「light-exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The light exposure parameter deciding device 100 repeats change of the light exposure parameter, and execution of the lithography simulation using the changed light exposure parameter until the evaluation value falls in a predetermined tolerance, and allocates the light exposure parameter to the region.例文帳に追加

露光パラメータ決定装置１００は、前記評価値が所定の許容範囲に含まれるまで、露光パラメータの変更及び変更後の露光パラメータを用いたリソグラフィシミュレーションの実行を繰り返し、当該領域に露光パラメータを割り当てる。 - 特許庁

To restrain exposure light from becoming uneven in illuminance so as to transfer accurate pattern.例文帳に追加

露光光の照度むらを抑えて正確なパターン転写を行う。 - 特許庁

LIGHT SOURCE DEVICE FOR EXPOSURE AND EXPOSING DEVICE FOR COLOR CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加

露光用光源装置及びカラー陰極線管の露光装置 - 特許庁

LOGICAL OPERATION CIRCUIT, LIGHT-EMITTING ELEMENT CHIP, EXPOSURE DEVICE AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

論理演算回路、発光素子チップ、露光装置および画像形成装置 - 特許庁

The lithography apparatus exposes a substrate by exposure light through a first liquid.例文帳に追加

露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。 - 特許庁

To image an alignment mark on a wafer using an exposure light source.例文帳に追加

露光光源を利用してウェハのアライメントマークを撮像可能とする。 - 特許庁

The phase shift mask includes: a substrate 2 for transmitting exposure light; a semitransparent film 3 that is disposed on the substrate 2, has a transmittance to exposure light lower than that of the substrate 2, and shifts the phase of the exposure light; and a protective film 5 that covers the surface of the semitransparent film and transmits the exposure light.例文帳に追加

露光光を透過する基板２と、基板２上に設けられ、露光光に対する透過率が基板２よりも低く、露光光の位相をシフトさせる半透明膜３と、半透明膜の表面を覆い、露光光を透過する保護膜５と、を備えたことを特徴とする位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a reflective mask for EUV exposure, which has a light shielding band superior in cleaning resistance, by improving light shielding performance at an overlapping portion of fields of a transfer pattern in EUV exposure to suppress leakage of exposure light, resulting in reduced effect of shadowing of exposure light, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ＥＵＶ露光における転写パターンのフィールドの重なり部分の遮光性を高めて露光光の漏れを抑制し、露光光のシャドーイングの影響を低減し、かつ耐洗浄性に優れた遮光帯を有するＥＵＶ露光用の反射型マスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To facilitate maintenance and adjusting operations for the light source of an illumination device for exposure.例文帳に追加

露光用の照明装置の光源の保守、調整作業を容易にする。 - 特許庁

LIGHT EMITTING ELEMENT, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, EXPOSURE HEAD, AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加

発光素子、発光素子製造方法、露光ヘッド及び画像形成装置 - 特許庁

EXPOSURE DEVICE, LIGHT SOURCE APPARATUS, LEAKAGE DETECTING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

露光装置、光源装置、漏出検出方法及びデバイスの製造方法 - 特許庁

To provide an exposure method and apparatus which can increase light efficiency.例文帳に追加

光効率が向上される露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

A shutter member 23 is disposed between the exposure unit and a light source.例文帳に追加

露光ユニットと光源との間にシャッタ部材２３を設ける。 - 特許庁

LIGHT SOURCE ADJUSTMENT METHOD, EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

光源調整方法、露光方法、及びデバイス製造方法 - 特許庁

EXPOSURE METHOD BY NEAR-FIELD LIGHT AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

近接場光による露光方法及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

The aligner exposes a substrate to exposure light via a first liquid.例文帳に追加

露光装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する。 - 特許庁

PULSED LIGHT DETECTING DEVICE, OPTICAL INSPECTION DEVICE AND EXPOSURE DEVICE USING SAME例文帳に追加

パルス光検出装置、これを用いた光学系検査装置および露光装置 - 特許庁

LIGHT SOURCE UNIT, ILLUMINATION OPTICAL APPARATUS, ALIGNER, AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

光源ユニット、照明光学装置、露光装置および露光方法 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and an image forming program, for reducing misalignment between exposure positions of a first light source for exposure and a second light source for exposure, due to a difference in temperature and for reducing an image failure occurring due to light emission from the second light source for exposure.例文帳に追加

温度差により生じる第１の露光光源と第２の露光光源との露光位置のズレを減少させるとともに、第２の露光光源の発光により生じる画像欠陥を減少させることができる画像形成装置及び画像形成プログラムを提供する。 - 特許庁

LIGHT INTERCEPTING VANE FOR OPTICAL APPARATUS, AND EXPOSURE CONTROL DEVICE WITH SAME例文帳に追加

光学機器用遮光羽根、および、それを備える露光制御装置 - 特許庁

SOFT X-RAY LIGHT SOURCE DEVICE, EUV EXPOSURE DEVICE, AND ILLUMINATING METHOD例文帳に追加

軟Ｘ線光源装置およびＥＵＶ露光装置ならびに照明方法 - 特許庁

INTENSITY BALANCING EXPOSURE FOR SIMULATING COMPLICATED SHAPE OF LIGHT EMITTER例文帳に追加

複雑な発光体形状を模擬するための強度平衡露光 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK FOR EXPOSURE TO LIGHT, AND MASK-MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクパターン補正方法、露光用マスクおよびマスク製造方法 - 特許庁

CALCULATION PROGRAM OF EFFECTIVE LIGHT SOURCE, EXPOSURE METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

有効光源の算出プログラム、露光方法並びにデバイス製造方法 - 特許庁

Then, the resist layer 93 is partially irradiated with light (an exposure process).例文帳に追加

次に、レジスト層９３に部分的に光を照射する（露光工程）。 - 特許庁

LIGHT SHIELDING UNIT, ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

遮光ユニット、照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING REFLECTION-TYPE PHASE SHIFT MASK FOR EUV LIGHT EXPOSURE例文帳に追加

ＥＵＶ露光用反射型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

EXPOSURE DEVICE AND ILLUMINATION LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION MEASURING DEVICE THEREOF例文帳に追加

露光装置の照明光強度分布測定装置、及び露光装置 - 特許庁

LIGHT AMOUNT MEASURING DEVICE, EXPOSURE SYSTEM AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

光量計測装置、露光装置、およびデバイスの製造方法 - 特許庁

LIGHT EMITTING DEVICE, ITS MANUFACTURING METHOD, EXPOSURE DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

発光装置、発光装置の製造方法、露光装置、及び電子機器 - 特許庁

LIGHT GUIDE, ILLUMINATING DEVICE, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ライトガイド、照明装置、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

DISCHARGE LAMP, CONNECTING CABLE, LIGHT-SOURCE DEVICE, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

放電ランプ、接続用ケーブル、光源装置、及び露光装置 - 特許庁

ELECTROPHOTOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR CORRECTING QUANTITY OF LIGHT OF EXPOSURE MEANS例文帳に追加

電子写真装置および露光手段の光量補正方法 - 特許庁

Further, multiplex exposure is performed by causing the preliminary row Ld to emit light.例文帳に追加

また、予備列の発光素子列Ｌｄを発光させて多重露光を行う。 - 特許庁

EXPOSURE FRAME COUNTER AND SPATIAL LIGHT MODULATION ELEMENT USED FOR IT例文帳に追加

露光フレームカウンタ及びこれに用いられる空間光変調素子 - 特許庁

The exposure apparatus EX has a controller 16 for controlling the light source 1.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、光源１を制御する制御部１６を備える。 - 特許庁

DRIVE APPARATUS, LIGHT EXPOSURE DEVICE USING THE SAME, METHOD OF MANUFACTURING THE DEVICE例文帳に追加

駆動装置、それを用いた露光装置、デバイスの製造方法 - 特許庁

The stepper exposes the substrate to exposure light via a liquid.例文帳に追加

露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。 - 特許庁

ELECTRIC DISCHARGE LIGHT SOURCE UNIT, LIGHTING OPTICAL DEVICE, ALIGNER, AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

放電光源ユニット、照明光学装置、露光装置および露光方法 - 特許庁

The density adjustment data is the number of reference clocks corresponding to the light exposure.例文帳に追加

濃度調整データは露光時間に応じた基準クロック数である。 - 特許庁

LINE LIGHT PRODUCTION UNIT AND ALL-ROUND EXPOSURE TYPE MARKING DEVICE例文帳に追加

ライン光生成ユニットおよび全周照射型墨出し器 - 特許庁

LIGHT VOLUME CONTROLLER, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

光量調整装置、露光装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

LIGHT SHIELDING UNIT, ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

遮光ユニット、照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 - 特許庁

JUDGEMENT OF POSITION ACCURACY OF DOUBLE EXPOSURE LITHOGRAPHY USING LIGHT MEASUREMENT例文帳に追加

光計測を用いた二重露光リソグラフィの位置精度判断 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR EXPOSURE, LIGHT SOURCE DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

露光装置及び露光方法、光源装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁