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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > light-exposureに関連した英語例文

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light-exposureの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 5304



例文

LIGHT SOURCE UNIT, ILLUMINATION OPTICAL DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

光源ユニット、照明光学装置、露光装置および露光方法 - 特許庁

EXPOSURE APPARATUS, LIGHT SOURCE DEVICE THEREFOR, AND ADJUSTING METHOD OF THE EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

露光装置用光源装置、露光装置及び露光装置の調整方法 - 特許庁

This liquid immersion system is used for liquid immersion exposure exposing a substrate with exposure light.例文帳に追加

液浸システムは、露光光で基板を露光する液浸露光に用いられる。 - 特許庁

LIGHT SOURCE APPARATUS, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

光源装置、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法 - 特許庁

例文

To substantially avoid distribution of actual exposure light quantity in an overlapping exposure region becoming lower than that of a required exposure light quantity, due to a diffracted light produced in a light quantity reducing region, when unit exposure regions are each subjected to exposure.例文帳に追加

各単位露光領域への露光に際して重複露光領域における実際の露光光量の分布が減光領域で発生する回折光に起因して所望の分布よりも低下することを実質的に回避する。 - 特許庁


例文

When an exposure process is carried out, exposure light is made to penetrate through the adjusting filter, before the mask is irradiated with the exposure light projected from an exposure light source, whereby the mask can be irradiated with the exposure light that becomes uniform in illuminance.例文帳に追加

露光の際には、露光光から発振した光を、マスクに照射する前に、この調節フィルタに通過させ、これにより、照度むらを抑えた露光光が照射されるようにする。 - 特許庁

To provide a proximity exposure apparatus and a proximity exposure method in which a light source prior to exposure is stabilized, thereby, preventing exposure unevenness and achieving exposure with high accuracy in an exposure apparatus and an exposure method.例文帳に追加

露光装置及び露光方法において、露光直前の光源を安定させることにより、露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる近接露光装置及びその近接露光方法を提供することにある。 - 特許庁

MASK FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE, MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT EXPOSURE, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

極限紫外線露光用マスク、極限紫外線露光用マスクブランク、およびパターン転写方法 - 特許庁

LIGHT EXPOSURE CALCULATING METHOD AND MEDIUM WITH LIGHT EXPOSURE CALCULATING PROGRAM RECORDED例文帳に追加

露光量算出方法及び露光量算出プログラムを記録した媒体 - 特許庁

例文

To enable maskless exposure in an exposure pattern forming apparatus having a light source array and an exposure apparatus provided with the exposure pattern forming apparatus.例文帳に追加

光源アレイを有する露光パターン形成装置及びその露光パターン形成装置を備えた露光装置において、マスクレス露光を可能とする。 - 特許庁

例文

Each of first exposure and second exposure is performed by scanning exposure of an exposure head 16 emitting a plurality of light beams.例文帳に追加

第1露光及び第2露光のそれぞれを、複数の光ビームを照射する露光ヘッド16の走査露光によって行う。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of maintaining exposure precision in exposure by irradiating a substrate with exposure light via a projection optical system and liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板に露光光を照射することによって露光するときの露光精度を維持できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of maintaining exposure precision in exposure by irradiating a substrate with exposure light via a projection optical system and liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板に露光光を照射することによって露光するときの露光精度を維持できる露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mirror capable of preventing influence of light having longer wavelength than exposure light in EUV exposure, and an exposure device using the mirror.例文帳に追加

EUV露光において、露光光より長波長の光の影響を防止できるミラーおよびそれを用いた露光装置を提供する。 - 特許庁

The exposure time (exposure shutter opening time) of 1/N about 1/N light exposure, or a light source of illumination of 1/N is used and derived.例文帳に追加

1/N露光量を1/Nの露光時間(露光シャッター開口時間)、あるいは、1/Nの照度の光源を使用して得る。 - 特許庁

The exposure apparatus 11 has the illumination optical apparatus 13 which guides exposure light EL emitted from an exposure light source 12 to a reticle R.例文帳に追加

露光装置11は、露光光源12から出力された露光光ELをレチクルRに導く照明光学装置13を備えている。 - 特許庁

The exposure head has a light emitting part for low-luminance exposure Ha1 and a light emitting part for high-luminance exposure Ha2 formed at a flexible substrate.例文帳に追加

露光ヘッドはフレキシブル基板に低輝度露光用発光部Ha1と高輝度露光用発光部Ha2を形成する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and an exposure method capable of performing highly accurate alignment even though EUV light is used as an exposure light source.例文帳に追加

EUV光を露光光源としながらも、高精度なアライメントを行うことができる露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of restraining an outflow of a liquid filled in a light path space of exposure light and maintaining exposure accuracy and measuring accuracy.例文帳に追加

露光光の光路空間に満たされた液体の流出を抑え、露光精度及び計測精度を維持できる露光装置を提供する。 - 特許庁

The exposure device has an exposure light source which projects exposure light, an asymmetric incidence optical element 15 and a driving means 16.例文帳に追加

露光装置は、露光光を出射する露光光源と、非対称入射光学素子15と、駆動手段16とを備えている。 - 特許庁

Exposure is carried out as divided into three steps after each movement is stopper and the quantity of exposure light in each step is controlled to 1/3 of a specified quantity of exposure light.例文帳に追加

露光は各移動の停止後に3段階に分割して行ない、1回の露光量は所定の露光量の1/3とした。 - 特許庁

emitting light during exposure to radiation from an external source 例文帳に追加

外部電源からの放射照射の間発光する - 日本語WordNet

process in which skin pigmentation darkens as a result of exposure to ultraviolet light 例文帳に追加

紫外線への露出で皮膚の色素が暗くなる過程 - 日本語WordNet

the property of substances being that of undergoing chemical change upon exposure to light 例文帳に追加

(物質が)光によって化学変化をおこす性質 - EDR日英対訳辞書

a method of measuring the correct light exposure for a camera, called TTL metering 例文帳に追加

TTL測光という,カメラの適正露光の測定方式 - EDR日英対訳辞書

LASER EXPOSURE DEVICE AND LASER LIGHT SOURCE例文帳に追加

レーザー露光装置及びレーザー光源 - 特許庁

PROJECTION LIGHT EXPOSURE FACILITY PROVIDED WITH PLURAL PROJECTION OBJECTIVE LENSES例文帳に追加

複数の投影対物レンズを備えた投影露光装置 - 特許庁

To excellently and stably maintain exposure light transmissivity.例文帳に追加

露光光透過率を良好にかつ安定して維持する。 - 特許庁

A semiconductor wafer is exposed by 1/N of a required light exposure.例文帳に追加

半導体ウエハを必要露光量の1/Nで露光する。 - 特許庁

To control reflectance even when the wavelength of light for exposure is shortened.例文帳に追加

露光波長が短波長化しても反射率を抑制する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR EXPOSURE DEVICE USING EXTREME ULTRA VIOLET LIGHT例文帳に追加

極端紫外光を用いる半導体露光装置 - 特許庁

EXPOSURE LIGHT SOURCE USING SEMICONDUCTOR LASER例文帳に追加

半導体レーザを用いた露光用光源 - 特許庁

A tone value 0 is a state not to light the exposure pixels.例文帳に追加

階調値0は露光画素を点灯しない状態である。 - 特許庁

HEAT DEVELOPABLE PHOTOSENSITIVE MATERIAL FOR LASER LIGHT EXPOSURE例文帳に追加

レーザー光露光用熱現像感光材料 - 特許庁

LIGHT EMITTING DIODE AND EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

発光ダイオードおよび露光システム - 特許庁

SPATIAL LIGHT MODULATOR, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

空間光変調器、露光装置、及びデバイス製造方法 - 特許庁

MASK FOR EXPOSURE USING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT例文帳に追加

極短紫外光の露光用マスク - 特許庁

LIGHT SHIELDING UNIT, VARIABLE SLIT APPARATUS, AND EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

遮光ユニット、可変スリット装置、及び露光装置 - 特許庁

NARROW-BAND EXCIMER LASER APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR EXPOSURE LIGHT SOURCE例文帳に追加

半導体露光光源用狭帯域エキシマレーザ装置 - 特許庁

HALFTONE DOT IMAGE EXPOSURE APPARATUS AND LIGHT SOURCE DRIVING CIRCUIT例文帳に追加

網点画像露光装置及び光源駆動回路 - 特許庁

LIGHT GENERATION APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

光発生装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 - 特許庁

LIGHT SOURCE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

光源装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

COLLAR LIGHT EMITTING ELEMENT ARRAY, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

カラー発光素子アレイおよび露光装置 - 特許庁

EXPOSURE LIGHT QUANTITY CHANGING METHOD FOR PHOTOGRAPHIC PAPER EXPOSING DEVICE例文帳に追加

印画紙用露光装置の露光光量変更方法 - 特許庁

LIGHT-EMITTING ELEMENT CHIP, EXPOSURE DEVICE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

発光素子チップ、露光装置および画像形成装置 - 特許庁

LIGHT SOURCE APPARATUS AND EXPOSURE SYSTEM HAVING THE SAME例文帳に追加

光源装置及びそれを有する露光装置 - 特許庁

LIGHT SOURCE DEVICE, EXPOSURE SYSTEM, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

光源装置、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

The auxiliary light source K can also be provided at the exposure chamber O.例文帳に追加

補助光源は露光室にも設けることができる。 - 特許庁

LIGHT SOURCE UNIT, LIGHTING SYSTEM, AND SYSTEM AND METHOD FOR EXPOSURE例文帳に追加

光源ユニット、照明装置、露光装置及び露光方法 - 特許庁

例文

LIGHT SOURCE DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

光源装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

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