interlayerを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 6425件
ELECTRONIC COMPONENT BUILT-IN MODULE, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC COMPONENT BUILT-IN MODULE, AND INTERLAYER INSULATION SHEET FOR ELECTRONIC COMPONENT BUILT-IN MODULE例文帳に追加
電子部品内蔵モジュール、電子部品内蔵モジュールの製造方法及び電子部品内蔵モジュール用層間絶縁シート - 特許庁
On a film 2 to be etched, there are formed in order a lower layer resist 3, an interlayer 4 containing silicon, and an upper layer resist 5.例文帳に追加
被エッチング膜２上に、下層レジスト３、シリコンを含む中間層４および上層レジスト５が順に形成される。 - 特許庁
This is to form on one side of a carrier metal foil a columnar pattern that will become an interlayer connection part through electroplating in a later step.例文帳に追加
キャリヤー金属箔の片面に電気めっきにより後工程で層間接続部となる柱状パターンを形成する。 - 特許庁
To provide an interlayer connecting structure in which sufficient conductivity and productivity are compatible and a method for manufacturing the same.例文帳に追加
十分な導電性と生産性とを両立した層間接続構造を，その製造方法とともに提供すること。 - 特許庁
To improve burying properties of an interlayer insulating film and a metal film in a space between memory cells while making the space narrower.例文帳に追加
メモリセル間の間隔を狭めつつ、この間隔に対する層間絶縁膜や金属膜の埋め込み性を改善すること。 - 特許庁
In the case of the DVD of the single-layer, since the recording layer is one-layer, and there is not interlayer, a count value becomes a small value.例文帳に追加
単層のＤＶＤの場合、記録層が１層であり層間が存在しないため、カウント値は小さな値となる。 - 特許庁
The printed boards 10 and interlayer members 20 are stacked to produce a high density thin semiconductor module 1.例文帳に追加
このプリント基板１０と層間部材２０とを積層させることにより、薄型で高密度の半導モジュール１を製造する。 - 特許庁
A barrier insulating film 56 and an interlayer insulating film 57 are deposited to overly a fourth interconnect line 54 and a fuse 55.例文帳に追加
第４層配線５４およびヒューズ５５の上層にバリア絶縁膜５６と層間絶縁膜５７とを堆積する。 - 特許庁
An interlayer insulating film 9 and a polycrystalline Si film 10 are successively formed on an Si substrate 1 where a transistor is formed.例文帳に追加
トランジスタが形成されたＳｉ基板１上に層間絶縁膜９、多結晶Ｓｉ膜１０を順次形成する。 - 特許庁
INTERLAYER INSULATING FILM, DIFFUSION PREVENTING FILM AND SOURCE MATERIAL THEREOF, FILM FORMING METHOD AND PLASMA CVD DEVICE FOR FORMING FILM例文帳に追加
層間絶縁膜及び拡散防止膜とこれらのソース材料、膜形成方法、膜形成用プラズマＣＶＤ装置 - 特許庁
A wiring groove is formed on the first interlayer insulator film 22 using the oxide film 26B with the thinned thickness as a hard mask.例文帳に追加
膜厚が薄くなった酸化膜２６Ｂをハードマスクとして第１層間絶縁膜１４に配線溝を形成する。 - 特許庁
The wiring conductor layers 5, 6 and the heater electrode layer 4 are interlayer-connected by first through holes 11a, 11b.例文帳に追加
第１のスルーホール１１ａ，１１ｂにより、引き回し用導体層５，６とヒータ電極層４とを層間接続する。 - 特許庁
The L-shaped sidewall 14 is formed of an insulating material having a smaller etching rate than the interlayer insulating film 22.例文帳に追加
Ｌ字サイドウォール１４は、層間絶縁膜２２と比べてエッチングレートが小さい絶縁材料により形成されている。 - 特許庁
To provide a cover lay film which has superior adhesion with an interlayer adhesive layer, and a composite board using the film.例文帳に追加
層間接着剤層との密着性にすぐれたカバーレイフィルムおよびそれを用いた複合配線板を提供する。 - 特許庁
On a semiconductor layer 10 where the non-volatile memory transistor 100 is formed, an interlayer insulating layer 40 is provided.例文帳に追加
不揮発性メモリトランジスタ１００が形成された半導体層１０の上に、層間絶縁層４０が設けられている。 - 特許庁
After depositing an interlayer insulating film 215 on the whole surface, an opening is made on the gate electrode lower layer 207.例文帳に追加
全面に層間絶縁膜２１５を堆積した後、ゲート電極下層部２０７上に開口部２１９を形成する。 - 特許庁
A transparent electrode 1 is arranged on the upper face of the pixel transistor 30 while two interlayer insulating films 2, 4 are interposed.例文帳に追加
画素トランジスタ３０の上面には、２層の層間絶縁膜２、４を介して透明電極１が設けられている。 - 特許庁
RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, INTERLAYER INSULATING FILM, PROTECTIVE FILM AND SPACER OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT, AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加
感放射線性樹脂組成物、液晶表示素子の層間絶縁膜、保護膜及びスペーサーとその形成方法 - 特許庁
Therein, on the outer region in a display region 5 in the fourth interlayer insulation film 44, recess parts 441 are formed.例文帳に追加
ここで、第四層間絶縁膜４４のうち、表示領域５の外部の領域には、窪み４４１が形成されている。 - 特許庁
To provide an interlayer connection structure which realizes both sufficient conductivity and productivity, together with its manufacturing method.例文帳に追加
十分な導電性と生産性とを両立した層間接続構造を，その製造方法とともに提供すること。 - 特許庁
An intermediate medium layer 3 as a flattening layer is formed on an interlayer insulation film 12 over a TFT 140.例文帳に追加
ＴＦＴ１４０の上方で層間絶縁膜１２上に平坦化層としての中間媒質層３が形成される。 - 特許庁
An interlayer insulating film 13 composed of a SiOC-based film such as MSQ is formed on a semiconductor substrate 12.例文帳に追加
半導体基板１２上に、ＭＳＱ等のＳｉＯＣ系膜から構成される層間絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁
To obtain a semiconductor device of a damascene structure, having highly reliable interlayer connection holes and the manufacturing method of the device.例文帳に追加
高信頼性の層間接続孔を有するダマシーン構造の半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
On the interlayer film, a gate connection line 37 is formed which electrically connects the end surface of the semiconductor layer 31 and the outside gate electrode 22.例文帳に追加
層間膜上に、ゲート電極33と外部のゲート線22とを電気的に接続するゲート連絡線37を形成する。 - 特許庁
The resistance varying material 4 is disposed in contact with the second surface and is partially made in contact with the interlayer dielectric.例文帳に追加
抵抗変化材４は、第２面と接するように配置され、且つその一部が層間絶縁膜と接触している。 - 特許庁
An interlayer dielectric is formed on the resistance film, and then, the resistance film is annealed at 750-1,100°C.例文帳に追加
そして、前記抵抗膜上に層間絶縁膜を形成し、その後、前記抵抗膜を７５０乃至１１００℃で焼鈍する。 - 特許庁
The contact holes are formed and the scattering structure on a surface of the interlayer film is obtained by one sheet of the photomask in this manner.例文帳に追加
これにより一枚のフォトマスクでコンタクトホール形成と層間膜表面に凹凸を有する散乱構造とができる。 - 特許庁
To provide a multilayer wiring board and its manufacturing method that are highly effective in heat dissipation and facilitate interlayer connection between wiring layers.例文帳に追加
放熱効果が高く、各配線層の層間接続も容易な多層配線板とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To simply and reliably achieve interlayer connection in a substrate with a built-in electronic component incorporating a semiconductor bare chip IC.例文帳に追加
半導体ベアチップＩＣを内蔵する電子部品内蔵基板の層間接続を簡易かつ高信頼性化を図る。 - 特許庁
Thus, a connection hole 17 is formed in the interlayer insulation film 16, and an aluminum film 18 is buried in the connection hole 17.例文帳に追加
この層間絶縁膜１６に接続孔１７が形成され、接続孔１７にアルミニウム膜１８が埋め込まれる。 - 特許庁
An opening 22 (first opening), an opening 24 (second opening) and an opening 26 are formed in the interlayer insulating film 20.例文帳に追加
層間絶縁膜２０には、開口２２（第１の開口）、開口２４（第２の開口）および開口２６が形成されている。 - 特許庁
The embedded recessed part 122A is formed by removing the interlayer insulating film 120 as a groove along one horizontal line.例文帳に追加
埋設凹部１２２Ａは１水平ラインに沿って溝状に層間絶縁膜１２０を除去することにより形成する。 - 特許庁
To eliminate a process for flattening an interlayer insulating film of a semiconductor device having an STI structure and its manufacturing method.例文帳に追加
ＳＴＩ構造を備えた半導体装置及びその製造方法において層間絶縁膜の平坦化工程をなくす。 - 特許庁
To provide a printed wiring board which is not warped even if an interlayer insulation layer with no core material is laminated on a core substrate.例文帳に追加
芯材を備えない層間絶縁層をコア基板に積層しても反りの生じないプリント配線板を提供する。 - 特許庁
To provide a multilayer build-up wiring board which is possessed of a plane layer and an interlayer insulating layer that is hardly deteriorated in insulating properties.例文帳に追加
プレーン層を有し、層間樹脂絶縁層の絶縁劣化の生じない多層ビルドアップ配線板を提供する。 - 特許庁
CAPABILITY CONTROL METHOD FOR THERMOPLASTIC RESIN MULTILAYER SHEET, THERMOPLASTIC RESIN MULTILAYER SHEET, INTERLAYER FOR LAMINATED GLASS, AND LAMINATED GLASS例文帳に追加
熱可塑性樹脂多層シートの性能制御方法、熱可塑性樹脂多層シート、合わせガラス用中間膜および合わせガラス - 特許庁
The organic film is one of an interlayer dielectric for a semiconductor, a protective coat for a semiconductor and an etching-protecting film.例文帳に追加
本発明の有機膜は、半導体用層間絶縁膜、半導体用保護膜およびエッチング保護膜のいずれかである。 - 特許庁
To provide a metallic tone decorative sheet which is high in metal tone designability and excellent in weatherability and interlayer adhesion.例文帳に追加
金属調の高意匠性を有し、耐候性や層間密着性に優れた、金属調化粧シートを提供すること。 - 特許庁
A recess 13 is formed on the interlayer insulating film 12 to expose the Si substrate 1 by removing the dummy gate electrode 3.例文帳に追加
ダミーゲート電極３を除去することで、層間絶縁膜１２にＳｉ基板１を露出する凹部１３を形成する。 - 特許庁
Moreover, between the storage capacitor 55 and the pixel electrode 9a is provided an interlayer insulation film 44 with light-transmitting property.例文帳に追加
また、蓄積容量５５と画素電極９ａとの間に透光性の層間絶縁膜４４が設けられている。 - 特許庁
The electronic component has a layer of a pattern as an interlayer insulation film layer or a surface protective film layer in an electronic device.例文帳に追加
電子部品は、電子デバイス中にパターンの層を層間絶縁膜層又は表面保護膜層等として有する。 - 特許庁
The intra-film fixed charge density of the interlayer silicon nitride film 26 becomes larger than the intra-film fixed charge density of the gate silicon nitride film 16.例文帳に追加
層間窒化シリコン膜26の膜中固定電荷密度がゲート窒化シリコン膜16の膜中固定電荷密度より高くなる。 - 特許庁
The interlayer insulating film 8 is easier to be etched than the gate protective films 6m and 6n to predetermined etching condition.例文帳に追加
層間絶縁膜８は、所定のエッチング条件に対してゲート保護膜６ｍおよび６ｎよりエッチングされやすい。 - 特許庁
An interlayer resin layer is formed on the part of the primary first-layer wire where the secondary first-layer wire is divided.例文帳に追加
第一の一層目配線における、第二の一層目配線を分断している部分上に、層間樹脂層を形成する。 - 特許庁
The interlayer 4 beneath an isolated upper layer region 6a is isotropically etched until isolated from a base layer 2.例文帳に追加
遊離上層領域６ａ直下の中間層４を等方性エッチングし、ベース層２と分離するに至るまでエッチングする。 - 特許庁
On the interlayer insulating film 1 and wirings 4a and 4b, a film 5 for barrier formation formed of SiO_2 is laminated.例文帳に追加
層間絶縁膜１および配線４ａ、４ｂ上には、ＳｉＯ_2からなるバリア形成用膜５が積層されている。 - 特許庁
The interlayer insulating film 132 is formed of an O_3-TEOS oxide film, with, for instance, a thin nitride film (SiN) in between.例文帳に追加
層間絶縁膜１３２は、例えば薄い窒化膜（ＳｉＮ）を介してＯ_３-ＴＥＯＳ酸化膜が形成されている。 - 特許庁
First, a first interlayer insulating structure is formed with a non-transparent film on a substrate with photodiode formed thereon.例文帳に追加
まず、フォトダイオードが形成されている基板上に不透明膜を有する第１層間絶縁構造物を形成する。 - 特許庁
Then, an interlayer insulating film 21 in which stress does not substantially occur is formed on the whole surface of a semiconductor substrate 11.例文帳に追加
その後、半導体基板１１上の全面に、実質的に応力が生じない層間絶縁膜２１を形成する。 - 特許庁
To build an electronic component in a wiring board using a simple process, and to have the electronic component interlayer-connect by the simple process.例文帳に追加
簡単な工程で配線基板内部に電子部品を内蔵させ且つ単純な工程で層間接続させる。 - 特許庁
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