「light-exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

A multiple exposure region 19 to be exposed to light several times is extracted from the exposure region pattern.例文帳に追加

露光領域パターンから、光が複数回当たる多重露光領域19を抽出する。 - 特許庁

LIGHT SOURCE UNIT IN EXPOSURE SYSTEM AND OPTICAL AXIS ADJUSTMENT METHOD IN EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

露光装置における光源ユニットおよび露光装置における光軸調整方法 - 特許庁

To highly sensitively and accurately monitor a deviation of focus position or a variation of the exposure of an exposure light source.例文帳に追加

露光光源の焦点位置ずれまたは、露光量変動を、高感度、高精度にモニターする。 - 特許庁

To perform a desired projection exposure with the proper amount of exposure even if an emission spectrum of a light source fluctuates in time.例文帳に追加

光源の発光スペクトルが時間変動しても、適切な露光量で所望の投影露光を行う。 - 特許庁

The exposure system exposes a substrate, by irradiating exposure light thereto through an optical projection system.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系を介して基板に露光光を照射して基板を露光する。 - 特許庁

To provide a density distribution mask which has a pattern with higher resolution, and accurately control light exposure of low exposure.例文帳に追加

濃度分布マスクのパターンの解像度を高くし、かつ、低露光の露光量を精密に制御する。 - 特許庁

The exposure apparatus exposes a substrate while emitting exposure light onto the substrate through liquid.例文帳に追加

露光装置は、液体を介して基板上に露光光を照射して基板を露光する。 - 特許庁

The mask 33 for exposure is mounted on a photoresist layer and exposure is carried out by a light source unit.例文帳に追加

露光用マスク３３をフォトレジスト層に載置して光源装置で露光を行う。 - 特許庁

To improve the control accuracy of integrated exposure at conducting scanning exposure by using a pulse light source.例文帳に追加

パルス光源を用いて走査露光を行う場合に、積算露光量の制御精度を向上する。 - 特許庁

Pattern exposure is conducted by making exposure light 12 irradiate the resist film 11 via a mask 13.例文帳に追加

レジスト膜１１に対して露光光１２をマスク１３を介して照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

The exposure system exposes the substrate by irradiating the substrate with an exposure light through the liquid.例文帳に追加

露光装置は、液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光する。 - 特許庁

An exposure system 8 directs an exposure beam from a light source 1 to a reflection type deflecting and modulating device 88.例文帳に追加

露光システム８は、露光ビームを光源１から反射型偏向変調デバイス８８に向ける。 - 特許庁

LIGHT EXPOSURE METHOD, PROJECTING EXPOSURE APPARATUS, MANUFACTURE OF DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

露光方法、投影露光装置、及び前記方法を用いるデバイス製造方法 - 特許庁

Even when the exposure unit 20 vibrates with the exposure processing and the laser light L is deviated from the exposure position P, the laser light L is transmitted through the cylindrical lens 40, consequently, the laser light L is guided to the exposure position P.例文帳に追加

露光処理に伴って露光ユニット２０が振動しレーザ光Ｌが露光位置Ｐからずれる場合であっても、シリンドリカルレンズ４０を透過することによってレーザ光Ｌが露光位置Ｐに導かれる。 - 特許庁

To provide an exposure system capable of achieving longer replacement time of an exposure light source and higher accuracy positioning than those of a case where exposure and positioning are performed using light emitted from a single light source, and to provide an exposure method.例文帳に追加

単一の光源から出射した光を用いて露光と位置決めを行う場合と比較して露光用光源の交換時期を長くし、高精度な位置決めが可能な露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To perform stable exposure by preventing light from entering silicon carbide in exposure, and hence avoiding variations in the quantity of light caused by reflection light in the pattern exposure of an exposure process.例文帳に追加

露光時における炭化珪素への光の入射が防止され、露光工程のパターン露光時における反射光による光量変動を回避して安定した露光を可能とする。 - 特許庁

Based on the exposure value at a non-emission of light and that at emission of the reserve light, the exposure estimator 52 refers to an exposure value estimation data table TB to exactly estimate the exposure value at emission of the regular light.例文帳に追加

露出値予測部５２は、非発光時の露出値及び予備発光時の露出値に基づいて、露出値予測データテーブルＴＢを参照し、本発光時の露出値を正確に予測する。 - 特許庁

The exposure device 1 is provided with an exposure light source 11, a condenser lens 14, and a mask 12, and the exposure light emitted from the exposure light source 11 is made to transmit the condenser lens 14 and the mask 12.例文帳に追加

露光装置１には、露光光源１１、コンデンサレンズ１４、マスク１２が設けられており、露光光源１１から出射した露光光をコンデンサレンズ１４及びマスク１２に透過させる。 - 特許庁

When the CCD of the video camera performs exposure, the video light emits light, and when it does not perform the exposure, the video light is turned off.例文帳に追加

そこで、ビデオカメラのＣＣＤが露出している時は、ビデオライトを発光し、露出していない時は、ビデオライトを消灯する。 - 特許庁

Intensity of exposure light irradiated from an exposure light irradiating device 30 is detected while temperature of each semiconductor light-emitting element 42 is detected.例文帳に追加

露光光照射装置３０から照射される露光光の強度を検出すると共に、各半導体発光素子４２の温度を検出する。 - 特許庁

To provide a light quantity adjusting device realizing optimum exposure resolution by continuously changing light transmittance and an exposure device equipped with the light quantity adjusting device.例文帳に追加

光透過率を連続的に変化させ、最適露光分解能を実現する光量調節装置および該装置を備える露光装置を提供する。 - 特許庁

Then, based on the exposure value of the exposure light radiated on the substrate, light quantity distribution of the long wavelength light radiated on the substrate is measured.例文帳に追加

そして、前記基板に照射された露光光の露光量に基づいて、前記基板に照射された長波長光の光量分布を測定する。 - 特許庁

LASER DEVICE, EXCIMER LASER DEVICE, LIGHT IRRADIATION DEVICE, EXPOSURE DEVICE, LIGHT GENERATION METHOD, LIGHT IRRADIATION METHOD, EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

レーザ装置、エキシマレーザ装置、光照射装置及び露光装置、並びに光発生方法、光照射方法、露光方法及びデバイス製造方法 - 特許庁

To provide an optical print head capable of performing light exposure by each light emitting element with a required amount of light exposure.例文帳に追加

各発光素子による露光を所望の露光量で行うことができる光プリントヘッドを提供する。 - 特許庁

The luminosity of the LED light source is adjusted to obtain appropriate exposure, corresponding to the length of an exposure period TL when the LED light source emits light.例文帳に追加

ＬＥＤ光源の発光する露光期間Ｔ_Lの長さに対応して、適切な露出が得られるようにＬＥＤ光源の光度を調整する。 - 特許庁

A first optical unit 19 is provided on a light path of an exposure light EL output from an exposure light source.例文帳に追加

露光光源から出力された露光光ＥＬの光路には、第１光学ユニット１９が設けられている。 - 特許庁

EXPOSURE MASK FOR NEAR-FIELD LIGHT, ITS PRODUCTION, EXPOSURE DEVICE FOR NEAR-FIELD LIGHT AND EXPOSING METHOD USING NEAR-FIELD LIGHT例文帳に追加

近接場光露光マスク及びその製造方法並びに近接場光露光装置及び近接場光露光方法 - 特許庁

LASER DEVICE, LIGHT IRRADIATION DEVICE, EXPOSURE DEVICE, METHOD FOR GENERATING LIGHT, METHOD FOR IRRADIATING LIGHT, EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

レーザ装置、光照射装置及び露光装置、並びに光生成方法、光照射方法、露光方法及びデバイス製造方法 - 特許庁

The phase of the exposure light passing through the halftone light shielding film 2 differs by 180° from the phase of the exposure light passing through the opening 2a.例文帳に追加

ハーフトーン遮光膜２を透過した露光光の位相は開口部２ａを透過した露光光の位相と１８０°異なる。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and an exposure method that suppress the change of exposure light intensity and uniformly perform pattern exposure while extending the lives of semiconductor light-emitting elements and also reducing power consumption when a substrate is exposed by exposure light generated from multiple semiconductor light-emitting elements.例文帳に追加

複数の半導体発光素子から発生した露光光により基板を露光する際、半導体発光素子の寿命を延ばし、また消費電力を抑えながら、露光光の強度の変化を抑制して、パターンの露光を均一に行う。 - 特許庁

To correctly calculate the quantity of light emitted from a light emitting element in an exposure head for performing the light exposure using the light emitted from the light emitting element and an image forming apparatus using the exposure head concerned.例文帳に追加

発光素子からの光を用いて露光を行う露光ヘッドおよび当該露光ヘッドを用いた画像形成装置において、発光素子から発光される光の光量を正確に求める。 - 特許庁

The exposure method includes a liquid immersion exposure treatment in which a photosensitive film on a substrate is exposed to a first exposure light through a liquid.例文帳に追加

露光方法は、液体を介して基板上の感光膜を第１露光光で露光する液浸露光処理を含む。 - 特許庁

When the exposure amount of light is a greater second exposure amount than the first exposure amount, the opening 46 penetrates through the photoresist 43.例文帳に追加

光の露光量が第１露光量より大きい第２露光量である場合、開口部４６はフォトレジスト４３を貫通する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal photomask for an exposure device excellent in transmission efficiency and cutoff efficiency for light, the exposure device, and an exposure method.例文帳に追加

光の透過効率や遮断効率が優れた露光装置用液晶フォトマスク並びにこれを用いた露光装置及び露光方法を提供すること。 - 特許庁

PROXIMITY EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE LIGHT EMITTING METHOD OF PROXIMITY EXPOSURE APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF DISPLAY PANEL SUBSTRATE例文帳に追加

プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - 特許庁

To improve exposure accuracy by reducing the influences of vibration of an illumination optical system during exposure on a light exposure main part.例文帳に追加

露光中の照明光学系の振動が、露光本体部に与える影響を軽減して、露光精度の向上を図る。 - 特許庁

In a first exposure step, normal exposure is carried out by vertically irradiating an exposure mask 29 with light transmitted through a photomask 38.例文帳に追加

第１回目の露光工程においては、フォトマスク３８を透過した光を露光用マスク２９に垂直に照射して通常の露光を行う。 - 特許庁

METHOD OF EVALUATING LIGHT SOURCE OF EXPOSURE APPARATUS, METHOD OF DESIGNING ILLUMINATION GEOMETRY OF EXPOSURE APPARATUS, AND SOFTWARE FOR OPTIMIZING ILLUMINATION GEOMETRY OF EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

露光装置の光源評価方法、露光装置の照明形状設計方法、及び露光装置の照明形状最適化ソフトウェア - 特許庁

To provide an exposure apparatus that can appropriately shield a non-exposure area from light when pattern exposure is carried out by relatively moving a substrate and a mask.例文帳に追加

基板とマスクとを相対移動させることでパターン露光を行う際に、非露光領域を適切に遮光できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a laser exposure device for achieving higher definition exposure by converting a semiconductor laser into a light source more suitable for high definition exposure.例文帳に追加

半導体レーザを高精細露光に適した光源に変換し、より高精細な露光を可能とするレーザ露光装置を提供する。 - 特許庁

To obtain an electronic camera capable of varying exposure sensitivity which has exposure close to proper exposure in a state that the light quantity of a flash device is short.例文帳に追加

閃光装置の光量が不足する状況で適正露出に近づけるようにした露光感度可変の電子カメラを得る。 - 特許庁

To provide a light source for exposure which achieves exposure according to a resist layer and has a long product lifetime, and to provide an exposure apparatus that uses the same.例文帳に追加

レジスト層に応じた露光が可能で、しかも、製品寿命の長い露光用光源ならびにこれを用いた露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure system capable of maintaining exposure accuracy and measurement accuracy by preventing a liquid filled in an optical path space of an exposure light from flowing out.例文帳に追加

露光光の光路空間に満たされた液体の流出を抑え、露光精度及び計測精度を維持できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device which can suppress a quantity of light variation of a condensing spot on an exposure face while a focal depth allowed for exposure is secured.例文帳に追加

露光に許容される焦点深度を確保しつつ露光面上での集光スポットの光量変動を抑制することのできる露光装置を得る。 - 特許庁

Thus, the exposure time of the data imprinting at the time of performing exposure once is set to be longer than the exposure time of object light.例文帳に追加

このため、１回の露光時におけるデータ写し込みの露光時間が被写体光の露光時間よりも長くなる。 - 特許庁