「light-exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The light quantity distribution of a light beam emitted from an exposure head on an exposure surface is measured, and the light quantity is controlled to uniformize the light quantity distribution on the exposure surface by the light beam emitted from the exposure head on the basis of the measurement information obtained by the light quantity measurement.例文帳に追加

露光ヘッドから照射された光ビームの露光面における光量分布を測定し、その光量測定によって取得した測定情報に基づいて、露光ヘッドから照射する光ビームの露光面における光量分布を均一化する光量制御を行う。 - 特許庁

The exposure apparatus includes: moving to an exposure position by mechanical operations of a light-shielding mask or a substrate stage on the basis of the information about a medium to be exposed by referring to a position set by a single alignment; stopping at the set exposure position; and carrying out exposure, after moving to the exposure position, under exposure conditions calculated by an exposure condition calculating mechanism.例文帳に追加

被媒体情報をもとに、１回のアライメントで設定した位置を基準として、遮光マスク又は基板ステージの機械動作によって露光位置へ移動し、設定した露光位置で停止し、露光位置に移動した後、露光条件算出機構で算出された露光条件をもとに露光を行う。 - 特許庁

To perform auxiliary exposure over an entire image recording region without increasing an exposure apparatus in size, in an image information reading exposure apparatus having a line light source for performing reading scanning exposure and a panel light source for performing auxiliary exposure different from the reading scanning exposure.例文帳に追加

読取走査露光を行うためのライン光源と、読取走査露光とは異なる補助露光を行うためのパネル光源とを有する画像情報読取用露光装置において、露光装置を大型化することなく、画像記録領域全域に対して、補助露光を行う。 - 特許庁

To stabilize exposure light conditions before the start of exposure in an exposure field on a substrate which is to be exposed at exposure by slit scan exposure method.例文帳に追加

スリットスキャン露光方式で露光を行う際に、露光対象となる基板上の露光フィールドの露光が開始されるまでに、露光光の状態を安定させる。 - 特許庁

To provide an image exposure apparatus and an image exposure method by which image exposure can be performed under synchronism of an image exposure period with a pulse repetition period of laser light used for exposure by a simple configuration without using a complex apparatus.例文帳に追加

複雑な装置を用いることなく、簡単な構成で、画像露光周期と、露光に用いるレーザ光のパルス繰返し周期とを同期させて画像露光することができる画像露光装置および画像露光方法を提供する。 - 特許庁

At this time, the outside surface exposure can be performed by changing outside surface exposure illuminace by setting exposure time constant or adjusting the exposure time by seting the outside surface exposure illuminace constant or adjusting a distance between the light source and the CRT panel.例文帳に追加

相反則不軌特性を有するレジストを用いていても、本露光の順序に依存することなく、ブラックストライプ間の開口幅を均一な大きさに形成することが可能となる。 - 特許庁

A plurality of exposure patterns are formed with a kind of light shielding member by generating the phenomenon such as over exposure and/or under exposure in the pre-exposure and post-exposure processes.例文帳に追加

先の露光工程と後の露光工程において、オーバー露光及び／又はアンダー露光等の現象を生じさせることによって、一種類の遮光部材で複数の露光パターンを実現する。 - 特許庁

LIGHT SOURCE DEVICE, FLY EYE LENS USED FOR LIGHT SOURCE DEVICE AND EXPOSURE APPARATUS HAVING THE SAME LIGHT SOURCE DEVICE例文帳に追加

光源装置、その光源装置に用いられるフライアイ・レンズ、その光源装置を有する露光装置 - 特許庁

To form exposure light with high illuminance by efficiently using light of each of semiconductor light emitting elements.例文帳に追加

各半導体発光素子の光を効率良く利用して、照度の高い露光光を形成する。 - 特許庁

LIGHT FLUX BRANCHING ELEMENT, LIGHT FLUX INTERFERENCE OPTICAL SYSTEM AND LIGHT FLUX INTERFERENCE EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

光束分岐素子および光束干渉光学系および光束干渉露光装置 - 特許庁

FIBER FOR LIGHT AMPLIFICATION, LIGHT AMPLIFIER, LIGHT SOURCE DEVICE, OPTICAL TREATMENT DEVICE, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

光増幅用ファイバ、光増幅装置、光源装置、光治療装置および露光装置 - 特許庁

LIGHT EMITTING DEVICE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE, LIGHT SOURCE, AND PHOTOSENSITIVE EXPOSURE LIGHT SOURCE USING THE SAME例文帳に追加

発光素子、及びこれを用いた画像表示装置、光源、感光体露光光源 - 特許庁

Development is processed by irradiating exposure light onto a photoresist P1, high in the absorption coefficient of exposure light, through a half tone mask 60, having a light shielding region 61 for shielding exposure light from an exposure device, a transmission region 62, which transmits the exposure light completely and a half transmission region 63 which transmits the exposure light partially.例文帳に追加

露光装置からの露光光を遮断する遮光領域６１と、露光光を完全に透過させる透過領域６２と、露光光を部分的に透過させる半透過領域６３とを有するハーフトーンマスク６０を通して、露光光の吸収係数が高いフォトレジストＰ１に露光光を照射し、現像処理する。 - 特許庁

The exposure system is provided with an exposure light source to emit an exposure light, a photomask arranged in the optical path of the exposure light, a placement table to hold a substrate to be processed, and an exposure chamber to house at least the photomask and the placement table therein.例文帳に追加

露光光を発射する露光光源と、露光光の光路に配置されたフォトマスクと、フォトマスクを透過した露光光を受ける位置に、被処理基板を保持する載置台と、少なくともフォトマスク及び載置台とを内部に収納する露光室とを備える露光装置により露光を行う。 - 特許庁

By using a mask as an embodiment of the present invention to carry out exposure, as the exposure light quantity decreases toward the end part of the mask (shown by dotted lines in Fig.4(b)), the exposure light transmitting the adjacent mask is superposed so as to obtain an appropriate exposure light quantity even at the end part of the exposure region.例文帳に追加

本実施の形態のマスクを用いて露光を行うと、マスクの端部側に向かうにつれて露光量が減少する（図４（ｂ）の点線参照）から、隣接するマスクを透過する露光光を重畳することで、露光領域の端部であっても適切な露光量を得ることができる。 - 特許庁

The photosensitive composition for near-infrared laser exposure satisfies S_2/S_1≥2 between a minimum light exposure S_1 required to perform image formation by exposure with a near-infrared laser and a minimum light exposure S_2 required to perform image formation by exposure with a near-infrared laser after irradiation with light of 400 lx for 120 min.例文帳に追加

近赤外レーザーにより露光して画像形成を行う為に必要とされる最低露光量Ｓ_１に対して、４００ルクスの光照射を１２０分間行った後の該最低露光量Ｓ_２が、Ｓ_２／Ｓ_１≧２である近赤外レーザー露光用感光性組成物。 - 特許庁

To obtain desirable exposure in both a visible light system and an infrared light system with a simple configuration in an exposure amount control device for controlling an exposure amount when simultaneously performing photographing with visible light and with infrared light.例文帳に追加

可視光および赤外光での撮影を同時に行う際の露光量を制御する露光量制御装置において、簡易な構成で可視光系、赤外光系とも好ましい露出を得られるようにする。 - 特許庁

In this exposure, light for exposure in a wide wavelength range, e.g. i-line, KrF excimer laser light or ArF excimer laser light can be selected as light 3 for exposure.例文帳に追加

この露光処理の際には、露光光３として、例えばｉ線、ＫｒＦエキシマレーザおよびＡｒＦエキシマレーザ光等、幅の広い波長の範囲で露光光を選択することができる。 - 特許庁

A multi-tone photomask including a light-shielding part shielding exposure light, a transmissive part transmitting the exposure light, and a semi-transmissive part transmitting a portion of the exposure light is prepared on the transparent substrate.例文帳に追加

透明基板上に露光光を遮断する遮光部と露光光を透過する透光部と露光光の一部を透過する半透光部とを含む多階調フォトマスクを準備する。 - 特許庁

This camera with the light shielding hood is provided with an exposure surface rotating means, a light shielding hood deforming means, and a means for designating exposure surface rotation and light shielding hood deformation performed interlocking the exposure surface rotating means and the light shielding hood deforming means.例文帳に追加

露光面回転手段と、遮光フード変形手段と、前記露光面回転手段と前記遮光フード変形手段を連動して実行する露光面回転・遮光フード変形指示手段とを有する事を特徴とする。 - 特許庁

To provide a device for eliminating reflected light and an exposure apparatus, in which the reflected light, after the light transmits a sample or an exposure object during exposure is eliminated so that the sample will not be irradiated by the reflected light.例文帳に追加

露光時に試料や露光対象物を透過した後の反射光を除去し反射光が試料に照射されないようにした反射光除去装置及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus which can highly accurately correct irregularities of a light exposure for each light source to correct density irregularities and adjust the light exposure and which uses an LED for the light source of an exposure means.例文帳に追加

光源毎の露光量のバラツキを高精度に濃度むら補正、露光量調節を行うことの可能な、ＬＥＤを露光手段の光源に用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

An exposure device 1 includes a polarization beam splitter 15 for dividing exposure light from a light source 11 into exposure lights of linear polarization of P-polarized light and linear polarization of S-polarized light.例文帳に追加

露光装置１には、光源１１からの露光光が入射されこれをＰ偏光の直線偏光及びＳ偏光の直線偏光の露光光に分割する偏光ビームスプリッタ１５が設けられている。 - 特許庁

A light irradiating section 21 is provided with the line light source 23 for performing reading scanning exposure; and the sub-panel light sources 24 and 25 extending in parallel to the line light source 23 and used for performing pre-exposure as auxiliary exposure.例文帳に追加

光照射部２１は、読取走査露光を行うためのライン光源２３と、該ライン光源２３と平行に延び、補助露光である前露光を行うためのサブパネル光源２４および２５とを備える。 - 特許庁

The aberration-measuring mask for measuring the lens aberrations of an exposure device is provided with a substrate for transmitting exposure light of the exposure device, and a pattern part inverting the phase of the exposure light by 180 degree.例文帳に追加

露光装置のレンズ収差を測定するための収差測定用マスクにおいて、露光装置の露光光を透過する基板と、露光光の位相を１８０度反転させるパターン部とを備える。 - 特許庁

After the exposure amount of the diffraction light L1 reaches the saturation exposure amount Esat and before the exposure amounts of the diffraction lights L-1 and L2 exceed the critical exposure amount Ecri, the radiation of the reproducing illumination light L is finished.例文帳に追加

回折光Ｌ１の露光量が、飽和露光量Ｅsat に達した後、かつ、回折光Ｌ−１やＬ２の露光量が、臨界露光量Ｅcri を超える前に、再生用照明光Ｌの照射を終了する。 - 特許庁

In an exposure process, a substrate through which exposure light penetrates and an adjusting filter which is provided to the substrate and has a low-transmittance part lower in transmittance than the substrate to exposure light are used in an exposure device.例文帳に追加

露光において、露光装置における露光光を透過する基板と、基板に設けられ、かつ、基板の露光光の透過率よりも透過率が低い低透過率部とを有する調節フィルタを用いる。 - 特許庁

To prevent a pattern-forming accuracy at each pattern junction from degrading, caused by alignment difference between exposure light and an exposure electronic beam, without making a exposure light pattern or an exposure electron beam pattern to be thick.例文帳に追加

光露光パターンや電子線露光パターンを太らせることなく、光露光と電子線露光の合わせずれに起因する各々のパターンの接続部分でのパターン形成精度劣化を防止する。 - 特許庁

A first resist S1, which reacts to exposure of light with a first exposure energy E1 and a second resist S2 which reacts to exposure of light with a second exposure energy E2 (E2=0.5 to 0.7E1) are applied, in this sequence on a substrate G.例文帳に追加

第１、第２の露光エネルギーＥ１、Ｅ２（Ｅ２＝０．５Ｅ１〜０．７Ｅ１）で露光反応する第１、第２のレジストＳ１、Ｓ２がこの順に塗布された基板Ｇを得ることができる。 - 特許庁

In the pattern forming method, the positive type photosensitive resin composition is applied on the substrate and subjected to first exposure, development, second exposure and heating in order and the quantity of light in the second exposure is 0.3 to 15 times the quantity of light in the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、基板上に塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の０．３〜１５倍であるパターン形成方法。 - 特許庁

To provide an exposure device or the like which enables an object of exposure to be exposed to light in a short time at a low cost when the exposure object is exposed to light through a mask with a variable exposure pattern.例文帳に追加

露光パターンを可変可能なマスクにより被露光対象物を露光する場合において、短時間化と低コスト化を図る露光装置等を提供する。 - 特許庁

In addition, at least one of an adjustable characteristic of exposure light EL in the exposure of each of the shot regions and the width of the exposure light EL of the scanning direction on the substrate P is adjusted based on the set target integral exposure amount S.例文帳に追加

また、設定される目標積算露光量Ｓに基づいて、各ショット領域Ｓの露光時の調整可能な露光光ＥＬの特性および、基板Ｐ上での走査方向の露光光ＥＬの幅の少なくとも一方を調整する。 - 特許庁

To obtain a light source control device for direct exposure apparatus, the control device being capable of controlling the energy of light irradiating an exposure face of an exposure object to an appropriate exposure.例文帳に追加

露光対象物の露光面上に照射する光のエネルギー量を適正露光値にすることができる直接露光装置のための光源制御装置を実現する。 - 特許庁

The aligner 100 is provided with an exposure light source emitting the exposure light, a photomask stand which is arranged in a position receiving the exposure light from the exposure light source, on which the photomask is placed and an exposed substrate stand which is arranged in a position receiving light transmitted through the photomask and on which the exposed substrate is placed.例文帳に追加

また、露光装置は、露光光を発射する露光光源と、露光光源からの露光光を受ける位置に配置され、フォトマスクを載置するフォトマスク台と、フォトマスクを透過した光を受ける位置に配置され、被露光基板を載置する被露光基板台とを備える。 - 特許庁

To improve a work efficiency by shortening a period of time for detecting and controlling the light quantity of light exiting from each exposure head in an exposure method carried out by relatively moving a plurality of exposure heads in a predetermined scanning direction with respect to an exposure face, each exposure head imaging the incident light onto the exposure face through an optical system for exposure.例文帳に追加

入射された光を光学系によってそれぞれ露光面に結像して露光を行う複数の露光ヘッドを、露光面に対して相対的に所定の走査方向に移動させて露光を行う露光方法において、上記各露光ヘッドから射出される射出光の光量の検出および調整時間を短縮して作業効率の向上を図る。 - 特許庁

To provide an exposure value evaluation method for easily evaluating exposure light having wavelengths other than EUV light.例文帳に追加

ＥＵＶ光以外の波長を有した露光光を容易に評価する露光量評価方法を提供すること。 - 特許庁

To get high exposure power by suppressing drop of transmissivity on a light path, even in the case of using a vacuum ultraviolet ray as an exposure light.例文帳に追加

露光光として真空紫外光を使用する場合でも、光路上での透過率の低下を抑制して、高い露光強度が得られるようにする。 - 特許庁

Light for exposure is made incident on a master hologram 31 through a prism 33 with an exposure of a low diffraction efficiency of secondary light.例文帳に追加

２次光の回折効率が低い露光量で、露光用の光をプリズムを通してマスターホログラムに入射する。 - 特許庁

Next, light for exposure is made incident on the 2nd master hologram 32 with an exposure of a high diffraction efficiency of the primary light.例文帳に追加

次に、１次光の回折効率が高い露光量で露光用の光をプリズムを通して前記第２のマスターホログラムに入射する。 - 特許庁

All pixels of a pixel array are reset simultaneously to start light exposure and kept in a state that an overflow path is opened during light exposure.例文帳に追加

画素アレイ部の全画素を同時にリセットして露光を開始し、露光期間では前記オーバーフローパスを開いた状態に保つ。 - 特許庁

The integrated light quantity of the incident exposure light on the wafer 25 is therefore so adjusted that the exposure dose on the wafer 25 attains a target value.例文帳に追加

そのため、ウエハ２５上での露光ドーズが目標値となるようにウエハ２５に入射する露光光の積算光量を調節する。 - 特許庁

Exposure light transmitting a shifter 23 travels on paths A1 to A4, and exposure light transmitting only a transparent substrate 22 travels on paths A11 to A14.例文帳に追加

シフタ２３を透過する露光光は、Ａ１〜Ａ４の経路をたどり、透明基板２２のみを透過する露光光は、Ａ１１〜Ａ１４の経路をたどる。 - 特許庁

The phase of exposure light L1 transmitting the mesa portion 3A is inverted with respect to the phase of exposure light L2 transmitting the adjacent field portion 2.例文帳に追加

このメサ部３Ａを透過した露光光Ｌ１の位相は、それに隣接するフィールド部２を透過した露光光Ｌ２の位相に対して反転する。 - 特許庁

Then, second pattern exposure is performed by irradiating the resist film with exposure light 105 via a second mask through the light absorbing film.例文帳に追加

続いて、第２のマスクを介した露光光１０５をレジスト膜に光吸収膜を通して照射することにより第２のパターン露光を行う。 - 特許庁

When it is irradiated with coherent exposure light, exposure light intensity can be controlled by changing the thickness and refractive index of the phase displacement layer.例文帳に追加

これにより、コヒーレントな露光光を照射したとき、位相変位層の厚み、屈折率を変更することにより露光強度を制御することが出来る。 - 特許庁