「light-exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The resist film 102 is irradiated with an exposure light comprising extreme ultraviolet light in a selective manner to achieve pattern exposure.例文帳に追加

次に、レジスト膜１０２に極紫外線からなる露光光を選択的に照射してパターン露光を行う。 - 特許庁

To achieve good exposure by making a light emitting element provided on an exposure head emit light at a good timing.例文帳に追加

露光ヘッドに配設された発光素子を良好なタイミングで発光させて良好な露光を実現可能とする。 - 特許庁

The shutter member 23 positions a light shielding region 23B on the optical path and shuts off the illumination light during the stop of the exposure of the exposure unit 20_01.例文帳に追加

露光ユニット２０_01の露光停止時には、シャッタ部材２３は遮光領域２３Ｂを光路上に位置決めして照明光を遮断する。 - 特許庁

MASK FOR EVANESCENT LIGHT EXPOSURE, EVANESCENT LIGHT EXPOSURE DEVICE, PRODUCTION OF DEVICE AND PRODUCTION OF THE MASK例文帳に追加

エバネッセント光露光用マスク、エバネッセント光露光装置、デバイスの製造方法および前記エバネッセント光露光用マスクの製造方法 - 特許庁

To provide an exposure device capable of suppressing exposure unevenness being generated on an object to be exposed when coherent light is used as a light source.例文帳に追加

コヒーレント光を光源とした場合、被露光体上に発生する露光ムラを抑制することのできる露光装置を提供する。 - 特許庁

EVALUATION METHOD OF LIGHT SOURCE, ADJUSTMENT METHOD OF LIGHT SOURCE, EXPOSURE METHOD, MANUFACTURING METHOD OF DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

照明光源評価方法、照明光源調整方法、露光方法、デバイス製造方法、露光装置、及びリソグラフィシステム - 特許庁

To provide an illumination light source comprising a solid light source, an exposure device, and an exposure method employing it.例文帳に追加

固体光源を備えた照明光源装置、露光装置及びこの露光装置を用いた露光方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure device not required to immediately exchange a light source even if the performance of the light source lowers and to provide an exposure method.例文帳に追加

光源の性能が低下しても直ちに光源を交換する必要のない露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

Thereby, after the photosensitive film 23 is exposed to the exposure light, the light is absorbed by the film 22 before reaching the objective surface 21a, which prevents the exposure fog.例文帳に追加

これにより、露光光は感光膜２３を感光後、被加工面２１ａへ到達する前に皮膜２２により吸収され、露光かぶりが防止される。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of effecting a high-accuracy digital exposure with high light-use efficiency through the use of near-field light.例文帳に追加

近接場光を用いて、高い光利用効率で、高精度にデジタル露光を行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEALING BODY, METHOD OF MANUFACTURING LIGHT EMITTING DEVICE USING THE SAME, SEALING BODY, LIGHT EMITTING DEVICE, EXPOSURE DEVICE AND IMAGE FORMING DEVICE USING THE EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

封止体の製造方法、これを用いた発光装置の製造方法、封止体、発光装置、露光装置およびこれを用いた画像形成装置 - 特許庁

When the printing light rays are reflected by a small-sized scanning mirror 20, the light rays exposure the instant film 8 facing an exposure opening 13 to a linear form.例文帳に追加

このプリント光は小型の走査ミラー２０で反射されると、露光開口１３に対面したインスタントフイルム８をライン状に露光させる。 - 特許庁

To identify a flash light exposure area and a non flash light exposure area at the time of flash (or strobe) photographing.例文帳に追加

フラッシュ（あるいはストロボ）撮影時にフラッシュ光照射領域と非照射領域を識別する。 - 特許庁

An intercepting unit S intercepts the exposure light directed from the optical element toward the substrate 112 when the optical element is preheated with the exposure light.例文帳に追加

露光光により光学素子を予備加熱する際に、光学素子から基板１１２へ向かう露光光を遮光する遮光装置Ｓを備える。 - 特許庁

To provide an edge exposure device which is capable of exposing the edge of a substrate to light having a uniform distribution of light intensity so as to carry out superior edge exposure.例文帳に追加

基板の端縁部を均一な光強度分布で露光して良好なエッジ露光処理を実施することができるエッジ露光装置を提供する。 - 特許庁

In flash light non-emission, exposure times are made different but in the flash light emission, the exposure times of two kinds of pixels are made identical.例文帳に追加

フラシュ非発光の場合は、露光時間を異ならせ、フラッシュ発光時には、２種類の画素の露光時間を同一とする。 - 特許庁

To provide an image pickup unit, by which appropriate exposure control is performed for an image in rear light and excessive follow light, with respect to the automatic exposure control of the image pickup unit.例文帳に追加

撮像装置の自動露光制御に関し、逆光、過順光画像に対し適切な露光制御を行う撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a scanning exposure apparatus which has small unevenness of exposure even when a scanning speed and the light intensity distribution of pulse light deviate.例文帳に追加

走査速度、パルス光の光強度分布にずれがあっても露光斑の少ない走査露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that allows an optical path space of exposure light to be filled with a liquid in a desired state even when a substrate is exposed to light while being moved.例文帳に追加

基板を移動しつつ露光するときにも、露光光の光路空間を液体で所望状態に満たすことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

Since introduction of light other than exposure light to a mask can be suppressed, high precision exposure can be attained.例文帳に追加

これにより、露光光以外の光がマスクに導かれることを抑制でき、高精度な露光が可能となる。 - 特許庁

To provide a technique that is capable of achieving a good exposure by making a light emitting element in an exposure head emit light at a good timing.例文帳に追加

露光ヘッドが有する発光素子を良好なタイミングで発光させて良好な露光を実現可能とする技術の提供を目的とする。 - 特許庁

a numerical value indicating quantity of light when taking photographs with a certain exposure 例文帳に追加

写真で,ある露出条件で撮影する際の光量を示す数値 - EDR日英対訳辞書

an invisible image, produced on a sensitized emulsion by exposure to light 例文帳に追加

未現像の写真感光層上に生じている,目に見えない像 - EDR日英対訳辞書

To efficiently increase the quantities of light of plural exposure lamps.例文帳に追加

複数の露光ランプの光量を効率よくアップさせることである。 - 特許庁

EUV LIGHT SOURCE, EUV EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ＥＵＶ光源、ＥＵＶ露光装置、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING EUV LIGHT SOURCE, EUV EXPOSURE APPARATUS AND ELECTRON DEVICE例文帳に追加

ＥＵＶ光源、ＥＵＶ露光装置および電子デバイスの製造方法 - 特許庁

A photomask 3 and a light source 4 are arranged at the exposure processing position 2.例文帳に追加

露光処理位置２には、フォトマスク３および光源４が配置されている。 - 特許庁

LIGHT QUANTITY DISTRIBUTION MEASURING DEVICE USED FOR LASER EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

レーザー露光装置のために用いられる光量分布測定装置 - 特許庁

SYNTHETIC QUARTZ GLASS MEMBER AND ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

合成石英ガラス部材及びそれを用いた紫外線露光装置 - 特許庁

EUV LIGHT SOURCE, EUV EXPOSURE DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ＥＵＶ光源、ＥＵＶ露光装置および半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE MASK AND BLANK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

極限紫外線露光用マスク及びブランク並びにパターン転写方法 - 特許庁

A photomask includes a transparent substrate which transmits exposure light.例文帳に追加

実施形態のフォトマスクでは、露光光を透過する透明基板を持つ。 - 特許庁

ULTRAVIOLET LASER LIGHT MIRROR, OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

紫外線レーザ光用ミラー及び光学系及び投影露光装置 - 特許庁

IMAGING APPARATUS FOR EUV LIGHT OR X-RAY, AND EUV EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

ＥＵＶ光またはＸ線用撮像装置およびＥＵＶ露光装置 - 特許庁

VACUUM APPARATUS, LIGHT SOURCE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

真空装置、光源装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

An exposure light passes an input prism via a beam splitter.例文帳に追加

露光光はビームスプリッタを介して入力プリズムに通過する。 - 特許庁

A scanning exposure apparatus has a light source capable of changing the central wavelength of exposure light to undergo pulsed oscillation, and scan-exposes a substrate with slit-like exposure light while periodically changing the central wavelength in synchronization with the pulsed oscillation of the exposure light.例文帳に追加

本発明の走査露光装置は、パルス発振される露光光の中心波長を変更可能な光源を有し、前記露光光のパルス発振と同期させて前記中心波長を周期的に変化させつつ帯状の露光光で基板を走査露光する。 - 特許庁

DIMMING APPARATUS, LIGHT SOURCE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

減光装置、光源装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 - 特許庁

UV LIGHT EXPOSURE FOR FUNCTIONALIZATION AND HYDROPHOBIZATION OF PURE SILICA ZEOLITE例文帳に追加

純粋シリカゼオライトを機能化及び疎水化するためのＵＶ光照射 - 特許庁

LIGHT-EMITTING ELEMENT ARRAY, AND EXPOSURE APPARATUS AND IMAGE FORMING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

発光素子アレイ及びそれを用いた露光装置並びに画像形成装置 - 特許庁

OPTICAL ELEMENT AND LIGHT SOURCE DEVICE AND EXPOSURE DEVICE HAVING THE OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

光学素子、当該光学素子を有する光源装置及び露光装置 - 特許庁

LIGHT QUANTITY MEASURING APPARATUS FOR EXPOSURE DEVICE AND CALIBRATION DEVICE HAVING THIS MEASUREMENT MEASURING APPARATUS例文帳に追加

露光装置の光量測定装置及び該測定装置を備えた校正装置 - 特許庁

METHOD FOR MONITORING LIGHT EXPOSURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光量モニタ方法及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

The size of the dummy patterns is below the resolution limit of light for exposure.例文帳に追加

ダミーパターン３３は、露光光の解像限界を下回る大きさである。 - 特許庁

SCANNING PROJECTING LIGHT EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING IT例文帳に追加

走査型投影露光装置、及び該装置を用いる素子製造方法 - 特許庁