「light-exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

LIGHT FLUX CONVERSION ELEMENT, ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

光束変換素子、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - 特許庁

The exposing apparatus exposes a substrate by an exposure light by mans of a liquid.例文帳に追加

露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。 - 特許庁

To correct the light quantity unevenness of the photographed image of various exposure levels.例文帳に追加

各種露光レベルの撮影画像の光量ムラを高精度に補正する。 - 特許庁

METHOD AND PROGRAM FOR ADJUSTING LIGHT SOURCE, AND EXPOSURE METHOD AND DEVICE例文帳に追加

光源調整のための方法及びプログラム、並びに露光方法及び装置 - 特許庁

LIGHT-TRANSMITTING OPTICAL SYSTEM, ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

送光光学系、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - 特許庁

EXPOSURE LIGHT SOURCE, ALIGNER, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

露光光源および露光装置ならびに半導体装置の製造方法 - 特許庁

To suppress the degradation of strength due to irradiation of an exposure light to a pellicle.例文帳に追加

ペリクルの露光光照射による強度劣化を抑える。 - 特許庁

METHOD FOR REGULATING LIGHT QUANTITY OF EXPOSURE HEAD AND METHOD FOR FORMING IMAGE例文帳に追加

露光ヘッドの光量調整方法および画像形成方法 - 特許庁

METHOD FOR ALIGNING MULTIPLEXED LASER BEAM, LASER BEAM MULTIPLEXING LIGHT SOURCE, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

合波レーザ光調芯方法、レーザ光合波光源、および露光装置 - 特許庁

DEVICE FOR CONVERTING INTERAXIAL PITCH OF LIGHT BEAM AND SUBSTRATE EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

光ビームの軸間ピッチ変換装置および基板露光装置 - 特許庁

PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, BEAM DELIVERY SYSTEM AND METHOD OF GENERATING BEAM OF LIGHT例文帳に追加

投影露光系、ビーム伝送系及び光ビームの生成方法 - 特許庁

MEASUREMENT DEVICE, LIGHT SOURCE DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

計測装置、光源装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

LIGHT SCATTERING INSPECTING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL ELEMENT, AND PROJECTION EXPOSURE EQUIPMENT例文帳に追加

光散乱検査法、光学素子の製造方法及び投影露光装置 - 特許庁

The aligner exposes a substrate to exposure light through first liquid.例文帳に追加

露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。 - 特許庁

MASK, METHOD FOR CONTROLLING EXPOSURE LIGHT QUANTITY, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスク、露光量調整方法及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

The exposure apparatus exposes a substrate to exposing light through a liquid.例文帳に追加

露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。 - 特許庁

DIFFERENTIAL EXHAUST APPARATUS, LIGHT SOURCE UNIT, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

差動排気装置、光源装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

APPARATUS FOR MEASURING LIGHT INTENSITY, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

光強度計測装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

Subsequently the resist layer 93 is partially irradiated with light (an exposure process).例文帳に追加

次に、レジスト層９３に部分的に光を照射する（露光工程）。 - 特許庁

An exposure value Ev is calculated by an exposure value calculating section 121 based on the light reception data, and an exposure difference ΔEv between the exposure value Ev and a specific exposure value Evr (an exposure value to be used in the photographing) stored in a nonvolatile memory 13 is calculated by a contrast calculating section 122.例文帳に追加

その受光データから露出値算出部１２１で露出値Ｅｖが算出され、コンラスト算出部１２２で不揮発メモリ１３に記憶された特定露出値（撮影に供される露出値）Ｅｖｒとの露出差ΔＥｖが算出される。 - 特許庁

Exposure light-forming light is generated from the plurality of semiconductor light-emitting elements 42, and the light generated from the plurality of semiconductor light-emitting elements 42 is expanded and condensed to form the exposure light.例文帳に追加

複数の半導体発光素子４２から露光光を形成する光を発生し、複数の半導体発光素子４２から発生した光を拡大して集光して露光光を形成する。 - 特許庁

To provide an image forming method by which sufficient image strength is imparted to an image obtained by scanning exposure with laser light and necessary light exposure in exposure with laser light can be therefore reduced.例文帳に追加

レーザー光の走査露光によって得られた画像に、十分な画像強度を与えることができ、よって、レーザー光露光時の必要露光量の低減化を図ることができる画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To guide exposure light to an object with high efficiency when supplying a gas having a high transmittivity against the exposure light to at least a part of an optical path of the exposure light.例文帳に追加

露光光の光路の少なくとも一部に高透過率の気体を供給する場合に、その露光光を高い利用効率で露光対象の基板まで導く。 - 特許庁

The low-transmittance part of the adjusting filter is set lower in transmittance than the exposure light, corresponding to the degree of illuminance of a part of the exposure light of high illuminance, whereby the illuminance difference can be canceled and the exposure light is set almost uniform in illuminance.例文帳に追加

この調節フィルタの低透過率部は、露光光の照度の高い部分に、その高さの度合いに合せて、露光光の透過率を低くするように設けられ、照度の高さを相殺して露光光の照度を概ね一律にする。 - 特許庁

When light exposure amount distribution on a substrate (W) after scanning and light exposure is inclined in the nonscanning direction for example, characteristics of the illuminance distribution to cancel the incllination of the light exposure amount distribution are set in the illuminance distribution control means.例文帳に追加

走査露光後の基板（Ｗ）上での露光量分布が例えば非走査方向に傾斜しているような場合に、その露光量分布の傾斜を相殺するような照度分布の特性をその照度分布制御手段（４）で設定する。 - 特許庁

When a signal of larger light exposure is saturated, the synthesizing circuit 5 amplifies a signal of smaller light exposure read from a pixel adjacent to a pixel from which the signal of larger light exposure is read.例文帳に追加

合成回路５は、露光量の多い方の信号が飽和した場合に、その信号が読み出された画素に隣接した画素から読み出された、露光量の少ない方の信号を増幅する。 - 特許庁

The light emission of each of the light sources 3 is controlled as above to form a desired exposure pattern in the light source array, and thus, exposure is performed with a desired exposure pattern without using a mask.例文帳に追加

このように、それぞれの光源３の発光を制御して光源アレイで所望の露光パターンを形成することにより、マスクを用いることなく所望の露光パターンで露光を行うことができる構成とする。 - 特許庁

As a result, the exposure light quantity can be corrected, according to a variation in the exposure light quantity caused by width control of a recording mark, and a uniform exposure light density can be obtained.例文帳に追加

その結果、記録マークの幅制御の際に発生する露光量変化に対応して露光量を補正することができ、均一な露光密度を得ることができる。 - 特許庁

A pattern is irradiated with exposure light emitted from an exposure light source 11, and the projected image of the pattern obtained by irradiation with exposure light is formed on a photosensitive substrate 24.例文帳に追加

露光用光源１１からの露光光をパターンに対して照射するとともに、その照射により得られたパターンの投影像を感光性基板２４上に結像させるようにする。 - 特許庁

To provide a light irradiation apparatus for an exposure apparatus, an exposure apparatus and an exposure method, the light irradiation apparatus decreasing the time for replacing a light source part and the time for stopping the apparatus.例文帳に追加

光源部の交換時間及び装置のダウンタイムを短縮することができる露光装置用光照射装置、露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

In addition, when dot images continuous in a main scan direction are exposed to light, the exposure energy is reduced by making the exposure time spent for exposing the continuous dot images to light shorter than the exposure time spent for exposing the isolated 1 dot image to light.例文帳に追加

また、主走査線方向に連続するドット画像を露光する場合は、孤立１ドット画像を露光するときの露光時間よりも露光時間を短くして露光エネルギーを低減させる。 - 特許庁

When an exposure is performed by collectively scanning a plurality of light beams on the surface of a photo-conductor drum 1, an exposure control for the writing of an electrostatic latent image is performed by the control of the exposure amount of a first light beam which is a part of a plurality of the light beams.例文帳に追加

感光体ドラム１の表面に複数ビーム光を一括走査させて露光する際に，その複数ビーム光の一部である第１ビーム光の露光量制御により静電潜像書き込み用の露光制御を行う。 - 特許庁

Exposure light generated by an exposure light source 91 is guided via fiber 92, and is leaked from the tip part of the probe 95 for exposure as near- field light 98.例文帳に追加

露光光源９１から発せられた露光光は、ファイバ９２を介して導光され、露光用プローブ９５の先端部から近接場光９８として滲み出る。 - 特許庁

To form a required skirt-like inclined part in a sidewall portion of a permanent resist layer by using parallel light exposure in a level of recommended exposure light quantity obtained with the use of a parallel light exposure device under an appropriate developing condition that no resist development residue remains.例文帳に追加

平行光露光機を用いた推奨露光量程度の平行光露光で、レジスト現像残渣が残ることがない適正現像条件のもとに、所要の裾引き傾斜部を永久レジスト層の側壁部に形成すること。 - 特許庁

By displacing and driving the motor, the light shielding plate is driven in a rotating direction with respect to an exposure surface, thereby changing a width from side to side of an exposure light transmission area in the scanning direction, namely, the quantity of transmitted exposure light.例文帳に追加

そしてモータを変位駆動させることにより露光面に対し回転方向に遮光板が駆動されることで露光光透過領域の走査方向左右における幅、すなわち露光光透過量を変化させる。 - 特許庁

The exposure control means switches to, according to the light quantity, either of the shutter speed control for controlling the exposure quantity by the shutter speed control and the emission light quantity control for controlling the exposure quantity by the light source control.例文帳に追加

露光制御手段は、光量に応じて、シャッタ速度制御で露光量を制御するシャッタ速度制御と、光源制御で露光量を制御する出射光量制御とのいずれかに切り替える。 - 特許庁

Even when the intensity of emission light in the light emitting parts differs between the exposure heads 100A and 100B, the maximum exposure light quantity in the overlapped exposure regions is gradually varied, which eliminates a visible seam (stripe irregularity) in the exposed image.例文帳に追加

露光ヘッド１００Ａと１００Ｂとの間で発光部の発光強度に差があったとしても、重複する露光領域において最大露光量が徐々に変化するため、露光画像において継ぎ目（筋むら）が視認されなくなる。 - 特許庁

The phase difference Δθ between exposure light 107 which transmits a transparent region and exposure light 106 which transmits a semi-transparent region, and transmittance n in the semitransparent region for exposure light are specified to satisfy formula (1).例文帳に追加

透明領域と透過する露光光１０７と半透明領域透過する露光光１０６に対する位相差Δθと、半透明領域の露光光に対する透過率ｎが下記式（１）を満たすように規定する。 - 特許庁

To provide a light exposure parameter deciding device capable of improving size uniformity of a pattern, a light exposure system, a check system, and a light exposure parameter deciding method.例文帳に追加

パターンの寸法均一性を向上できる露光パラメータ決定装置、露光システム、検査システム、及び露光パラメータ決定方法を提供する。 - 特許庁

The light of a lamp 26 is guided to an exposure head 31 by a flexible light guide body 30, the light is condensed by the exposure head 31 and irradiated to an exposed surface 12, and the exposure head 31 is caused to move and scan along the exposed surface 12 by a moving means 32.例文帳に追加

可撓性導光体30でランプ26の光を露光ヘッド31に導き、露光ヘッド31で光を集光して被露光面12に照射し、移動手段32で露光ヘッド31を被露光面12に沿って走査移動させる。 - 特許庁

When it is determined that the amount of exposure to light should be reduced, the amount of exposure to light applied to the document is adjusted for reading the document with an appropriate amount of exposure to light.例文帳に追加

そして、露光量を減少させる必要があると判断すると、原稿に照射する露光量を調整して適切な露光量で原稿の読み取りを行う。 - 特許庁

When the exposure unit 20_01 performs exposure, the shutter member 23 positions a light transmission region 23A on an optical path and introduces the illumination light from the light source to a DMD element 27 of the exposure unit 20_01.例文帳に追加

露光ユニット２０_01が露光を行うときには、シャッタ部材２３は光透過領域２３Ａを光路上に位置決めして光源からの照明光を露光ユニット２０_01のＤＭＤ素子２７へ導入する。 - 特許庁

To materialize accurate exposure by controlling the angle of incidence of EUV light impinging on a reflection type mask in an exposure method and an exposure system of using light reflected from the reflection type mask while the reflection type mask is irradiated with the EUV light.例文帳に追加

ＥＵＶ光を反射型マスクに照射してその反射光を用いた露光において、ＥＵＶ光の反射型マスクへの入射角度を制御して正確な露光を実現すること。 - 特許庁

To provide multi-beam exposure apparatus that can measure light intensity data such as light intensity distribution for adjusting shading or an exposure level in scanning exposure using a multi-beam emitted from a spatial light modulator.例文帳に追加

空間光変調素子から出射されたマルチビームで走査露光する際のシェーディング調整や露光量の調整のため、光量分布等の光量データを測定可能としたマルチビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

To expose proper images without generating slippage of the image at each exposure light head in an exposure method and system for exposing the images to light on an exposure face by relatively moving a plurality of exposure heads in a prescribed scanning direction to the exposure face.例文帳に追加

複数の露光ヘッドを露光面に対して所定の走査方向に相対的に移動させて露光面上に画像を露光する露光方法および装置において、各露光ヘッド毎の画像のずれを生じることなく、適切な画像を露光する。 - 特許庁