を形成後、層間絶縁膜を堆積してヴィアホールを形成する。 - 特許庁

On a ground board, a first interlayer insulating film consisting of an insulation material is formed.例文帳に追加

下地基板の上に、絶縁材料からなる第１の層間絶縁膜が形成されている。 - 特許庁

An etching rejection film 20 and an interlayer insulation film 21 are formed in this sequence on the entire part.例文帳に追加

エッチング阻止膜２０及び層間絶縁膜２１をこの順で全面に形成する。 - 特許庁

The interlayer insulation film in the fuse region is removed by etching and the stopper film is exposed.例文帳に追加

ヒューズ領域の層間絶縁膜をエッチングにより除去して、ストッパ膜を露出する。 - 特許庁

The composition is suitable for forming an interlayer insulation film or a microlens.例文帳に追加

層間絶縁膜およびマイクロレンズは、上記感放射線性樹脂組成物より形成される。 - 特許庁

The interlayer insulation film is etched to the midway in the direction of the thickness so as to form a wiring groove.例文帳に追加

層間絶縁膜を厚さ方向の途中までエッチングして配線溝を形成する。 - 特許庁

Film thickness variation of the interlayer insulation film 100 caused by the heat treatment is 2.3% and under.例文帳に追加

層間絶縁膜１００は、熱処理による膜厚変動率が２．３％以下である。 - 特許庁

SCREEN PLATE, INTERLAYER INSULATION FILM, CIRCUIT BOARD, ACTIVE MATRIX CIRCUIT BOARD AND IMAGE DISPLAY APPARATUS例文帳に追加

スクリーン版、層間絶縁膜、回路基板、アクティブマトリックス回路基板及び画像表示装置 - 特許庁

In addition, an ozone TEOS film is used as an interlayer insulation film 16 on the capacitive element 15.例文帳に追加

また、容量素子１５上の層間絶縁膜１６にオゾンＴＥＯＳ膜を用いる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for an interlayer insulation film having excellent heat resistance.例文帳に追加

優れた耐熱性を備えた層間絶縁膜用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a screen plate for forming an interlayer insulation film which has fine openings.例文帳に追加

微細な開口を有する層間絶縁膜を形成するためのスクリーン版を提供する。 - 特許庁

Subsequenly, the first interlayer insulation film 140 is etched using a resist film 150 (resist mask).例文帳に追加

次に、レジスト膜１５０（レジストマスク）を利用して第１層間絶縁膜１４０をエッチングする。 - 特許庁

The interlayer insulation film is provided at least between the touch panel and the TFT group.例文帳に追加

前記層間絶縁膜は、少なくともタッチパネルとＴＦＴ群との間に設けられる。 - 特許庁

There are also provided the substrate, prepreg, and resin-clad copper foil having the interlayer insulation material using this composition.例文帳に追加

該組成物を用いた層間絶縁材料を有する基板、プリプレグ、樹脂付き銅箔。 - 特許庁

A dual damascene profile is processed on an interlayer insulation film 11 on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上の層間絶縁膜１１上にデュアルダマシン形状を加工する。 - 特許庁

RESIN COMPOUND FOR INTERLAYER INSULATION FILM OF MULTILAYER CIRCUIT BOARD MANUFACTURED BY BUILDUP METHOD例文帳に追加

ビルドアップ工法で製造される多層回路基板の層間絶縁層用樹脂組成物 - 特許庁

A wiring groove A and a connection hole B are formed as a groove pattern in the interlayer insulation film.例文帳に追加

この層間絶縁膜に溝パターンとして配線溝Ａと接続孔Ｂとを形成する。 - 特許庁

An interlayer insulation film 10 of a wiring in a semiconductor integrated circuit is formed.例文帳に追加

半導体集積回路における配線の層間絶縁膜１０が形成されている。 - 特許庁

After the interlayer insulation film with unevenness is formed, a pixel electrode is formed thereon.例文帳に追加

凹凸を有する層間絶縁膜が形成されたら、その上に画素電極を形成する。 - 特許庁

The cooling path 3 is formed such that it circulates through the interior portion of the interlayer insulation film 2.例文帳に追加

冷却路３は、層間絶縁膜２の内部を循環するように形成されている。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition having high radiation sensitivity and good developability and suitable for forming an interlayer insulation film of a liquid crystal display element having high heat-resistance and transparency and excellent solvent resistance, and provide an interlayer insulation film of a liquid crystal display element formed from the radiation sensitive composition and a liquid crystal display element having the interlayer insulation film.例文帳に追加

高い感放射線性と良好な現像性を有し、高い耐熱性および高い透明性を有するとともに、耐溶剤性に優れた液晶表示素子の層間絶縁膜の形成に適する感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

Since contact photo etching is conducted by using such a mask as to make an interlayer insulation film for protection in the chip corner section, excessive etching never goes beyond the interlayer insulation film for protection and thereby a predetermined area is obtained for the interlayer insulation film in the actual operation region.例文帳に追加

本発明では、チップコーナー部に保護用の層間絶縁膜が設けられるようなマスクを用いてコンタクトフォトエッチが行われるので、過剰エッチングは保護用層間絶縁膜で止まり、実動作領域の層間絶縁膜は所定の面積を確保できる。 - 特許庁

A second interlayer insulation film 4 is formed so as to cover the first conductive layer 3.例文帳に追加

第１の導電層３を覆うように第２の層間絶縁膜４を形成する。 - 特許庁