「light-exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The alignment system 15 uses the alignment light whose wavelength is identical with an exposure light.例文帳に追加

アライメント系１５は、露光光と同じ波長のアライメント光を使用する。 - 特許庁

The light L0 for exposure exiting from a light source 11 is rendered into a parallel beam L1.例文帳に追加

光源１１からの露光用の射出光Ｌ０を、平行光束Ｌ１とする。 - 特許庁

The exposure light L preferably includes collimated light breams (A, C) having about ±5 to 10° incident angles.例文帳に追加

露光光線Ｌは入射角度が±５〜１０゜程度の平行光（Ａ，Ｃ）を含むことが好ましい。 - 特許庁

To increase an output of EUV light supplied from an EUV light source device to an exposure machine.例文帳に追加

ＥＵＶ光源装置から露光機に供給されるＥＵＶ光の出力を増加させる。 - 特許庁

To equalize the amount of irradiation of light to an exposure surface depending on the property of a light source.例文帳に追加

光源の特性に応じて露光面に対する光の照射量を均一にする。 - 特許庁

The stress light emitter which emits light by the emission intensity according to the amount of radiation exposure.例文帳に追加

本発明によれば、放射線被曝量に応じた発光強度で発光する応力発光体を用いる。 - 特許庁

LIGHT EMITTING ELEMENT, EXPOSURE HEAD, CARTRIDGE, IMAGE FORMING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING THE LIGHT EMITTING ELEMENT例文帳に追加

発光素子、露光ヘッド、カートリッジ、画像形成装置及び発光素子製造方法 - 特許庁

To provide an improved light guide exposure device having improved uniformity and amount of light intensity.例文帳に追加

光強度の均一性および量が向上した、改善されたライトガイド露光デバイスを提供する。 - 特許庁

The exposure device 100 exposes the substrate 18 using pulse light beams provided by a light source 1.例文帳に追加

露光装置１００は、光源１から提供されるパルス光を用いて基板１８を露光する。 - 特許庁

To finely adjust quantity of light of exposure light by increasing an operation speed of a shutter.例文帳に追加

シャッターの動作を高速化して、露光光の光量を微少に調節する。 - 特許庁

The light emission quantity arithmetic part finds a proper light emission quantity for proper exposure from the photographic distance.例文帳に追加

発光量演算部は、撮影距離に応じて、適正な露光を与える適正発光量を求める。 - 特許庁

To provide the designing method of an illumination light source that can make a degree of light exposure margin optimal.例文帳に追加

露光量余裕度を最適にする照明光源の設計方法を提供する。 - 特許庁

In an exposure system, a light-emitting device includes a plurality of light-emitting elements E arranged in a pitch Pa.例文帳に追加

発光装置は、ピッチＰaで配列された複数の発光素子Ｅを含む。 - 特許庁

LIGHT EMITTING DEVICE AND EXPOSURE DEVICE WITH THE SAME, IMAGE FORMING APPARATUS, AND LIGHT IRRADIATION HEAD例文帳に追加

発光装置並びにこれを備える露光装置、画像形成装置及び光照射ヘッド - 特許庁

CONTROL METHOD FOR LIGHT QUANTITY OF SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, EXPOSURE SYSTEM, AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加

半導体発光素子の光量制御方法、露光装置及び画像形成装置 - 特許庁

LIGHT QUANTITY CONTROLLER, EXPOSURE APPARATUS, IMAGE FORMING DEVICE, AND METHOD OF CONTROLLING LIGHT QUANTITY例文帳に追加

光量制御装置、露光装置、画像形成装置および光量制御方法 - 特許庁

LIGHT-EMITTING ELEMENT CIRCUIT, AND DISPLAY DEVICE AND EXPOSURE DEVICE PROVIDED WITH LIGHT-EMITTING ELEMENT CIRCUIT例文帳に追加

発光素子回路、並びにその発光素子回路を備える表示装置及び露光装置 - 特許庁

To perform compensation control of light exposure by enhancing measurement accuracy of the intensity of exposing light.例文帳に追加

露光光の強度の測定精度を向上させ、露光量の補償制御を適切に行えるようにする。 - 特許庁

MODULATED LIGHT GENERATOR, INTERFERENCE MEASURING INSTRUMENT BY LIGHT WAVE, EXPOSURE DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRO DEVICE例文帳に追加

変調光発生装置、光波干渉測定装置、露光装置、及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

The light shielding region of the mask pattern is a half-shielding part which partially transmits the exposure light.例文帳に追加

マスクパターンの遮光領域は、露光光を部分的に透過させる半遮光部である。 - 特許庁

METHOD FOR RADIATING EUV LIGHT AND EXPOSURE METHOD OF SENSITIVE SUBSTRATE USING EUV LIGHT例文帳に追加

ＥＵＶ光の放射方法、および前記ＥＵＶ光を用いた感応基板の露光方法 - 特許庁

In an exposure method which enables exposure of the patterns of a plurality of masks in order by exposure light to an exposure region set corresponding to each of the masks on a board, using a plurality of masks having patterns, the order of exposure of the plurality of masks is decided, based on the positional relation between the optical path of the exposure light and the exposure region.例文帳に追加

パターンを有した複数のマスクを用いて、複数のマスクのパターンを基板上のマスクのそれぞれに対応して設定された露光領域に露光光により順次露光する露光方法において、露光光の光路と露光領域との位置関係に基づいて、複数のマスクの露光順序を決定する。 - 特許庁

In the exposure method performing joint exposure by irradiating an article to be exposed with light source light through a mask pattern of a photomask and then overlapping end regions of adjoining exposure patterns, the joint exposure is performed while gradually reducing the exposure amount in the end region of the exposure pattern from near the center toward an adjoining end of the exposure pattern.例文帳に追加

被露光体上にフォトマスクのマスクパターンを通して光源光を照射し、互いに隣接する露光パターンの端部領域を重ね合わせてつなぎ露光する露光方法であって、前記露光パターンの前記端部領域の露光量を前記露光パターンの中央寄りから隣接端部に向かって漸減させてつなぎ露光するものである。 - 特許庁

In exposure scanning with an exposure scanner 11, an amount of exposure by the exposure scanner 11 is corrected for each exposure position with reference to the storage area of a sensitivity storage device which stores the sensitivity information of the photoreceptor with respect to exposure light from the exposure scanner 11 while making the sensitivity information correspond to each exposure position on the surface of the photoreceptor 9.例文帳に追加

露光走査装置１１による露光走査に際しては、露光走査装置１１からの露光光に対する感光体の感度情報を感光体９表面の露光位置毎に対応付けて記憶領域に記憶する感度記憶装置の記憶領域を参照して、露光走査装置１１による露光量を露光位置毎に補正するようにした。 - 特許庁

To provide a proximity scan exposure device capable of performing high precision exposure without any exposure irregularity by suppressing fluctuation in illuminometers and by stabilizing the illuminances of respective light sources, and to provide an exposure method thereof.例文帳に追加

照度計のバラツキを抑えることにより各光源間の照度を一定にすることにより、露光むら無く高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその露光方法を提供する。 - 特許庁

The project exposure device 10 has an exposure optical system that projects a projected pattern formed on a photomask 14 on a substrate 32 on exposure stage 31 with exposure light.例文帳に追加

投影露光装置１０は、露光光を用いてフォトマスク１４に形成された透光パターンを露光ステージ３１上の基板３２に投影する露光光学系を有する。 - 特許庁

To suppress an increase in load of exposure data generation and to generate exposure data for an electron beam such that a shape by electron-beam exposure approximates a shape processed by light exposure.例文帳に追加

露光データ作成の負担の増大を抑制し、少ない計算負荷で、電子線露光による形状が光露光で加工される形状に近似するような電子線用露光データを作成する。 - 特許庁

Exposure data to control the liquid crystal light valve 41e of the projector type exposure device are separated to exposure time data 71 and exposure intensity data 72 and 73.例文帳に追加

プロジェクタ型の露光装置の液晶ライトバルブ４１ｅを制御する露光データを露光時間データ７１と、露光強度データ７２および７３に分解する。 - 特許庁

To prevent occurrence of underexposure and double exposure near a boundary of an exposure region when a part of light radiated to a mask is blocked to restrict the exposure region in the exposure of a substrate using a proximity system.例文帳に追加

プロキシミティ方式を用いた基板の露光において、マスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止する。 - 特許庁

This exposure device 100 includes a rotary drive part 3 for rotation-driving an exposure object, and a light irradiation part 1 for irradiating an exposure face of the exposure object with a laser beam.例文帳に追加

露光対象を回転駆動させる回転駆動部３と、露光対象の露光面にレーザ光を照射する光照射部１とを備える露光装置１００とする。 - 特許庁

In the pattern forming method, the positive type photosensitive resin composition is applied and subjected to first exposure, development, second exposure and heating in order, and it is characterized in that the quantity of light in the second exposure is 2-15 times that in the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To efficiently exposure a substrate having a wide-exposure region, with exposure light in a stable state by using a small mask, and to accurately exposure the predetermined region of the moving substrate.例文帳に追加

小さなマスクを使用して広い露光領域を有する基板を、露光光を安定した状態で照射して効率的に露光でき、移動する基板の所定の露光領域に正確に露光する。 - 特許庁

To provide exposure equipment and an exposure method, of which the changes in OPE characteristics caused by an exposure parameter of projection exposure equipment are optimized, by controlling the phase difference between two polarization of illumination light, and approach ideal OPE characteristics.例文帳に追加

投影露光装置の露光パラメータに起因するOPE特性の変化を、照明光の２つの偏光間の位相差を制御することにより最適化し、理想のOPE特性に近づける露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method, when coating, first exposure, development, second exposure and heat treatment of the positive photosensitive resin composition are carried out in order, the quantity of light for the second exposure is 0.5-15 times that for the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の０．５〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

In the pattern forming method, when coating, first exposure, development, second exposure and heat treatment of the positive photosensitive resin composition are carried out in this order, the quantity of light for the second exposure is 0.5-15 times that for the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の０．５〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To provide an exposure uneveness measuring instrument capable of measuring the degree of exposure uneveness, caused when exposing an image for printing by scanning sheet type photographic sensitive material with exposure light, and of accurately performing evaluation to the exposure uneveness.例文帳に追加

シート状写真感光材料に露光光を走査して画像を焼付露光する場合に生じる露光ムラの大きさを測定すると共に、露光ムラに対する評価を正確に行うことができる露光ムラ測定装置を提供する。 - 特許庁

In the pattern- forming method, the positive photosensitive resin composition is applied and subjected successively to first exposure, development, second exposure and heating, with the quantity of light in the second exposure being 2-15 times that in the first exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

An exposure usage domain or a mirror range to be modulated in case of exposure in a certain exposure resolution is established based on a distortion distribution of a formed image of light modulated by DMD (digital mirror device) at an exposure position.例文帳に追加

ＤＭＤ（デジタルミラーデバイス）によって変調された光が露光位置において結像する像の歪み分布を基に、ある露光解像度で露光する際に変調対象とするミラーの範囲である露光使用領域を設定する。 - 特許庁

In the pattern forming method in which the positive type photosensitive resin composition is successively subjected to application, 1st exposure, development, 2nd exposure and heating, the quantity of light in the 2nd exposure is 2-15 times that in the 1st exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

In the pattern forming method, light intensity applied in the second exposure is 1-15 times of that of a first exposure in performing the processes of spreading, the first exposure, development, the second exposure, and heat treatment one by one for the positive photosensitive resin composition.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の１〜１５倍であるパターン形成方法。 - 特許庁

To adjust the output of the exposure head so that exposure unevenness of a photosensitive material caused depending upon a distribution of wavelengths of exposure heads can be suppressed and lives of light sources of the exposure heads can be held long without lowering the productivity.例文帳に追加

露光ヘッドの波長の分布によって生じる感光材料の露光ムラを抑制することができ、なおかつ生産性を下げることなく露光ヘッドの光源の寿命を長く保つことができよう露光ヘッドの出力を調整する。 - 特許庁

To stabilize exposure density in spite of a fluctuation in the distance between an exposure head consisting of light emitting element arrays and a photosensitive material in an exposure device of performing vertical scanning by relatively moving the exposure head and the photosensitive material.例文帳に追加

発光素子アレイからなる露光ヘッドと感光材料とを相対移動させて副走査を行う露光装置において、露光ヘッドと感光材料との距離が変動しても、露光濃度を安定化させる。 - 特許庁

In the pattern forming method, the application, 1st exposure, development, 2nd exposure and heating of the positive type photosensitive resin composition are successively carried out and the quantity of light in the 2nd exposure is 2-15 times that in the 1st exposure.例文帳に追加

前記ポジ型感光性樹脂組成物を、塗布、第１露光、現像、第２露光、加熱処理を順次行う工程において、第２露光の光量が、第１露光の２〜１５倍であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

When exposure is carried out, the region corresponding to the light shielding section 26a in the plating resist film 25 for columnar electrode formation is turned to be a non-exposure section, the periphery is turned to be an exposure section, and the other region is turned to be a semi-exposure section.例文帳に追加

露光を行なうと、柱状電極形成用メッキレジスト膜２５のうち、遮光部２６ａに対応する領域が非露光部となり、その周囲が露光部となり、それ以外の領域が半露光部となる。 - 特許庁

To simplify the circuit constitution of a processing circuit by reducing the number of light quantity detectors while maintaining the accuracy of the detection of a light quantity constant in an exposure device provided with the light quantity detectors for detecting the light quantity before starting exposure so as to make the light quantity of an exposure beam uniform at the time of performing scanning exposure with the exposure beam generated by using an optical modulation element.例文帳に追加

光変調素子を用いて生成された露光ビームで走査露光を行う際に露光ビームの光量が均一となるように、露光開始前に光量を検出する光量検出器の設けられた露光装置において、光量の検出の精度を一定にしつつ光量検出器の数を減らし、処理回路の回路構成を簡略化する。 - 特許庁