「light-exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

An LD exposure section 114 drives a laser diode of a light source for the laser beam according to the exposure data in synchronism with a pixel clock signal.例文帳に追加

ＬＤ露光部１１４は、画素クロック信号に同期して、露光データに従いレーザビームの光源であるレーザダイオードを駆動する。 - 特許庁

The light source control device 2 controls the power to the mercury lamp 1, so that the illuminance of the mercury lamp 1 during non-exposure is lower than during exposure.例文帳に追加

光源制御装置２は水銀ランプ１の照度を、非露光時には露光時よりも下げるように水銀ランプ１への投入電力を制御する。 - 特許庁

Pattern exposure is carried out by selectively casting exposure light 103 on a resist film 102 formed on a substrate 101.例文帳に追加

基板１０１上に形成されたレジスト膜１０２に露光光１０３を選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

To provide a master disk which is capable of exactly forming sharp exposure patterns even with exposure light of a short wavelength and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

短波長の露光光でもシャープな露光パターンを正確に形成することができる原盤及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The photosensitive medium is selectively exposed in many exposure chances by an exposure controller 1302 controlling the modulation light source 1206 based on image data.例文帳に追加

露光コントローラ1302は、画像データに基づいて変調光源1206を制御して多数の露光機会に感光媒体を選択的に露光する。 - 特許庁

The exposure device 2 irradiates a photoreceptor drum with light based on the exposure signal and forms an electrostatic latent image.例文帳に追加

露光装置２は、その露光信号に基づいて感光体ドラムに光を照射して静電潜像を形成する。 - 特許庁

To suppress the yellowing of a resin or a composition itself with time or after heat exposure or light exposure in a reactive silicon group-containing urethane-based resin.例文帳に追加

反応性珪素基含有ウレタン系樹脂において、経時、熱暴露あるいは光暴露後の樹脂又は組成物自体の黄変を抑えること。 - 特許庁

To transfer a designated pattern well even when an exposure light over the wavelength of 200 nm is used in an exposure process using a resist mask.例文帳に追加

レジストマスクを用いた露光処理において波長２００ｎｍを越える露光光を用いる場合でも、所定のパターンを良好に転写する。 - 特許庁

To cool an exposure light source without using exhaust gas and to prevent temperature rise in a photomask or a substrate due to exposure.例文帳に追加

露光用の光源を排気を用いずに冷却すると共に，露光によるフォトマスクや基板の温度上昇を防止する。 - 特許庁

To provide a digital camera realizing AF control with appropriate exposure when AF auxiliary light is emitted, and an exposure setting method in performing the AF control.例文帳に追加

ＡＦ補助光発光時、適正露出でＡＦ制御ができるデジタルカメラ及びそのＡＦ制御時の露出設定方法を提供する。 - 特許庁

The 1st lens 12 is irradiated with the parallel light and then uniform exposure is performed over wide area to enable exposure in wafer units.例文帳に追加

前記平行光を第１レンズ１２に照射することで、広い面積にわたって均一な露光が可能となり、ウエハ単位での露光が可能となる。 - 特許庁

The illuminance of exposure light and exposure time are appropriately adjusted to prevent cross-linking reaction from occurring in the bottom surface of the panel 1.例文帳に追加

ここで、露光光の照度や露光時間を適度に調整し、パネル１の底面では架橋反応が起こらないようにする。 - 特許庁

The second resist film 34 in the region B inside the region A is thus subjected to multi-exposure by which the exposure light spreads in the depth direction.例文帳に追加

領域Ａの内側に在る領域Ｂの第２のレジスト膜３４は多重露光され、露光が深さ方向まで行き渡ることになる。 - 特許庁

A resist film 202 is formed on a substrate 201, and the resist film 202 is selectively irradiated with exposure light 203 to carry out pattern exposure.例文帳に追加

基板２０１上にレジスト膜２０２を形成し、形成したレジスト膜２０２に露光光２０３を選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

The crystal element chip 1a is irradiated with exposure light via a photomask 8 for exposure, and thereafter the photoresists R1 to R5 are developed.例文帳に追加

次に、フォトマスク８を介して露光光を照射して露光してから、フォトレジストＲ１〜Ｒ５の現像を行なう。 - 特許庁

When an exposure amount of light is a regular first exposure amount, the opening 46 does not penetrate through the photoresist 43.例文帳に追加

光の露光量が通常の第１露光量である場合、開口部４６はフォトレジスト４３を貫通しない。 - 特許庁

In a direct exposure step, the photoresist film is irradiated with scanned laser light by using a direct exposure machine to be exposed.例文帳に追加

直接露光工程において、直描露光機を用いてレーザ光を走査しながら照射してフォトレジストフィルムの露光を行う。 - 特許庁

The exposure apparatus exposes the substrate with the exposure light from the emission surface through the first liquid between the emission surface and the surface of the substrate.例文帳に追加

露光装置は、射出面と基板の表面との間の第１液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する。 - 特許庁

One frame period includes: two exposure periods A, B; one light emission period corresponding to one exposure period B; and three output periods C, A, B.例文帳に追加

１フレーム期間内に、２つの露光期間Ａ，Ｂと、一方の露光期間Ｂに一致する１つの発光期間と、３つの出力期間Ｃ，Ａ，Ｂを設ける。 - 特許庁

To suppress degradation in the optical property of the optical member of an exposure caused by scattered particles, even if scattered particles occur from a light source for exposure.例文帳に追加

露光光源から飛散粒子が発生するような場合であっても、その飛散粒子による露光装置の光学部材の光学特性の劣化を抑える。 - 特許庁

To prevent an exposure window for permeating light from an original which passes an exposure position from getting dirty in an original reader for reading images on a moving original.例文帳に追加

移動する原稿の画像を読み取る原稿読取装置において、露光位置を通過する原稿からの光を透過する露光窓の汚れを防止する。 - 特許庁

The cleaning device cleans a prescribed member in an exposure device which exposes a substrate to exposure light through a liquid.例文帳に追加

クリーニング装置は、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置内の所定部材をクリーニングする。 - 特許庁

EVALUATION METHOD OF LIGHT INTENSITY DISTRIBUTION, ILLUMINATION OPTICAL DEVICE, ITS ADJUSTMENT METHOD, EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

光強度分布の評価方法、照明光学装置およびその調整方法、露光装置、および露光方法 - 特許庁

Further, the exposure of the resin is performed while the object lens 34 which is an irradiation source of the exposure light is fixed to a substrate.例文帳に追加

また、露光用光の照射源である対物レンズ３４を基体１に固定した状態で露光を行う。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and an exposure printer, which project light with roughly uniform luminance on an entire projection region.例文帳に追加

投影領域の全てに略均一の輝度の光を投影することができる露光装置及び露光印字装置を提供する。 - 特許庁

To reduce the deterioration of the light quantity of exposure beams by efficiently removing substances whose absorption is large from the optical path of exposure beams.例文帳に追加

露光ビームの光路上から吸収の大きい物質を効率的に除去して、露光ビームの光量の低下を抑制する。 - 特許庁

To provide an aligner which has resistance to exposure light and liquid immersion even when exposure to an edge shot is performed.例文帳に追加

エッジショットの露光を行っても、露光光及び液浸水に耐性のある露光装置を提供する。 - 特許庁

To obtain an exposure device and image forming apparatus which can maintain the exposure amount even if the quantity of light falls off due to the deterioration of the first emission section.例文帳に追加

第１の発光部の劣化により光量が低下しても露光量を維持することができる露光装置及び画像形成装置を得る。 - 特許庁

The exposure apparatus includes a suction opening 12 formed on an outer side of a recovery opening 22 relative to the optical path space of the exposure light for sucking only gas.例文帳に追加

露光光の光路空間に対して前記回収口２２の外側に設けられ、気体のみを吸引する吸引口１２とを備えている。 - 特許庁

Oil immersion exposure is realized by making the exposure light reach the image surface side excellently through the projection optical system and the liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して露光光を像面側まで良好に到達させて、液浸露光を実現する。 - 特許庁

To accelerate an exposure speed by using a spatial light modulation means with a fast response speed and having an ultraviolet ray resistance, thereby reducing man-hours of exposure processes.例文帳に追加

応答速度が速く紫外線耐性を有する空間光変調手段を使用して露光速度を速くし、露光工程の工数を削減する。 - 特許庁

A mask and the wafer are synchronously moved for exposure light, and the pattern image of the mask is projected onto the wafer for exposure.例文帳に追加

露光光に対してマスクと基板とを同期移動させて、マスクのパターン像を投影光学系を介して基板に露光する。 - 特許庁

To perform a plurality of exposures, having different methods such as two-light flux interference exposure, ordinary exposure, etc.例文帳に追加

二光束干渉露光と通常露光など、方式の異なる複数の露光を短時間で実行可能にする。 - 特許庁

To prevent unnecessary exposure to a wafer except during an exposure and reduce thermal stresses on a shutter and a light source.例文帳に追加

露光時以外のウエハへの不要な露光を防ぐとともに、シャッタや光源への熱ストレスを軽減する。 - 特許庁

To provide an exposure system and an exposure method capable of correcting a light volume precisely without complicating a control circuit.例文帳に追加

制御回路を複雑化することなく、精度よく光量補正を行うことができる露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

If a release button is fully pressed, an exposure timer is set according to a light measuring value and an exposure condition, and timer measuring starts (S113).例文帳に追加

レリーズ釦を全押しすると、測光値と露出条件に応じて露出タイマーを設定し、タイマー計時を開始する（Ｓ１１３）。 - 特許庁

The electronic flash light emission is performed in response to the fully depressing operation of the shutter button, and the exposure for a subject is started when the exposure start time elapses.例文帳に追加

シャッタボタンの全押し操作に応答してストロボ発光が行われ、露光開始時間が経過したときに被写体の露光を開始する。 - 特許庁

Based on the relevant amount of exposure correction, the light exposure to the substrate transferred through the each transferring path is calculated.例文帳に追加

当該露光補正量に基づいて、各搬送経路を搬送される基板に対する露光量が算出される。 - 特許庁

The image forming device 10 permits an optional change of an exposure ratio between adjacent light beams by a double exposure scan.例文帳に追加

画像形成装置１０では、二重露光走査により隣接する光ビームの互いの露光量比を任意に変更可能とされている。 - 特許庁

As a result, the stagger of the exposure surface of the paper 3 in the optical axis direction of the light beams in the exposure position is prevented.例文帳に追加

これにより、露光位置でペーパ３の露光面が光ビームの光軸方向にふらつくのが防止される。 - 特許庁

To provide an edge exposure system that can perform good exposure on the edge of a substrate by exposing the edge to the light having a uniform intensity distribution.例文帳に追加

基板の端縁部を均一な光強度分布で露光して良好なエッジ露光処理を実施することができるエッジ露光装置を提供する。 - 特許庁

To improve image quality by stabilizing exposure intensity in a photographic processing device to perform exposure with light whose intensity is modulated.例文帳に追加

強度変調した光によって露光を行う写真処理装置において、露光強度を安定化させて画質の向上を図る。 - 特許庁

To provide a method for controlling the exposure for improving exposure control accuracy at exposing by using a pulse light source.例文帳に追加

パルス光源を用いて露光を行う場合の露光量制御精度を向上できる露光量制御方法を提供する。 - 特許庁

The belt-like workpiece W wound around an unwinding reel 1 is fed to an exposure part 3 through a sagging part A1 or the like, and irradiated with exposure light to be exposed.例文帳に追加

巻き出しリール１に巻かれた帯状ワークＷは、たるみ部Ａ１等を経て露光部３に送られ、露光光が照射されて露光される。 - 特許庁

An exposure mechanism 104 is mounted in the vacuum chamber 102, and the optical system of the exposure mechanism 104 is regulated by using visible light.例文帳に追加

そして、露光機構部１０４を真空チャンバ１０２内に載置し、可視光を使用して露光機構部１０４の光学系の調整を行う。 - 特許庁