「light-exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

RADIAL DYNAMIC-PRESSURE AIR BEARING, LIGHT DEFLECTOR AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

ラジアル動圧空気軸受、光偏向器及び露光装置 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR EUV LIGHT PROJECTION EXPOSURE例文帳に追加

ＥＵＶ光投影露光装置及び方法 - 特許庁

LIGHT QUANTITY CORRECTION METHOD FOR EXPOSURE HEAD AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

露光ヘッドの光量補正方法、画像形成装置 - 特許庁

EXPOSURE SURFACE AND LIGHT RECEIVING SURFACE ADJUSTMENT MECHANISM FOR CAMERA例文帳に追加

カメラの露光面および受光面調整機構 - 特許庁

To enable adjustment of the optical characteristics of exposure light to a photosensitive board in correspondence to the light quantity ratio between beams of exposure light emitted from a plurality of light sources.例文帳に追加

複数の光源が発する各露光光の光量比に対応して感光性基板に対する露光光の光学特性を調整できること。 - 特許庁

A pre-exposure light L2 is emitted from the panel light source, and a pre-exposure light L3 is emitted from the sub-panel light source 25.例文帳に追加

パネル光源から前露光光Ｌ２を、サブパネル光源２５から前露光光Ｌ３を射出させる。 - 特許庁

To provide a light detection device that facilitates measuring light such as exposure light, to provide a light source device and an exposure apparatus, and to provide a device manufacturing method.例文帳に追加

露光光のような光を容易に計測することができる光検出装置、光源装置、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent insufficient exposure light or duplicated exposure near the boundary of an exposure region when the light irradiating a mask is partly cut to restrict the exposure area in the exposure of a substrate by using a proximity method.例文帳に追加

プロキシミティ方式を用いた基板の露光において、マスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止する。 - 特許庁

The exposure light source includes light-emitting pixels arranged in a direction intersecting the X axis.例文帳に追加

露光光源は、Ｘ軸に交差する方向に配列する発光画素を含む。 - 特許庁

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE DEVICE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE例文帳に追加

極端紫外光露光装置および極端紫外光光源装置 - 特許庁

To constitute an exposure unit which can stably make a laser light source emit light.例文帳に追加

レーザ光源を安定的に発光させ得る露光ユニットを構成する。 - 特許庁

The exposure apparatus 1 irradiates a substrate 19 with light 13 from a light source 11.例文帳に追加

露光装置１は光源１１からの光１３を、基板１９に照射する。 - 特許庁

LIGHT CONDENSING ELEMENT, LIGHT CONDENSING ELEMENT ARRAY, EXPOSURE DEVICE, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

集光素子、集光素子アレイ、露光装置及び画像形成装置 - 特許庁

LIGHT QUANTITY CONTROLLER, EXPOSURE APPARATUS, IMAGE FORMER, AND LIGHT QUANTITY CONTROL METHOD例文帳に追加

光量制御装置、露光装置、画像形成装置及び光量制御方法 - 特許庁

The light-shielding film is formed on the substrate and shields the exposure light beam.例文帳に追加

遮光膜は、基板上に形成され、露光光線を遮光する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT ARRAY CHIP, ITS FABRICATION PROCESS, AND EXPOSURE LIGHT SOURCE DEVICE,例文帳に追加

半導体発光素子アレイチップ、その製造方法、及び露光光源装置 - 特許庁

LIGHT SOURCE DRIVING METHOD, LIGHT SOURCE DRIVING DEVICE, AND IMAGE EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

光源駆動方法、光源駆動装置及び画像露光装置 - 特許庁

QUANTITY OF LIGHT CORRECTING DEVICE, QUANTITY OF LIGHT CORRECTION METHOD, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

光量補正装置、光量補正方法、及び露光装置 - 特許庁

A light reception control part 4 controls an exposure time of the light receiving element 31.例文帳に追加

受光制御部４は、受光素子３１の露光時間を制御する。 - 特許庁

LIGHT-EMITTING ELEMENT, LIGHT-EMITTING ELEMENT MANUFACTURING METHOD, EXPOSURE HEAD, AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

発光素子、発光素子製造方法、露光ヘッド及び画像形成装置 - 特許庁

The light-shielding film is formed on the substrate and shields the exposure light beam.例文帳に追加

遮光膜は、基板上に形成され、露光光線を遮光するものである。 - 特許庁

LIGHT DETECTION DEVICE, LIGHT SOURCE DEVICE, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

光検出装置、光源装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

CURVED SURFACE MANUFACTURING METHOD USING LIGHT SOURCE ARRAY AS EXPOSURE LIGHT SOURCE例文帳に追加

露光光源として光源アレイを用いた曲面製造方法 - 特許庁

LIGHT SOURCE PROVIDED WITH COOLING MECHANISM, LIGHT SOURCE DEVICE AND EXPOSURE DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

冷却機構を有する光源、光源装置及びこれを用いた露光装置 - 特許庁

REFLECTING MIRROR HOLDING DEVICE FOR LIGHT SOURCE, LIGHT SOURCE DEVICE, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

光源用反射鏡保持装置、光源装置及び露光装置 - 特許庁

To provide a light source device for light exposure wherein the necessity to make a new correcting lens or a douser at respective kinds of color picture tube is reduced to the minimum in a light exposure device used for forming a fluorescent light face of a color picture tube, and in the light source device for the light exposure to form irradiated light of this light exposure device.例文帳に追加

カラー受像管の蛍光面形成に用いられる露光装置、及びこの露光装置の照射光を形成する露光用光源装置において、カラー受像管の種類毎に新たな補正レンズ、或いは遮光板を作成する必要を最小限にした露光用光源装置を提供する。 - 特許庁

The irradiation with the exposure light in the exposure process is performed by arranging louvers between the exposure light source of the exposure light and the lenticular lens of the light transparent substrate in such a manner that the diffusion angle of the exposure light attains ≥±2 to ≤15°.例文帳に追加

本発明においては、露光工程における露光光線の照射を、露光光線の露光光源と光透過性基板のレンチキュラーレンズとの間に、露光光線の拡散角が±２°以上±１５°以下となるようにルーバーを配置して行う。 - 特許庁

METHOD FOR EXPOSURE PROCESSING USING SHORT WAVELENGTH LASER LIGHT AND METHOD FOR STORING PELLICLE FOR SHORT WAVELENGTH EXPOSURE例文帳に追加

短波長レーザー光を用いた露光処理方法および短波長露光用ペリクルの保管方法 - 特許庁

The color filter is manufactured by the slit exposure obtaining the exposure of the pulse light, using the photomask.例文帳に追加

このフォトマスクを用いパルス光の露光を与えるスリット露光でカラーフィルタを製造する。 - 特許庁

The exposure system includes a light energy servo connected to a management module of exposure parameters.例文帳に追加

露光システムは、露光パラメータの管理モジュールに接続された光エネルギ源のサーボを含む。 - 特許庁

The resist film 102 is selectively irradiated with exposure light 104 to perform pattern exposure.例文帳に追加

続いて、レジスト膜１０２に露光光１０４を選択的に照射することによりパターン露光を行なう。 - 特許庁

IMAGE EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR SETTING LIGHT DETECTION SENSITIVITY FOR PHOTOMETRY OF EXPOSURE HEAD例文帳に追加

画像露光装置及び露光ヘッド測光のための光検出感度設定方法 - 特許庁

In the exposure method, a plurality of shot regions of a substrate are sequentially exposed to exposure light via liquid.例文帳に追加

露光方法は、液体を介して基板の複数のショット領域を露光光で順次露光する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR EXPOSURE DEVICE, METHOD OF OBSERVING EXPOSURE LIGHT POLARIZATION STATE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体露光装置、露光光偏光状態観測方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

To stabilize the illuminance of exposure light in a short time and to rapidly start an exposure process.例文帳に追加

露光光の照度を短時間で安定させ、露光処理を迅速に開始する。 - 特許庁

ILLUMINATION METHOD GENERATING PROXIMITY FIELD LIGHT, PROXIMITY FIELD EXPOSURE METHOD, AND PROXIMITY FIELD EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

近接場光を発生させる照明方法、近接場露光方法、および近接場露光装置 - 特許庁

EXPOSURE APPARATUS AND QUANTITY OF LIGHT CORRECTION METHOD OF EXPOSURE APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

露光装置及び露光装置の光量補正方法並びに画像形成装置 - 特許庁

EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, LIGHT CONVERGING PATTERN FORMATION MEMBER, MASK, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

露光方法、露光装置、集光パターン形成部材、マスク、及びデバイス製造方法 - 特許庁

The liquid recovery system is used for immersion exposure wherein a substrate is exposed to exposure light through a liquid.例文帳に追加

液体回収システムは、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光に用いられる。 - 特許庁

To achieve high overlay accuracy regardless of high-intensity exposure light or long-lasting exposure.例文帳に追加

露光光の強度が大きいか又は露光時間が長い場合にも高い重ね合わせ精度を得る。 - 特許庁

The exposure apparatus exposes the substrate by irradiating the substrate with an exposure light through the liquid.例文帳に追加

露光装置は、液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光する。 - 特許庁

EVALUATION METHOD AND ADJUSTING METHOD OF LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION, LIGHTING OPTICAL DEVICE, EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

光強度分布の評価方法、調整方法、照明光学装置、露光装置、および露光方法 - 特許庁

To provide an exposure device capable of preventing leakage of liquid filled in an optical path space of exposure light.例文帳に追加

露光光の光路空間に満たされた液体の漏出を防止できる露光装置を提供する。 - 特許庁

EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE LIGHT-IRRADIATING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PANEL SUBSTRATE FOR DISPLAY例文帳に追加

露光装置、露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - 特許庁

The resist film 11 is irradiated with exposure light 12 through a mask 13 for pattern exposure.例文帳に追加

レジスト膜１１に対して露光光１２をマスク１３を介して照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁